Photolithography-based Fabrication of an Embedded Metal-mesh Transparent Electrode (EMTE)
10:05
Conclusion
8:33
Results: EMTE Fabrication by the Lithography, Electroplating, and Imprint Transfer (LEIT) Method
5:14
Electron-beam Lithography-based Fabrication of a Sub-micron EMTE
7:44
EMTE Characterization
Transcript
The overall goal of this procedure is to use a solution-based fabrication process that combines lithography, electric deposition, and imprint transfer to produce a high performance, flexible, transparent conductive film with a self-anchored, fully
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Este protocolo descreve uma estratégia de fabricação baseada em solução para eletrodos transparentes flexíveis de alto desempenho com malha metálica totalmente embutida e espessa. Os eletrodos transparentes flexíveis fabricados por este processo demonstram entre os mais altos desempenhos relatados, incluindo resistência à chapa ultra-baixa, alta transmitância óptica, estabilidade mecânica sob flexão, forte aderência ao substrato, suavidade da superfície e estabilidade ambiental.