聚焦 Ion 光束
Overview
资料来源:西娜·沙赫巴兹莫哈马迪和佩曼·沙赫贝吉-鲁德波什蒂-鲁德波什蒂，康涅狄格大学工程学院，斯托尔斯，CT
随着电子显微镜在研究实验室中变得越来越复杂和广泛，引入其功能就变得更加必要。聚焦式电离束 （FIB） 是一种仪器，可用于在纳米电子到医学等广泛领域制造、修剪、分析和表征纳米尺度上的材料。FIB 系统可被视为一束离子，可用于在微尺度和纳米尺度上铣削（溅射）、沉积和图像材料。FIB 的电柱通常与扫描电子显微镜 （SEM） 的电子柱集成。
本实验的目的是介绍聚焦子束技术中的技术，并展示如何使用这些仪器来制造与人体中最小的膜一样小的结构。
Procedure
1. 从300nm厚的硅氧化物膜中制造穿孔过滤器，其规模与肾脏内皮细胞质相当
- 将制备的膜装入 FIB 室。膜通常由专业人员（在创建惠斯通桥时）制备，可在半导体制造现场获取。要自己准备一个，必须使用光刻。这个过程的细节可以在JoVE网站上的"生物工程集"的光刻视频中看到。注:在处理样品时或与 FIB/SEM 的任何内部组件接触时，请务必佩戴硝化手套。环境必须保持非常清洁，没有任何皮肤油。
- 打开聚焦的电束和电子枪，调整样品以达到重合中心点。这是感兴趣区域（膜）位于电子和离子线中的点，倾斜角度范围为 0-54 度。
- 将 FIB 的电束电流和加速电压调整到 30kV 和 100pA，并聚焦于靠近要铣削的区域。通过直径约 50nm 的 FIB 铣削程序绘制一个圆矩阵，中心到中心的距离为 150nm（参见图 1）。
- 以 5kV 的加速电压更改为电子束并成像区域。
Application and Summary
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