إعداد الجسيمات النانوية لتحليل TOF-SIMS و XPS

اكتسبت الجسيمات النانوية اهتماما متزايدا في السنوات الأخيرة بسبب إمكاناتها وتطبيقها في مجالات مختلفة بما في ذلك الطب ومستحضرات التجميل والكيمياء وإمكاناتها لتمكين المواد المتقدمة. لفهم وتنظيم الخصائص الفيزيائية والكيميائية والآثار السلبية المحتملة للجسيمات النانوية بشكل فعال ، يجب تطوير إجراءات القياس المعتمدة لمختلف خصائص الجسيمات النانوية. وفي حين أن إجراءات قياس حجم الجسيمات النانوية وتوزيع حجمها قد وضعت بالفعل، فإن الأساليب الموحدة لتحليل كيمياء سطحها لم توضع بعد، على الرغم من أن تأثير كيمياء السطح على خصائص الجسيمات النانوية لا جدال فيه. وعلى وجه الخصوص، يؤثر تخزين وإعداد الجسيمات النانوية للتحليل السطحي تأثيرا قويا على النتائج التحليلية المستمدة من أساليب مختلفة، ومن أجل الحصول على نتائج متسقة، يجب تحسين إعداد العينات وتوحيدها على حد سواء. وفي هذا الإسهام، نقدم بالتفصيل بعض الإجراءات المعيارية لإعداد الجسيمات النانوية للتحليلات السطحية. من حيث المبدأ ، يمكن إيداع الجسيمات النانوية على ركيزة مناسبة من التعليق أو كمسحوق. تستخدم رقائق السيليكون (Si) عادة كركيزة ، ومع ذلك ، فإن تنظيفها أمر بالغ الأهمية لعملية التنظيف. لإعداد عينة من التعليق، وسوف نناقش قطرة الصب وتدور الطلاء، حيث ليس فقط نظافة الركيزة ونقاء التعليق ولكن أيضا تركيزها تلعب أدوارا هامة لنجاح منهجية التحضير. بالنسبة للجسيمات النانوية ذات الأصداف أو الطلاءات الحساسة ، فإن الترسب كمساحيق أكثر ملاءمة ، على الرغم من أن هذه الطريقة تتطلب عناية خاصة في إصلاح العينة.