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Method Article
介绍了在狭缝孔几何中创建和成像毛细金桥的程序。毛细管桥的创建依赖于柱子的形成,以提供定向物理和化学异质性来固定流体。 毛细金桥使用微舞台形成和操作,并使用 CCD 摄像机进行可视化。
介绍了在狭缝孔几何中创建和成像毛细金桥的程序。高纵横比疏水柱被制造和功能化,使其顶部表面亲水。物理特征(柱子)与化学边界(柱子顶部的亲水膜)的结合提供了物理和化学异质性,固定三重接触线,这是创建稳定长而窄的毛细管桥的必要特征。带有柱子的基板连接到玻璃滑梯上,并固定在定制支架上。然后,将支架安装在四轴微台上,并定位柱子并行并朝对方。毛细细金桥是在两个基材之间的间隙中引入流体形成的,一旦面柱之间的分离减少到几百微米。然后使用自定义微舞台来改变毛细细桥的高度。CCD 摄像机定位为毛细细桥的长度或宽度,以描述流体界面的形态。宽度低至250μm,长度可达70毫米的柱子是用这种方法制造的,导致毛细桥的纵横比(长度/宽度)超过1001。
毛细细桥的形状和产生的力的研究一直是广泛研究的主题2-7。最初,由于其简单性,大多数努力都集中在轴对称毛细桥上。毛细管桥通常发生在自然系统中,例如在颗粒和多孔介质8,9中发现的桥和用于技术应用的桥梁,例如用于翻转芯片技术10-15 的毛细管自组装,与交互表面的非单位式润湿特性不对称。改进的平版印刷技术与简单数值工具的可访问性相结合,可模拟流体接口,从而能够创建和建模日益复杂的毛细细桥。
狭缝孔几何中的毛细管桥提供了一个有趣的妥协:定向润湿特性导致非轴对称桥保留一些对称平面(这简化了分析)。它们作为多孔介质的案例研究,在理论和数字上进行了研究。然而,对狭缝孔几何毛细金桥的系统实验研究受到限制。在这里,我们介绍了一种方法,以创建和描述毛细孔几何毛细桥。简言之,该方法包括1)制造柱子以产生化学和物理异质性;2) 设计微舞台对齐和操纵桥梁;3) 从正面或两侧对毛细管桥进行成像,以描述其形态。桥梁形态的特征,以及表面进化器模拟的比较,在一个单独的出版物1提供。
协议文本分为三个主要部分:1) PDMS (聚二甲基硅氧烷) 柱子的制造,2) 柱子顶部的功能化,以及毛细管桥的形成和特征。
1. PDMS 支柱的制造
本节详细介绍了使用硅/SU-8模具压铸的 PDMS 柱子的制造。
2. 支柱顶部的功能化
这一三步过程首先涉及在硅晶片上蒸发金膜,然后将金膜的印记将16 号光刻传输到 PDMS 柱子上(在第 1 节中制作),最后使用自组装的单层金膜功能化,使其具有亲水性。
注意:为了验证功能化过程是否成功,第 2 步可以在大量 PDMS(无柱子)上执行,并且可以在气压计中测试润湿角度。MHA 金膜应分别具有<15°和+0°的水接触角度。18
3. 毛细金桥的形成和特征
本节详细介绍了如何在两个基材之间引入液态桥,然后通过不同高度和流体体积的成像进行特征描述。
实验装置的描述
实验装置可分为四个主要部分:1)顶部基板阶段,2)底部基板阶段,3)注射器/注射器xyz转换阶段,4)相机/光学和相机支架。每个细节如下:
这里介绍的方法提供了在狭缝孔几何中创建毛细金桥的方法,也是成像这些桥梁的方法,以便分析它们的形态,并将其与模拟和理论进行比较。
该方法结合了物理缓解和选择性化学模式,以创建不对称的润湿特性。如果只存在化学异质性,液体滴将保持在异质性上,直到接触角度超过湿度较低的(低表面能量)区域。当 PDMS 是低表面能量区域时,亲水/疏水边界的最大可实现?...
作者没有什么可透露的。
作者感谢国家科学基金会在"第1号赠款"下给予的支持。CMMI-00748094和 ONR N000141110629。
Name | Company | Catalog Number | Comments |
99.999% Gold wire | Kurt J. Lesker | EVMAU40040 | |
Acetone | Pharmco-AAPER | C1107283 | |
Dimethyl sulfoxide | Fisher | D128-500 | |
Ethanol (200 proof) | Pharmco-AAPER | 111000200 | |
Hydrochloric acid | EMD | HX0603-4 | |
Hydrogen peroxide (30%) | EMD | HX0635-3 | |
Isopropyl alcohol | Fisher | L-13597 | |
Mercapto hexadecanoic acid (90%) | Sigma-Aldrich | 448303-1G | |
Mercapto-propyl-trimethoxy-silane (MPTS) | Gelest | Sim6476-O-100GM | |
Milli-Q DI water | Millipore | Milli-Q | |
Nitrogen (gas) | Airgas | UN1066 | |
Oxygen (gas) | Airgas | UN1072 | |
Silicon wafers (4 in) | WRS Materials | CC8506 | |
SU-8 2002 (negative photo resist) | MicroChem | SU82002 | |
SU-8 2050 (negative photoresist) | MicroChem | SU82050 | |
SU-8 Developer solution | MicroChem | Y020100 4000L1PE | |
Sulfuric acid | J.T. Baker | 9681-03 | |
Poly dimethy sulfoxide (PDMS) | Dow Corning | Sylgard -184 | |
Toluene | Omnisolv | TX0737-1 |
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