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In questo articolo

  • Riepilogo
  • Abstract
  • Introduzione
  • Protocollo
  • Risultati Rappresentativi
  • Discussione
  • Divulgazioni
  • Riconoscimenti
  • Materiali
  • Riferimenti
  • Ristampe e Autorizzazioni

Riepilogo

Il manoscritto descrive un protocollo per lo sputtering magnetron a radiofrequenza di film sottili termoelettrici Bi2Te3 e Sb2Te3 su substrati di vetro, che rappresenta un metodo di deposizione affidabile che fornisce una vasta gamma di applicazioni con il potenziale per un ulteriore sviluppo.

Abstract

Attraverso vari studi sui materiali termoelettrici (TE), la configurazione a film sottile offre vantaggi superiori rispetto ai TE sfusi convenzionali, inclusa l'adattabilità a substrati curvi e flessibili. Sono stati esplorati diversi metodi di deposizione di film sottili, ma lo sputtering del magnetron è ancora favorevole grazie alla sua elevata efficienza di deposizione e scalabilità. Pertanto, questo studio mira a fabbricare un film sottile di tellururo di bismuto (Bi2Te3) e tellururo di antimonio (Sb2Te3) tramite il metodo di sputtering del magnetron a radiofrequenza (RF). I film sottili sono stati depositati su substrati di vetro sodico-calcico a temperatura ambiente. I substrati sono stati prima lavati con acqua e sapone, puliti ad ultrasuoni con metanolo, acetone, etanolo e acqua deionizzata per 10 minuti, asciugati con azoto gassoso e piastra riscaldante e infine trattati con ozono UV per 10 minuti per rimuovere i residui prima del processo di rivestimento. È stato utilizzato un bersaglio sputter di Bi2Te3 e Sb2Te3 con gas Argon ed è stato eseguito il pre-sputtering per pulire la superficie del bersaglio. Quindi, alcuni substrati puliti sono stati caricati nella camera di sputtering e la camera è stata aspirata fino a quando la pressione non ha raggiunto 2 x 10-5 Torr. I film sottili sono stati depositati per 60 minuti con flusso di Argon di 4 sccm e potenza RF a 75 W e 30 W rispettivamente per Bi2Te3 e Sb2Te3. Questo metodo ha portato a film sottili Bi2Te3 di tipo n altamente uniformi e Sb2Te3 di tipo p altamente uniformi.

Introduzione

I materiali termoelettrici (TE) hanno suscitato un notevole interesse da parte della ricerca per quanto riguarda la loro capacità di convertire l'energia termica in elettricità attraverso l'effetto Seebeck1 e la refrigerazione tramite il raffreddamento di Peltier2. L'efficienza di conversione del materiale TE è determinata dalla differenza di temperatura tra l'estremità calda della gamba TE e l'estremità fredda. Generalmente, maggiore è la differenza di temperatura, maggiore è la cifra di merito TE e maggiore è la sua efficienza3. TE funziona senza la necessità di parti mecca....

Protocollo

1. Preparazione del substrato

  1. Pulire i substrati di vetro con un panno privo di lanugine per rimuovere lo sporco o i detriti. Lavare i substrati di vetro con acqua e sapone, utilizzare una spazzola per strofinare lo sporco sul vetro.
  2. Preparare tutti i solventi elencati di seguito in becher, immergere i substrati di vetro nel solvente e sonicare di conseguenza a 37 kHz. Preparare il metanolo a 80 °C per 10 min; acetone a 80 °C per 10 min, etanolo a 80 °C per 10 min, acqua distillata (DI) a 80 °C per 20 min.
    ATTENZIONE: Maneggiare sostanze chimiche altamente volatili in una cappa aspirante.
  3. Estrarre i substrati dal beche....

Risultati Rappresentativi

Le micrografie in sezione trasversale dei film sottili Bi2Te3 e Sb2Te3 depositati sono state registrate utilizzando FESEM, come mostrato rispettivamente nella Figura 3A e nella Figura 3B. La superficie complessiva del film appare uniforme e liscia. È evidente che i grani cristallini del film sottile Bi2Te3 erano esagonali, conformando la struttura cristallina di Bi2Te3 mentr.......

Discussione

La tecnica presentata in questo documento non presenta difficoltà significative nell'impostazione e nell'implementazione dell'apparecchiatura. Tuttavia, è necessario evidenziare diversi passaggi critici. Come accennato nella fase 2.2.10 del protocollo, una condizione di vuoto ottimale è fondamentale per produrre film sottili di alta qualità con una minore contaminazione, poiché il vuoto rimuove l'ossigeno residuo nella camera37. La presenza di ossigeno può causare crepe nei film chiamate str.......

Divulgazioni

Gli autori non hanno nulla da rivelare.

Riconoscimenti

Gli autori desiderano riconoscere il sostegno finanziario della sovvenzione di ricerca dell'Universiti Kebangsaan Malaysia: UKM-GGPM-2022-069 per svolgere questa ricerca.

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Materiali

NameCompanyCatalog NumberComments
AcetoneChemiz (M) Sdn. Bhd.1910151Liquid, Flammable
Antimony Telluride, Sb2Te3China Rare Metal Material Co.,LtdC120222-0304Diameter 50.8 mm, Thickness 6.35 mm, 99.999% purity
Bismuth Telluride, Bi2Te3China Rare Metal Material Co.,LtdCB151208-0501Diameter 50.8 mm, Thickness 4.25 mm, 99.999% purity
EthanolChemiz (M) Sdn. Bhd.2007081Liquid, Flammable
Field Emission Scanning Electron MicroscopeZeissMERLINEquipped with EDX
Hall effect measurement systemAseptec Sdn. Bhd.HMS ECOPIA 3000-
Handheld digital multimeterProkits Industries Sdn. Bhd.303-150NCS-
HMS-3000Aseptec Sdn Bhd.HMS ECOPIA 3000Hall effect measurement software
Linseis_TALinseis Messgeräte GmbHLSR-3Linseis thermal analysis software
MethanolChemiz (M) Sdn. Bhd.2104071Liquid, Flammable
RF-DC magnetron sputteringKurt J. Lesker Company-Customized hybrid system
Seebeck coefficient measurement systemLinseis Messgeräte GmbHLSR-3-
SmartTiffCarl Zeiss Microscopy Ltd-SEM image thickness measurement software
Ultrasonic bathFisherbrandFB15055-
UV ozone cleanerOssila LtdL2002A3-UK-

Riferimenti

  1. Ochieng, A. O., Megahed, T. F., Ookawara, S., Hassan, H. Comprehensive review in waste heat recovery in different thermal energy-consuming processes using thermoelectric generators for electrical power generation. Proc Safety Environ Prot. 162, 134-154 (2022).
  2. Shilpa, M. K., et al.

Ristampe e Autorizzazioni

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IngegneriaNumero 207

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