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Die Herstellung von High-Kontakt-Dichte, Flach-Interface Nerve Elektroden für die Aufnahme und Stimulation Anwendungen

DOI :

10.3791/54388-v

October 4th, 2016

October 4th, 2016

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1Neural Engineering Center, Case Western Reserve University, 2Advanced Platform Technology Center, U.S. Department of Veterans Affairs, 3Jordan University of Science and Technology

Dieser Artikel enthält eine detaillierte Beschreibung des Herstellungsprozesses eines hohen Kontaktdichte flache Schnittstelle Nervenelektrode (FINE). Diese Elektrode ist optimiert für die Aufzeichnung und die neuronale Aktivität selektiv innerhalb der peripheren Nerven zu stimulieren.

Tags

Neuroscience

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