JoVE Logo
Faculty Resource Center

Sign In

A subscription to JoVE is required to view this content. Sign in or start your free trial.

Abstract

Engineering

Токопроводящее Изготовление, используя технику сфокусированного ионного пучка и характеристик для Электрические слоя полупроводниковых наноструктур

Published: December 5th, 2015

DOI:

10.3791/53200

1Graduate Institute of Applied Science and Technology, National Taiwan University of Science and Technology, 2Department of Electronic Engineering, National Taiwan University of Science and Technology

Слоистых полупроводников с легкостью переработки двумерных (2D) структур проявляют косвенные к прямой запрещенной зоны переходов и высокую производительность транзисторов, которые предлагают новое направление для развития следующего поколения сверхтонких и гибких фотонных и электронных устройств. Улучшенная люминесценции квантовая эффективность была широко наблюдается в этих тонких атомно 2D кристаллов. Тем не менее, измерения эффектов за пределами квантовой толщины заключение или даже в масштабе микрометра не ожидается и редко наблюдается. В этом исследовании, молибден Диселенид (MoSe 2) слой кристаллов с толщиной от 6-2,700 нм, изготовленной, как двух- или четырех-терминальных устройств. Формирование Токопроводящее успешно достигается сфокусированного ионного пучка (FIB) методом осаждения с использованием платины (Pt) в качестве контактного металла. Слой кристаллы с различными толщинами были подготовлены с помощью простого механического пилинга с помощью перетасовки ленту. Проводились измерения ВАХTS были выполнены, чтобы определить значение проводимости слоя нанокристаллов. Кроме того, высокое разрешение просвечивающая электронная микроскопия, выбран зоны электронов дифрактометрии и энергии рентгеновский спектроскопии используется для характеристики интерфейс контакте металл-полупроводник из FIB быстровозводимых MoSe 2 устройств. После применения подходов, наблюдалось значительное толщины зависит электропроводность в широком диапазоне толщин для слойной полупроводника MoSe 2. Проводимость увеличился более чем на два порядка от 4,6 до 1500 Ω - 1 см - 1, с уменьшением толщины с 2700 до 6 нм. Кроме того, в зависимости от температуры электропроводности показали, что тонкие многослойные Мёсе 2 выставлены значительно слабый полупроводниковый поведение с энергией активации мэВ 3.5-8.5, которые значительно меньше, чем (36-38 мэВ) основной массы. Пробадаемых поверхностно-доминантные свойства транспорта и наличие концентрации электронов высокой поверхностной в Мёсе 2 предлагается. Аналогичные результаты могут быть получены и для других полупроводниковых слой материалов, таких как MoS 2 и WS 2.

Explore More Videos

106

This article has been published

Video Coming Soon

JoVE Logo

Privacy

Terms of Use

Policies

Research

Education

ABOUT JoVE

Copyright © 2024 MyJoVE Corporation. All rights reserved