Photolithography-based Fabrication of an Embedded Metal-mesh Transparent Electrode (EMTE)
10:05
Conclusion
8:33
Results: EMTE Fabrication by the Lithography, Electroplating, and Imprint Transfer (LEIT) Method
5:14
Electron-beam Lithography-based Fabrication of a Sub-micron EMTE
7:44
EMTE Characterization
Transcript
The overall goal of this procedure is to use a solution-based fabrication process that combines lithography, electric deposition, and imprint transfer to produce a high performance, flexible, transparent conductive film with a self-anchored, fully
Sign in or start your free trial to access this content
يصف هذا البروتوكول استراتيجية تلفيق القائم على حل للأقطاب عالية الأداء ومرنة وشفافة مع جزءا لا يتجزأ من، شبكة معدنية سميكة. أقطاب شفافة مرنة ملفقة من قبل هذه العملية تظهر بين أعلى أداء ذكرت، بما في ذلك مقاومة منخفضة جدا ورقة، ونفاذية بصرية عالية والاستقرار الميكانيكي تحت الانحناء، التصاق الركيزة قوية، نعومة السطح، والاستقرار البيئي.