झरझरा और ठोस सिलिकॉन वेफर्स की धातु-सहायता प्राप्त इलेक्ट्रोकेमिकल नैनोइम्प्रिंटिंग

धातु-सहायता प्राप्त इलेक्ट्रोकेमिकल इम्प्रिंटिंग (मैक-इम्प्रिंट) धातु-सहायता प्राप्त रासायनिक नक़्क़ाशी (MACE) और नैनोइम्प्रिंट लिथोग्राफी का एक संयोजन है जो मोनोक्रिस्टलाइन समूह IV (जैसे, Si) और III-V (जैसे, GaAs) में 3 D माइक्रो- और नैनोस्केल विशेषताओं को सीधे पैटर्निंग करने में सक्षम है, बलिदान टेम्पलेट्स और लिथोग्राफिकल चरणों की आवश्यकता के बिना अर्धचालक। इस प्रक्रिया के दौरान, एक महान धातु उत्प्रेरक के साथ लेपित एक पुन: प्रयोज्य टिकट को एक हाइड्रोफ्लोरिक एसिड (एचएफ) और हाइड्रोजन पेरोक्साइड (एच ₂ ओ ₂) मिश्रण की उपस्थिति में एक सी वेफर के संपर्क में लाया जाता है, जो धातु-अर्धचालक संपर्क इंटरफ़ेस पर सी के चयनात्मक नक़्क़ाशी की ओर जाता है। इस प्रोटोकॉल में, हम दो मैक-इम्प्रिंट कॉन्फ़िगरेशन में लागू स्टांप और सब्सट्रेट तैयारी विधियों पर चर्चा करते हैं: (1) एक ठोस उत्प्रेरक के साथ झरझरा सी मैक-छाप; और (2) एक झरझरा उत्प्रेरक के साथ ठोस सी मैक-छाप. यह प्रक्रिया उच्च थ्रूपुट है और उप-20 एनएम रिज़ॉल्यूशन के साथ सेंटीमीटर-स्केल समानांतर पैटर्निंग में सक्षम है। यह एक ही ऑपरेशन में कम दोष घनत्व और बड़े क्षेत्र पैटर्निंग भी प्रदान करता है और गहरी प्रतिक्रियाशील आयन नक़्क़ाशी (DRIE) जैसे सूखे नक़्क़ाशी की आवश्यकता को दरकिनार करता है।