Name: development of efficient oleds from solution deposition
Uploaded: 2022-11-04T12:30:00
Description: Watch this Scientific Journal Video about Development of Efficient OLEDs from Solution Deposition at JoVE.com

लेखक मैरी स्क्लोडोव्स्का-क्यूरी अनुदान समझौते संख्या 674990 के तहत यूरोपीय संघ के क्षितिज 2020 अनुसंधान और नवाचार कार्यक्रम से "एक्सीलाइट" परियोजना को स्वीकार करना चाहते हैं। इस कार्य को परियोजना i3N, UIDB/50025/2020 और UIDP/50025/2020 के दायरे में भी विकसित किया गया था, जिसे FCT/MEC के माध्यम से राष्ट्रीय निधियों द्वारा वित्तपोषित किया गया था।

सावधानी: निम्नलिखित चरणों में विभिन्न सॉल्वैंट्स और कार्बनिक पदार्थों का उपयोग शामिल है, इसलिए हैंडलिंग करते समय उचित देखभाल की जानी चाहिए। फ्यूम हुड और सुरक्षात्मक उपकरण जैसे लैब ग्लास, फेस मास्क, द?...

एक सरल डिवाइस संरचना में एक कुशल ओएलईडी बनाने के लिए यहां उपयोग किया जाने वाला प्रोटोकॉल अपेक्षाकृत सरल है। विद्युत गतिशीलता न केवल एक डिवाइस परत की भौतिक संरचना द्वारा संशोधित होती है, बल्कि गंभीर रू...

<table border="0" cellpadding="0" cellspacing="0" style="width:999px;" width="998">
	<colgroup>
		<col />
		<col />
		<col />
		<col />
	</colgroup>
	<tbody>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">2PXZ-OXD (2,5-bis(4-(10H-phenoxazin-10-yl)phenyl)-1,3,4-oxadiazole)</td>
			<td style="width:207px;">Lumtec ltd</td>
			<td style="width:119px;">1447998-13-1</td>
			<td style="width:167px;"></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">Aluminum (99.999%)</td>
			<td style="width:207px;">Alfa Aesar</td>
			<td style="width:119px;">7429-90-5</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">Acetone (99.9%)</td>
			<td style="width:207px;">Sigma Aldrich</td>
			<td style="width:119px;">67-64-1</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">Hellmanex</td>
			<td style="width:207px;">Ossila</td>
			<td style="width:119px;">7778-53-2</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">Isopropyl alcohol</td>
			<td style="width:207px;">Sigma Aldrich</td>
			<td style="width:119px;">67-63-0</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">ITO patterned substrates</td>
			<td style="width:207px;">Ossila</td>
			<td style="width:119px;">65997-17-3</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">Lithium Fluoride (99.99%)</td>
			<td style="width:207px;">Sigma Aldrich</td>
			<td style="width:119px;">7789-24-4</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">OXD-7 (1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene)</td>
			<td style="width:207px;">Ossila</td>
			<td style="width:119px;">138372-67-5</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">PEDOT: PSS (Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) polystyrene sulfonate)</td>
			<td style="width:207px;">Ossila</td>
			<td style="width:119px;">155090-83-8</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">PVK (Polyvinlycarbazole) (average Mn 25,000-50,000)</td>
			<td style="width:207px;">Sigma Aldrich</td>
			<td style="width:119px;">25067-59-8</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">TmPyPb (1,3,5-Tri(m-pyridin-3-ylphenyl)benzene)</td>
			<td style="width:207px;">Ossila</td>
			<td style="width:119px;">138372-67-5</td>
			<td></td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

development of efficient oleds from solution deposition

थर्मली सक्रिय विलंबित प्रतिदीप्ति (टीएडीएफ) अवधारणा के आधार पर अत्यधिक कुशल कार्बनिक उत्सर्जकों का उपयोग उनकी 100% आंतरिक क्वांटम दक्षता के कारण दिलचस्प है। यहां प्रस्तुत एक सरल डिवाइस संरचना में टीएडीएफ उत्सर्जक के आधार पर कुशल कार्बनिक प्रकाश उत्सर्जक डायोड (ओएलईडी) के निर्माण के लिए एक समाधान जमाव विधि है। इस तेज़, कम लागत वाली और कुशल प्रक्रिया का उपयोग सभी ओएलईडी उत्सर्जक परतों के लिए किया जा सकता है जो मेजबान-अतिथि अवधारणा का पालन करते हैं। मौलिक चरणों को आगे प्रजनन के लिए आवश्यक जानकारी के साथ वर्णित किया गया है। एक सामान्य प्रोटोकॉल स्थापित करने का लक्ष्य जिसे वर्तमान में अध्ययन और विकास के तहत प्रमुख कार्बनिक उत्सर्जकों के लिए आसानी से अनुकूलित किया जा सकता है।

चित्रा 5 निर्मित डिवाइस के लिए मुख्य परिणाम दिखाता है। टर्न-ऑन वोल्टेज बेहद कम (~ 3 वी) था, जो दो कार्बनिक परत डिवाइस के लिए एक दिलचस्प परिणाम है। एकीकृत क्षेत्र का उपयोग किए बिना अधिकतम चमक लगभ?...

Watch this Scientific Journal Video about Development of Efficient OLEDs from Solution Deposition at JoVE.com

Development of Efficient OLEDs from Solution Deposition

यहां प्रस्तुत कम रोल-ऑफ के साथ कुशल, सरल, समाधान-जमा कार्बनिक प्रकाश उत्सर्जक डायोड के निर्माण के लिए एक प्रोटोकॉल है।

समाधान निक्षेपण से कुशल OLEDs का विकास

The use of highly efficient organic emitters based on the thermally activated delayed fluorescence (TADF) concept is interesting due to their 100% ...

एक कुशल तरीके से ध्यान केंद्रित करें, प्रिंट इलेक्ट्रॉनिक्स में नया महत्वपूर्ण क्षेत्र, विशेष रूप से ओएस के लिए, वास्तव में संभावनाओं को खोलना प्रक्रिया बोल्ट मशीन अवधारणा के लिए अनुकूलित है। सरल डिवाइस आर्किटेक्चर और उपयोगी क्षमताओं के बीच एक अच्छे व्यापार में ओएस स्नेहन की सादगी, और अब, एक बड़ी तकनीकी समस्या है। मेजबान समझ मैट्रिक्स, संरचना, एकाग्रता, विलायक, और इतने पर की सही पसंद के अलावा मुख्य मुद्दों को तीन पहलुओं में केंद्रित किया जा सकता है, स्पिन कोडिंग स्थिति, विलायक तैयारी, और विद्युत आवेश का विद्युत संतुलन।स्नेहन, समाधान लगातार प्रक्रिया के माध्यम से, सरल प्रतीत होता है, क्योंकि यह योग्यता के डिवाइस फाइबर में उच्च है। निर्माण के दौरान कुछ महत्वपूर्ण पहलुओं को 35 होना चाहिए। मेजबान मैट्रिक्स तैयार करके शुरू करें।एक छोटी शीशी में 15 मिलीग्राम OXD7 जोड़ें। फिर पीवीके के पांच मिलीग्राम जोड़ें। फिर 10 मिलीग्राम 2PXZOXDTADF उत्सर्जक को एक अन्य छोटी शीशी में जोड़ें।मेजबान मैट्रिक्स के साथ शीशी में दो मिलीलीटर क्लोरोबेंजीन जोड़ें और टीएडीएफ सामग्री के साथ शीशी में एक मिलीलीटर जोड़ें। दोनों शीशियों में क्लोरोबेंजीन की अंतिम सांद्रता 10 मिलीग्राम प्रति मिलीलीटर होनी चाहिए। सामग्री के पूर्ण विघटन तक कम से कम तीन घंटे के लिए छोटे साफ किए गए चुंबकीय हलचल सलाखों के साथ समाधान को हिलाएं।सुनिश्चित करें कि शीशियों को संबंधित कैप्स के साथ सुरक्षित रूप से कवर किया गया है और सॉल्वैंट्स के किसी भी वाष्पीकरण से बचने के लिए कार्बनिक रासायनिक-सुरक्षित फिल्म के साथ कसकर सील किया गया है। क्रमिक रूप से एक अल्ट्रासोनिक स्नान में पूर्व पैटर्न वाले भारतीय टिन ऑक्साइड या आईटीओ सब्सट्रेट्स को साफ करें जिसमें 95 डिग्री सेल्सियस पर पानी में 1% हेलमैनेक्स घोल होता है, फिर कमरे के तापमान पर एसीटोन, और फिर प्रति स्नान 15 मिनट के लिए कमरे के तापमान पर प्रोपेनोल होता है। चिमटी के साथ सब्सट्रेट्स को संभालें, केवल उन्हें कोने पर छूते हैं।किसी भी सफाई विलायक अवशेषों को हटाने के लिए नाइट्रोजन फ्लक्स के साथ सब्सट्रेट का प्रयास करें। फिर आईटीओ फिल्म के साथ पांच मिनट के लिए यूवी ओजोन उपचार के लिए सब्सट्रेट्स को उजागर करें। PEDOT: PSS को 0.45 माइक्रोमीटर पॉलीविनाइलिडेन फ्लोराइड फ़िल्टर के साथ फ़िल्टर करें और घोल के 100 माइक्रोलीटर के साथ एक माइक्रो पिपेट भरें।स्पिन कोडर ट्रक पर सब्सट्रेट को सावधानीपूर्वक रखें और इसे ठीक करने के लिए वैक्यूम सिस्टम को सक्रिय करें। आईटीओ के चेहरे को घुमाएं और सब्सट्रेट क्षेत्र को यथासंभव केंद्र में रखें। स्पिन कोटिंग के लिए पैरामीटर को 30 सेकंड के लिए 3,000 आरपीएम पर सेट करें।कम रोटेशन पर दो से तीन सेकंड का प्रारंभिक चरण सेट करें। माइक्रो पिपेट को सब्सट्रेट के लंबवत रखते हुए, सब्सट्रेट के बीच में पेडोट: पीएसएस गिराएं और स्पिन कोडर शुरू करें। स्पिन कोडिंग पूरी होने के बाद, वैक्यूम को बंद कर दें और सब्सट्रेट को चिमटी से हटा दें।केंद्रीय पिक्सेल क्षेत्र को अछूता रखते हुए कैथोड और सब्सट्रेट के कोने के क्षेत्रों के आसपास अतिरिक्त जमा फिल्म को हटाने के लिए पानी में भिगोए गए छोटे कपास के फाहे का उपयोग करें। पेडोट: पीएसएस विलायक को हटाने के लिए सब्सट्रेट को ओवन में या गर्म प्लेट पर 15 मिनट के लिए 120 डिग्री सेल्सियस पर इनक्यूबेट करें, फिर इसे दस्ताने बॉक्स में स्थानांतरित करें और इसे कमरे के तापमान पर ठंडा होने के लिए छोड़ दें। इमर्सिव परत के लिए समाधान तैयार करने के लिए, एक साफ शीशी में मेजबान समाधान के 1.8 मिलीलीटर और टीएडीएफ समाधान के 0.2 मिलीलीटर को मिलाएं।0.1 माइक्रोमीटर पीटीएफई फिल्टर के साथ समाधान को फ़िल्टर करें, फिर इसे कमरे के तापमान पर 15 मिनट तक हिलाने के लिए छोड़ दें। 60 सेकंड के लिए 2,000 आरपीएम पर स्पिन कोडर के साथ दूसरे समाधान को जमा करने के लिए पहले वर्णित प्रक्रिया का पालन करें। दूसरी फिल्म की किसी भी अधिकता को हटाने के लिए क्लोरोबेंजीन में भिगोए गए कपास के फाहे का उपयोग करें।अतिरिक्त क्लोरोबेंजीन को पूरी तरह से हटाने के लिए 30 मिनट के लिए 70 डिग्री सेल्सियस पर दस्ताने बॉक्स के अंदर एक गर्म प्लेट पर सब्सट्रेट छोड़ दें। फिर इसे कमरे के तापमान पर ठंडा होने के लिए छोड़ दें। वांछित वाष्पीकरण मास्क के साथ नमूना धारक में सब्सट्रेट डालें ताकि यह सुनिश्चित हो सके कि फिल्में नीचे की ओर हैं।आवश्यक क्रूसिबल शामिल करें और उन्हें उपयुक्त सामग्री से भरें। सब्सट्रेट धारक को नमूने के साथ बाष्पीकरणीय नमूना धारक में रखें। कक्ष को बंद करें और इसे पंप करें ताकि विशिष्ट बाष्पीकरण प्रणाली के लिए निर्माता के निर्देशों का पालन करना सुनिश्चित हो सके।TNPYPB की एक 40 नैनोमीटर फिल्म को वाष्पित करें, फिर लिथियम फ्लोराइड की दो नैनोमीटर फिल्म और अंत में, एल्यूमीनियम की 100 नैनोमीटर फिल्म। गढ़े गए एलईडी की विशेषताएं यहां दिखाई गई हैं। टर्न-ऑन वोल्टेज बेहद कम था, लगभग 3 वोल्ट, दो-कार्बनिक परत डिवाइस के लिए एक दिलचस्प परिणाम।एकीकृत क्षेत्र का उपयोग किए बिना अधिकतम चमक लगभग 8,000 कैंडेला प्रति वर्ग मीटर थी। वर्तमान दक्षता, बिजली दक्षता और बाहरी क्वांटम दक्षता के लिए अधिकतम मान क्रमशः 16 कैंडेला प्रति एम्पीयर, 10 लुमेन प्रति वाट और 8% थे। डिवाइस संरचना सादगी और विश्वसनीयता कुशल के बीच अच्छे व्यापार को सभी में दोषों के बिना संभव सर्वोत्तम जानकारी पर जोर दिया जाना चाहिए, विशेष रूप से महत्वपूर्ण, धातु अवधारणा को विभिन्न प्रकार के मापदंडों तक बढ़ाया जा सकता है, उदाहरण के लिए, कार्बनिक और अकार्बनिक सामग्री।यद्यपि हम विशेष विशिष्टताओं को दर्शाते हैं, मुख्य विचार यह है

Research

JoVE Journal

Engineering

Fabrication of Nano-engineered Transparent Conducting Oxides by Pulsed Laser Deposition

निर्माण की स्पंदित लेजर बयान से पारदर्शी आयोजन ऑक्साइड नैनो इंजीनियर

Nanosecond Pulsed  Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas allows the deposition  of metal oxides with tunable morphology, structure, ...

Development of a 3D Graphene Electrode Dielectrophoretic Device

एक 3 डी ग्राफीन इलेक्ट्रोड Dielectrophoretic डिवाइस के विकास

The design and fabrication of a novel 3D electrode microdevice using 50 &#181;m thick graphene paper and 100 &#181;m double sided tape is described. The ...

Mechanical Expansion of Steel Tubing as a Solution to Leaky Wellbores

टपका हुआ Wellbores के लिए एक समाधान के रूप में इस्पात टयूबिंग मैकेनिकल विस्तार

Wellbore cement, a procedural component of wellbore completion operations, primarily provides zonal isolation and mechanical support of the metal pipe ...

Making Record-efficiency SnS Solar Cells by Thermal Evaporation and Atomic Layer Deposition

थर्मल वाष्पीकरण और परमाणु परत बयान से रिकॉर्ड दक्षता एसएनएस सौर कोशिकाओं बनाने

Tin sulfide (SnS) is a candidate absorber material for Earth-abundant, non-toxic solar cells. SnS offers easy phase control and rapid growth by congruent ...

Formation of Thick Dense Yttrium Iron Garnet Films Using Aerosol Deposition

एयरोसोल बयान का प्रयोग मोटी घने Yttrium आयरन गार्नेट फिल्म्स का गठन

Aerosol deposition (AD) is a thick-film deposition process that can produce layers up to several hundred micrometers thick with densities greater than 95% ...

Research and Development of High-performance Explosives

अनुसंधान और उच्च प्रदर्शन विस्फोटक का विकास

Developmental testing of high explosives for military applications involves small-scale formulation, safety testing, and finally detonation performance ...

Multifunctional Hybrid Fe2O3-Au Nanoparticles for Efficient Plasmonic Heating

Multifunctional Hybrid Fe2O3-Au Nanoparticles for Efficient Plasmonic Heating

Multifunctional हाइब्रिड फे<sub&gt; 2</sub&gt; हे<sub&gt; 3</sub&gt; कुशल Plasmonic ताप के लिए -Au नैनोकणों

One of the most widely used methods for manufacturing colloidal gold nanospherical particles involves the reduction of chloroauric acid (HAuCl4) to ...

Fabrication of Fully Solution Processed Inorganic Nanocrystal Photovoltaic Devices

पूरी तरह से समाधान प्रसंस्कृत अकार्बनिक Nanocrystal फोटोवोल्टिक उपकरणों के निर्माण

We demonstrate a method for the preparation of fully solution processed inorganic solar cells from a spin and spray coating deposition of nanocrystal ...

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

वर्दी मोटाई जीई के electrospray बयान<sub&gt; 23</sub&gt; एस.बी.<sub&gt; 7</sub&gt; S<sub&gt; 70</sub&gt; और जैसा<sub&gt; 40</sub&gt; S<sub&gt; 60</sub&gt; Chalcogenide ग्लास फिल्में

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two ...

Monovalent Cation Doping of CH3NH3PbI3 for Efficient Perovskite Solar Cells

Monovalent Cation Doping of CH3NH3PbI3 for Efficient Perovskite Solar Cells

सीएच की Monovalent कटियन डोपिंग<sub&gt; 3</sub&gt; राष्ट्रीय राजमार्ग<sub&gt; 3</sub&gt; PBI<sub&gt; 3</sub&gt; कुशल perovskite सौर कोशिकाओं के लिए

Here, we demonstrate the incorporation of monovalent cation additives into CH3NH3PbI3 perovskite in order to adjust the optical, excitonic, and electrical ...