Name: development of efficient oleds from solution deposition
Uploaded: 2022-11-04T12:30:00
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著者らは、Marie Sklodowska-Curie助成金契約No 674990に基づく欧州連合のHorizon 2020研究およびイノベーションプログラムの「EXCILIGHT」プロジェクトに感謝したいと思います。この作業は、プロジェクトi3N、UIDB/50025/2020&UIDP/50025/2020の範囲内でも開発され、FCT/MECを通じて国家資金によって資金提供されています。

注意: 次の手順では、さまざまな溶剤や有機材料を使用する必要があるため、取り扱いには適切な注意を払う必要があります。ヒュームフードと、白眼鏡、フェイスマスク、手袋、白衣などの保護具を使用してください。材料の計量は、高精度スケールマシンを使用して正確に行う必要があります。基板の清浄度、薄膜の溶液堆積、および蒸発を確保するために、すべての手順は制御された?...

単純なデバイス構造で効率的なOLEDを製造するためにここで使用されるプロトコルは比較的単純です。電気的移動度は、デバイス層の材料組成によって変調されるだけでなく、膜の形態にも大きく依存します。溶液の調製と溶媒と濃度の適切な選択が重要です。材料の凝集は発生せず、ナノメートルスケールでの完全な溶解性を意味します。溶液の粘度を観察することも重要です。粘度が高い...

日常生活で使用される有機エレクトロニクスの増加は、卓越した現実になっています。いくつかの有機電子アプリケーションの中で、OLEDはおそらく最も魅力的です。その画質、解像度、および色純度により、OLEDはディスプレイの主要な選択肢となっています。さらに、非常に薄く、柔軟性があり、軽量で、色調整可能なOLEDで大面積発光を達成する可能性は、照明に応用されています。しかしながら、大面積エミッタにおける製造プロセスに関連するいくつかの技術的問題は、さらなる適用を延期している。
最初のOLEDは低印加電圧1で動作し、外部量子効率(EQE)は低いものの、ソリッドステート照明の新しいパラダイムが設計されました。OLED EQEは、放出された光子(光)と注入された電気キャリア(電流)の比率によって得られます。最大期待EQEの単純な理論的推定値は、ηアウト x ηint 2に等しくなります。 内部効率(ηint)は、ηint =γ xxΦ <img alt="Equation 1" src="/files/ftp_upload/61071/61071eq01.jpg" style="margin: auto;">PLで近似することができ、ここでγ電荷収支係数に対応し、ΦPLはフォトルミネッセンス量子収率(PLQY)であり<img alt="Equation 1" src="/files/ftp_upload/61071/61071eq01.jpg" style="margin: auto;">、発光励起子(電子正孔対)生成の効率である。最後に、アウトηアウト効率2です。アウトカップリングを考慮しない場合、(1)放射再結合する励起子の生成効率、(2)発光層の効率、(3)デバイス構造がバランスのとれた電気システムを促進するのにどれだけ効率的か3の3つのトピックに注目が集まります。
純粋な蛍光有機エミッターは、わずか25%の内部量子効率(IQE)を持っています。スピン則によれば、三重項から一重項(T→S)への放射遷移は禁止されています4。したがって、励起された電気キャリアの75%は光子5の放出に寄与しない。この問題は、有機エミッタリン光OLED6,7,8,9,10の遷移金属を使用して最初に克服され、IQEは100%に近いと報告されています11,12,13,14,15,16.これは、有機化合物と重遷移金属との間のスピン軌道結合によるものである。このようなエミッタの欠点は、コストが高く、安定性が低いことです。最近、安達17,18による励起三重項状態と一重項状態(∆EST)の間のエネルギー分離が低い純粋な有機化合物の化学合成に関する報告により、新しいフレームワークが生まれました。新しい19ではありませんが、OLEDでのTADFプロセスの採用の成功により、遷移金属錯体を使用せずに高効率を得ることが可能になりました。
このようなメタルフリー有機エミッターでは、トリプレット状態の励起キャリアがシングレット状態に変化する可能性が高い。したがって、IQEは100%5,20,21,22の理論上の限界を達成できます。これらのTADF材料は、放射再結合できる励起子を提供します。ただし、これらのエミッタは、ホスト-ゲスト概念における発光消光3,20,21,23,24を回避するために、マトリックスホスト内での分散を必要とする。さらに、その効率は、ホスト(有機マトリックス)がゲスト(TADF)材料25にどのように割り当てられるかに依存する。また、電気的にバランスのとれたデバイス(損失を避けるための正孔と電子の平衡)を実現するためには、デバイスの構造(薄層、材料、厚さ)を理想化する必要があります26。電気的に平衡化されたデバイスに最適なホスト/ゲストシステムを実現することは、EQEを向上させるための基本です。TADFベースのシステムでは、EMLの電気キャリアの移動度の変化が容易ではないため、これは単純ではありません。
TADF エミッタを使用すると、20% を超える EQE 値を簡単に取得できます26,27,28,29。ただし、デバイス構造は通常、3〜5つの有機層(正孔輸送/ブロッキング層と電子輸送/ブロッキング層、それぞれHTL / HBLおよびETL / EBL)で構成されています。さらに、コストが高く、技術的に複雑で、ほとんどディスプレイアプリケーション専用の熱蒸発プロセスを使用して製造されています。HOMO(最高被占分子軌道)とLUMO(最低非占有分子軌道)準位、キャリアの電気的移動度、および厚さに応じて、各層は電気キャリアを注入、輸送、およびブロックし、発光層(EML)での再結合を保証します。
デバイスの複雑さを軽減すると(単純な2層構造など)、通常、EQEが著しく低下し、場合によっては5%未満になります。これは、EMLの電子と正孔の移動度が異なるために発生し、デバイスは電気的に不均衡になります。したがって、励起子生成の高効率の代わりに、EMLにおける放出の効率が低くなる。さらに、高い印加電圧での励起子の濃度が高く、励起寿命が長いため、輝度が増加するにつれてEQEが大幅に低下すると、顕著なロールオフが発生します24,30,31。このような問題を克服するには、発光層の電気的特性を操作する強力な能力が必要です。溶液堆積法を使用する単純なOLEDアーキテクチャの場合、EMLの電気的特性は、溶液調製および堆積パラメータ32によって調整することができる。
有機ベースのデバイスのための溶液堆積法は、以前に使用されている31。OLEDの製造は、熱蒸着プロセスと比較して、構造が単純で、低コストで、大面積の生産であるため、非常に興味深いものです。遷移金属錯体OLEDで高い成功を収めているため、主な目標は、発光面積を増やしながら、デバイス構造を可能な限りシンプルに保つことです33。ロールツーロール(R2R)34,35,36、インクジェット印刷37,38,39、スロットダイ40などの方法は、OLEDの多層製造にうまく適用されており、これは可能な産業的アプローチです。
有機層の溶液堆積法は、デバイスアーキテクチャの簡素化のための良い選択肢として役立つにもかかわらず、すべての所望の材料を容易に堆積できるわけではない。低分子とポリマーの2種類の材料が使用されます。溶液堆積法では、低分子には、薄膜の均一性、結晶化、安定性が悪いなどのいくつかの欠点があります。したがって、ポリマーは、表面粗さが低く、大きくて柔軟な基板上に均一な薄膜を形成できるため、主に使用されます。さらに、材料は適切な溶媒(主にクロロホルム、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの有機溶媒)、水、またはアルコール誘導体への良好な溶解性を備えている必要があります。
溶解性の問題に加えて、1つの層で使用される溶媒が前の層に対して1つのものとして作用してはならないことを保証する必要があります。これにより、湿式プロセスによって堆積された多層構造が可能になります。ただし、制限があります 41.最も典型的なデバイス構造は、いくつかの溶液堆積層(すなわち、発光層)および1つの熱蒸発層(ETL)を使用する。さらに、薄膜の均質性と形態は、堆積方法とパラメータに強く依存します。これらの層を通る電荷輸送は、このような形態によって完全に支配されている。それにもかかわらず、所望の最終デバイスと製造プロセスの互換性との間のトレードオフは慎重に確立されるべきである。堆積パラメータの調整は、時間のかかる作業であるにもかかわらず、成功への鍵です。たとえば、スピンコーティングは簡単な技術ではありません。簡単に見えますが、紡糸基板上の溶液からの薄膜形成には、注意が必要ないくつかの側面があります。
膜厚の最適化、回転速度の操作、および時間(厚さは両方のパラメータの指数関数的減衰)に加えて、良好な結果を得るには、実験者のアクションも調整する必要があります。正しいパラメータは、溶液の粘度、堆積面積、および基板上の溶液の濡れ性/接触角にも依存します。一意のパラメーターのセットはありません。溶液/基質に特定の調整を加えた基本的な仮定のみが、望ましい結果をもたらします。さらに、層の分子立体配座および形態に依存する電気的特性は、ここで説明するプロトコルに従って、所望の結果を得るために最適化することができる。完了すると、プロセスはシンプルで実行可能です。
それにもかかわらず、デバイス構造の複雑さを減らすと、EQEが最大に減少します。ただし、効率と明るさの点で妥協点を達成することができます。このような妥協により、実用的なアプリケーションが可能になるため、シンプルで大面積互換で低コストのプロセスの余剰が現実のものになる可能性があります。この記事では、これらの要件と、必要な問題を処理するレシピを開発する方法について説明します。
このプロトコルは、緑色のTADFエミッタ2PXZ-OXD [2,5-ビス(4-(10H-フェノキサジン-10-イル)フェニル)-1,3,4-オキサジアゾール]42 を、PVK[ポリ(N-ビニルカルバゾール)]とEMLに対応するOXD-7[1,3-ビス[2-(4-tert-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾ-5-イル]ベンゼン]で構成されるホストマトリックスのゲストとして焦点を当てています。TmPyPb [1,3,5-トリ(m-ピリジン-3-イルフェニル)ベンゼン]の電子輸送層(ETL)が用いられている。アノードとカソードの両方の仕事関数が最適化されます。陽極はITO(酸化インジウムスズ)と高導電性高分子PEDOT:PSS[ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)-ポリ(スチレンスルホン酸)]で構成され、陰極はアルミニウムとLiF(フッ化リチウム)の二重層で構成されています。
最後に、PEDOT:PSSとEML(PVK:OXD-7:2PXZ-OXD)の両方をスピンコーティングによって堆積させ、TmPyPb、LiF、およびAlを熱蒸発させます。PEDOT:PSSの導電性金属のような性質を考慮すると、このデバイスは可能な限り単純な構造の典型的な「2つの有機層」です。EMLでは、TADFゲスト(10%重量)がPVK0.6+OXD-70.4からなるホスト(90%重量)に分散している。

<table border="0" cellpadding="0" cellspacing="0" style="width:999px;" width="998">
	<colgroup>
		<col />
		<col />
		<col />
		<col />
	</colgroup>
	<tbody>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">2PXZ-OXD (2,5-bis(4-(10H-phenoxazin-10-yl)phenyl)-1,3,4-oxadiazole)</td>
			<td style="width:207px;">Lumtec ltd</td>
			<td style="width:119px;">1447998-13-1</td>
			<td style="width:167px;"></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">Aluminum (99.999%)</td>
			<td style="width:207px;">Alfa Aesar</td>
			<td style="width:119px;">7429-90-5</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">Acetone (99.9%)</td>
			<td style="width:207px;">Sigma Aldrich</td>
			<td style="width:119px;">67-64-1</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">Hellmanex</td>
			<td style="width:207px;">Ossila</td>
			<td style="width:119px;">7778-53-2</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">Isopropyl alcohol</td>
			<td style="width:207px;">Sigma Aldrich</td>
			<td style="width:119px;">67-63-0</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">ITO patterned substrates</td>
			<td style="width:207px;">Ossila</td>
			<td style="width:119px;">65997-17-3</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">Lithium Fluoride (99.99%)</td>
			<td style="width:207px;">Sigma Aldrich</td>
			<td style="width:119px;">7789-24-4</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">OXD-7 (1,3-Bis[2-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene)</td>
			<td style="width:207px;">Ossila</td>
			<td style="width:119px;">138372-67-5</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">PEDOT: PSS (Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) polystyrene sulfonate)</td>
			<td style="width:207px;">Ossila</td>
			<td style="width:119px;">155090-83-8</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">PVK (Polyvinlycarbazole) (average Mn 25,000-50,000)</td>
			<td style="width:207px;">Sigma Aldrich</td>
			<td style="width:119px;">25067-59-8</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:507px;">TmPyPb (1,3,5-Tri(m-pyridin-3-ylphenyl)benzene)</td>
			<td style="width:207px;">Ossila</td>
			<td style="width:119px;">138372-67-5</td>
			<td></td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

development of efficient oleds from solution deposition

熱活性化遅延蛍光(TADF)の概念に基づく高効率の有機エミッターの使用は、100%の内部量子効率のために興味深いものです。ここでは、TADFエミッタをベースにした効率的な有機発光ダイオード(OLED)を簡単なデバイス構造で製造するための溶液堆積法を紹介します。この高速、低コスト、効率的なプロセスは、ホスト-ゲストの概念に従うすべてのOLEDエミッシブレイヤーに使用できます。基本的な手順は、さらなる複製に必要な情報とともに説明されています。現在研究開発中の主要な有機エミッターに容易に適応できる一般的なプロトコルを確立することを目標としています。

図5 は、作製したデバイスの主な結果を示しています。ターンオン電圧は非常に低く(~3V)、これは2有機層デバイスとしては興味深い結果です。最大輝度は積分球を使用しない場合、約8,000cd/m2 であった。ηc、ηp、EQEの最大値は、それぞれ約16 cd/A、10 lm/W、8%程度であった。結果は、このTADFエミッタの最良の性能指数ではありませんが、ソリューシ?...

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Development of Efficient OLEDs from Solution Deposition

ここでは、ロールオフの少ない効率的でシンプルな溶液蒸着有機発光ダイオードを製造するためのプロトコルを紹介します。

溶液成膜からの高効率有機ELの開発

The use of highly efficient organic emitters based on the thermally activated delayed fluorescence (TADF) concept is interesting due to their 100% ...

効率的な方法で焦点を当て、特にOS向けの印刷エレクトロニクスの新しい重要な分野に焦点を当て、実際に可能性を開きます このプロセスは、ボルトマシンのコンセプトに合わせて最適化されています。OSの潤滑の単純さは、単純なデバイスアーキテクチャと有用な効率の間の良いトレードオフであり、これは現在、大きな技術的問題です。宿主把握指標、組成、濃度、溶媒などの正しい選択以外の主な問題は、位置のスピンコーディング、溶媒の調製、電荷の電気的バランスの3つの側面に焦点を当てることができます。溶液持続プロセスによる潤滑は、デバイスファイバーのメリットが高いため、簡単なようです。製造中のいくつかの重要な側面は35である必要があります。まず、ホストマトリックスを準備します。15ミリグラムのOXD7を小さなバイアルに加えます。次に、5ミリグラムのPVKを追加します。次に、10ミリグラムの2PXZOXDTADFエミッターを別の小さなバイアルに追加します。2ミリリットルのクロロベンゼンをホストマトリックスを含むバイアルに、1ミリリットルのクロロベンゼンをTADF材料を含むバイアルに加えます。両方のバイアル中のクロロベンゼンの最終濃度は、ミリリットルあたり10ミリグラムでなければなりません。材料が完全に溶解するまで、小さな洗浄された磁気攪拌棒で溶液を少なくとも3時間攪拌します。バイアルがそれぞれのキャップで安全に覆われ、溶媒の蒸発を防ぐために有機化学物質安全フィルムでしっかりと密封されていることを確認してください。摂氏95度の水中の1%ヘルマネックス溶液を含む超音波浴で、事前にパターン化されたインド酸化スズまたはITO基板を順次洗浄し、次に室温でアセトンを室温で浴あたり15分間プロパノールに洗浄します。ピンセットで基板を角に触れるだけで取り扱います。窒素フラックスで基板を試して、洗浄溶剤の残留物を取り除きます。次に、ITOフィルムを上に向けて基板をUVオゾン処理に5分間さらします。PEDOT:PSSを0.45マイクロメートルのポリフッ化ビニリデンフィルターでろ過し、マイクロピペットに100マイクロリットルの溶液を充填します。基板をスピンコーダートラックに慎重に置き、真空システムをアクティブにして固定します。ITOを上向きに回転させ、基板領域をできるだけ中央に配置します。スピンコーティングのパラメータを30秒間3, 000 RPMに設定します。低回転で初期ステップを2〜3秒に設定します。マイクロピペットを基板に対して垂直に保ち、PEDOT:PSSを基板の中央に落とし、スピンコーダーを起動します。スピンコーディングが完了したら、真空をオフにし、ピンセットで基板を取り外します。水に浸した小さな綿棒を使用して、基板の陰極とコーナー領域の周りの余分な堆積フィルムを取り除き、中央のピクセル領域に触れないようにします。基板をオーブンまたはホットプレートで摂氏120度で15分間インキュベートしてPEDOT:PSS溶媒を除去し、グローブボックスに移して室温で放冷します。浸漬層用の溶液を調製するには、1.8ミリリットルのホスト溶液と0.2ミリリットルのTADF溶液をクリーンバイアルに入れます。溶液を0.1マイクロメートルのPTFEフィルターでろ過し、室温で15分間攪拌します。前述の手順に従って、スピンコーダを2, 000 RPMで60秒間回転させて2番目の溶液を堆積させます。クロロベンゼンに浸した綿棒を使用して、2番目のフィルムの余分なものを取り除きます。基板をグローブボックス内のホットプレートに70°Cで30分間放置して、余分なクロロベンゼンを完全に取り除きます。その後、室温で放冷します。目的の蒸着マスクを使用して基板をサンプルホルダーに挿入し、フィルムが下を向いていることを確認します。必要なるつぼを含め、適切な材料で満たします。サンプルを入れた基板ホルダーを蒸発器サンプルホルダーに入れます。チャンバーを閉じてポンプで送り込み、特定の蒸発器システムの製造元の指示に従ってください。TNPYPBの40ナノメートルの膜、次にフッ化リチウムの2ナノメートルの膜、最後にアルミニウムの100ナノメートルの膜を蒸発させます。作製したLEDの特性を示します。ターンオン電圧は約3ボルトと非常に低く、2有機層デバイスとしては興味深い結果でした。最大輝度は、積分球を使用せずに平方メートルあたり約8, 000カンデラでした。電流効率、電力効率、外部量子効率の最大値は、それぞれアンペアあたり約16カンデラ、ワットあたり10ルーメン、8%でした。デバイス構造の単純さと信頼性効率の間の良好なトレードオフは、すべてに欠陥なしに可能な限り最良の情報を主張する必要があります 特に重要なのは、金属の概念を、有機材料や無機材料など、さまざまな種類のパラメータに拡張できることです。私たちは特定の特異性を持っていますが、主なアイデアは

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Research

JoVE Journal

Engineering

Fabrication of Nano-engineered Transparent Conducting Oxides by Pulsed Laser Deposition

Nanosecond Pulsed Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas allows the deposition of metal oxides with tunable morphology, structure, density and stoichiometry by a proper control of the plasma plume expansion dynamics. Such versatility can be exploited to produce nanostructured films from compact and dense to nanoporous characterized by a hierarchical assembly of nano-sized clusters. In particular we describe the detailed methodology to fabricate two types of Al-doped ZnO (AZO) films as transparent electrodes in photovoltaic devices: 1) at low O2 pressure, compact films with electrical conductivity and optical transparency close to the state of the art transparent conducting oxides (TCO) can be deposited at room temperature, to be compatible with thermally sensitive materials such as polymers used in organic photovoltaics (OPVs); 2) highly light scattering hierarchical structures resembling a forest of nano-trees are produced at higher pressures. Such structures show high Haze factor (&gt;80%) and may be exploited to enhance the light trapping capability. The method here described for AZO films can be applied to other metal oxides relevant for technological applications such as TiO2, Al2O3, WO3 and Ag4O4.

We describe the experimental method to deposit nanostructured oxide thin films by nanosecond Pulsed Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas. By using this method Al-doped ZnO (AZO) films, from compact to hierarchically structured as nano-tree forests, can be deposited.

パルスレーザー蒸着法によるナノエンジニアリング透明導電性酸化物の作製

Nanosecond Pulsed  Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas allows the deposition  of metal oxides with tunable morphology, structure, ...

工学

Mechanical Expansion of Steel Tubing as a Solution to Leaky Wellbores

Wellbore cement, a procedural component of wellbore completion operations, primarily provides zonal isolation and mechanical support of the metal pipe (casing), and protects metal components from corrosive fluids. These are essential for uncompromised wellbore integrity. Cements can undergo multiple forms of failure, such as debonding at the cement/rock and cement/metal interfaces, fracturing, and defects within the cement matrix. Failures and defects within the cement will ultimately lead to fluid migration, resulting in inter-zonal fluid migration and premature well abandonment. Currently, there are over 1.8 million operating wells worldwide and over one third of these wells have leak related problems defined as Sustained Casing Pressure (SCP)1. 
The focus of this research was to develop an experimental setup at bench-scale to explore the effect of mechanical manipulation of wellbore casing-cement composite samples as a potential technology for the remediation of gas leaks. 
The experimental methodology utilized in this study enabled formation of an impermeable seal at the pipe/cement interface in a simulated wellbore system. Successful nitrogen gas flow-through measurements demonstrated that an existing microannulus was sealed at laboratory experimental conditions and fluid flow prevented by mechanical manipulation of the metal/cement composite sample. Furthermore, this methodology can be applied not only for the remediation of leaky wellbores, but also in plugging and abandonment procedures as well as wellbore completions technology, and potentially preventing negative impacts of wellbores on subsurface and surface environments.

This article reports on a laboratory scale investigation of an existing field procedure and its adaptation for sealing of leaky wellbores. It consists of mechanical expansion of metal pipe, which results in an improved metal/cement bond, ultimate sealing of hydraulic pathways and prevention of gas leaks caused by the presence of a microannular channel.

漏洩坑の解決策として鋼チューブの機械的な拡張

Wellbore cement, a procedural component of wellbore completion operations, primarily provides zonal isolation and mechanical support of the metal pipe ...

Making Record-efficiency SnS Solar Cells by Thermal Evaporation and Atomic Layer Deposition

Tin sulfide (SnS) is a candidate absorber material for Earth-abundant, non-toxic solar cells. SnS offers easy phase control and rapid growth by congruent thermal evaporation, and it absorbs visible light strongly. However, for a long time the record power conversion efficiency of SnS solar cells remained below 2%. Recently we demonstrated new certified record efficiencies of 4.36% using SnS deposited by atomic layer deposition, and 3.88% using thermal evaporation. Here the fabrication procedure for these record solar cells is described, and the statistical distribution of the fabrication process is reported. The standard deviation of efficiency measured on a single substrate is typically over 0.5%. All steps including substrate selection and cleaning, Mo sputtering for the rear contact (cathode), SnS deposition, annealing, surface passivation, Zn(O,S) buffer layer selection and deposition, transparent conductor (anode) deposition, and metallization are described. On each substrate we fabricate 11 individual devices, each with active area 0.25 cm2. Further, a system for high throughput measurements of current-voltage curves under simulated solar light, and external quantum efficiency measurement with variable light bias is described. With this system we are able to measure full data sets on all 11 devices in an automated manner and in minimal time. These results illustrate the value of studying large sample sets, rather than focusing narrowly on the highest performing devices. Large data sets help us to distinguish and remedy individual loss mechanisms affecting our devices.

Tin sulfide (SnS) is a candidate material for Earth-abundant, non-toxic solar cells. Here, we demonstrate the fabrication procedure of the SnS solar cells employing atomic layer deposition, which yields 4.36% certified power conversion efficiency, and thermal evaporation which yields 3.88%.

熱蒸着および原子層堆積法によって記録し、効率のSnS太陽電池を作ります

Tin sulfide (SnS) is a candidate absorber material for Earth-abundant, non-toxic solar cells. SnS offers easy phase control and rapid growth by congruent ...

Formation of Thick Dense Yttrium Iron Garnet Films Using Aerosol Deposition

Aerosol deposition (AD) is a thick-film deposition process that can produce layers up to several hundred micrometers thick with densities greater than 95% of the bulk. The primary advantage of AD is that the deposition takes place entirely at ambient temperature; thereby enabling film growth in material systems with disparate melting temperatures. This report describes in detail the processing steps for preparing the powder and for performing AD using the custom-built system. Representative characterization results are presented from scanning electron microscopy, profilometry, and ferromagnetic resonance for films grown in this system. As a representative overview of the capabilities of the system, focus is given to a sample produced following the described protocol and system setup. Results indicate that this system can successfully deposit 11 &#181;m thick yttrium iron garnet films that are &#160;&#62; 90% of the bulk density during a single 5 min deposition run. A discussion of methods to afford better control of the aerosol and particle selection for improved thickness and roughness variations in the film is provided.

This report describes the use of a custom-built system to perform aerosol deposition of thick films of yttrium iron garnet onto sapphire substrates at RT. The deposited films are characterized using scanning electron microscopy, profilometry, and ferromagnetic resonance to give a representative overview of the capabilities of the technique.

エアロゾルデポジション法を用いて厚い高密度イットリウム鉄ガーネット膜の形成

Aerosol deposition (AD) is a thick-film deposition process that can produce layers up to several hundred micrometers thick with densities greater than 95% ...

Research and Development of High-performance Explosives

Developmental testing of high explosives for military applications involves small-scale formulation, safety testing, and finally detonation performance tests to verify theoretical calculations. For newly developed formulations, the process begins with small-scale mixes, thermal testing, and impact and friction sensitivity. Only then do subsequent larger scale formulations proceed to detonation testing, which will be covered in this paper. Recent advances in characterization techniques have led to unparalleled precision in the characterization of early-time evolution of detonations. The new technique of Photonic Doppler Velocimetry (PDV) for the measurement of detonation pressure will be shared and compared with traditional fiber-optic detonation velocity and plate-dent calculation of detonation pressure. In particular, the role of aluminum in explosive formulations will be discussed. Recent developments led to the development of explosive formulations that result in reaction of aluminum very early in the detonation product expansion. This enhanced reaction leads to changes in the detonation velocity and pressure due to reaction of the aluminum with oxygen in the expanding gas products.

Developmental testing of high explosives for military applications involves small-scale formulation, safety testing, and finally detonation performance tests to verify theoretical calculations. This paper will share typical development tests associated with the measurement of detonation velocity and detonation pressure.

高性能爆薬の研究開発

Developmental testing of high explosives for military applications involves small-scale formulation, safety testing, and finally detonation performance ...

Multifunctional Hybrid Fe2O3-Au Nanoparticles for Efficient Plasmonic Heating

One of the most widely used methods for manufacturing colloidal gold nanospherical particles involves the reduction of chloroauric acid (HAuCl4) to neutral gold Au(0) by reducing agents, such as sodium citrate or sodium borohydride. The extension of this method to decorate iron oxide or similar nanoparticles with gold nanoparticles to create multifunctional hybrid Fe2O3-Au nanoparticles is straightforward. This approach yields fairly good control over Au nanoparticle dimensions and loading onto Fe2O3. Additionally, the Au metal size, shape, and loading can easily be tuned by changing experimental parameters (e.g., reactant concentrations, reducing agents, surfactants, etc.). An advantage of this procedure is that the reaction can be done in air or water, and, in principle, is amenable to scaling up. The use of such optically tunable Fe2O3-Au nanoparticles for hyperthermia studies is an attractive option as it capitalizes on plasmonic heating of gold nanoparticles tuned to absorb light strongly in the VIS-NIR region. In addition to its plasmonic effects, nanoscale Au provides a unique surface for interesting chemistries and catalysis. The Fe2O3 material provides additional functionality due to its magnetic property. For example, an external magnetic field could be used to collect and recycle the hybrid Fe2O3-Au nanoparticles after a catalytic experiment, or alternatively, the magnetic Fe2O3 can be used for hyperthermia studies through magnetic heat induction. The photothermal experiment described in this report measures bulk temperature change and nanoparticle solution mass loss as functions of time using infrared thermocouples and a balance, respectively. The ease of sample preparation and the use of readily available equipment are distinct advantages of this technique. A caveat is that these photothermal measurements assess the bulk solution temperature and not the surface of the nanoparticle where the heat is transduced and the temperature is likely to be higher.

Multifunctional Hybrid Fe2O3-Au Nanoparticles for Efficient Plasmonic Heating

We describe the synthesis and properties of multifunctional Fe2O3-Au nanoparticles produced by a wet chemical approach and investigate their photothermal properties using laser irradiation. The composite Fe2O3-Au nanoparticles retain the properties of both materials, creating a multifunctional structure with excellent magnetic and plasmonic properties.

多機能ハイブリッドのFe<sub&gt; 2</sub&gt; O<sub&gt; 3</sub&gt; -Auナノ粒子の効率的なプラズモニック暖房

One of the most widely used methods for manufacturing colloidal gold nanospherical particles involves the reduction of chloroauric acid (HAuCl4) to ...

Fabrication of Fully Solution Processed Inorganic Nanocrystal Photovoltaic Devices

We demonstrate a method for the preparation of fully solution processed inorganic solar cells from a spin and spray coating deposition of nanocrystal inks. For the photoactive absorber layer, colloidal CdTe and CdSe nanocrystals (3-5 nm) are synthesized using an inert hot injection technique and cleaned with precipitations to remove excess starting reagents. Similarly, gold nanocrystals (3-5 nm) are synthesized under ambient conditions and dissolved in organic solvents. In addition, precursor solutions for transparent conductive indium tin oxide (ITO) films are prepared from solutions of indium and tin salts paired with a reactive oxidizer. Layer-by-layer, these solutions are deposited onto a glass substrate following annealing (200-400 &#176;C) to build the nanocrystal solar cell (glass/ITO/CdSe/CdTe/Au). Pre-annealing ligand exchange is required for CdSe and CdTe nanocrystals where films are dipped in NH4Cl:methanol to replace long-chain native ligands with small inorganic Cl- anions. NH4Cl(s) was found to act as a catalyst for the sintering reaction (as a non-toxic alternative to the conventional CdCl2(s) treatment) leading to grain growth (136&#177;39 nm) during heating. The thickness and roughness of the prepared films are characterized with SEM and optical profilometry. FTIR is used to determine the degree of ligand exchange prior to sintering, and XRD is used to verify the crystallinity and phase of each material. UV/Vis spectra show high visible light transmission through the ITO layer and a red shift in the absorbance of the cadmium chalcogenide nanocrystals after thermal annealing. Current-voltage curves of completed devices are measured under simulated one sun illumination. Small differences in deposition techniques and reagents employed during ligand exchange have been shown to have a profound influence on the device properties. Here, we examine the effects of chemical (sintering and ligand exchange agents) and physical treatments (solution concentration, spray-pressure, annealing time and annealing temperature) on photovoltaic device performance.

This protocol describes the synthesis and solution deposition of inorganic nanocrystals layer by layer to produce thin film electronics on non-conductive surfaces. Solvent-stabilized inks can produce complete photovoltaic devices on glass substrates via spin and spray coating following post-deposition ligand exchange and sintering.

完全に解決策が処理無機ナノ結晶太陽電池素子の作製

We demonstrate a method for the preparation of fully solution processed inorganic solar cells from a spin and spray coating deposition of nanocrystal ...

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two chalcogenide compositions are demonstrated: Ge23Sb7S70 and As40S60, which have both been studied extensively for planar mid-infrared (mid-IR) microphotonic devices. In this approach, uniform thickness films are fabricated through the use of computer numerical controlled (CNC) motion. Chalcogenide glass (ChG) is written over the substrate by a single nozzle along a serpentine path. Films were subjected to a series of heat treatments between 100 &#176;C and 200 &#176;C under vacuum to drive off residual solvent and densify the films. Based on transmission Fourier transform infrared (FTIR) spectroscopy and surface roughness measurements, both compositions were found to be suitable for the fabrication of planar devices operating in the mid-IR region. Residual solvent removal was found to be much quicker for the As40S60 film as compared to Ge23Sb7S70. Based on the advantages of electrospray, direct printing of a gradient refractive index (GRIN) mid-IR transparent coating is envisioned, given the difference in refractive index of the two compositions in this study.

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

A method of uniform thickness solution-derived chalcogenide glass film deposition is demonstrated using computer numerical controlled motion of a single-nozzle electrospray.

均一な厚さのGeのエレクトロスプレーデポジション<sub&gt; 23</sub&gt; Sbの<sub&gt; 7</sub&gt; S<sub&gt; 70</sub&gt;と同様に<sub&gt; 40</sub&gt; S<sub&gt; 60</sub&gt;カルコゲナイドガラスフィルム

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two ...

Monovalent Cation Doping of CH3NH3PbI3 for Efficient Perovskite Solar Cells

Here, we demonstrate the incorporation of monovalent cation additives into CH3NH3PbI3 perovskite in order to adjust the optical, excitonic, and electrical properties. The possibility of doping was investigated by adding monovalent cation halides with similar ionic radii to Pb2+, including Cu+, Na+, and Ag+. A shift in the Fermi level and a remarkable decrease of sub-bandgap optical absorption, along with a lower energetic disorder in the perovskite, was achieved. An order-of-magnitude enhancement in the bulk hole mobility and a significant reduction of transport activation energy within an additive-based perovskite device was attained. The confluence of the aforementioned improved properties in the presence of these cations led to an enhancement in the photovoltaic parameters of the perovskite solar cell. An increase of 70 mV in open circuit voltage for AgI and a 2 mA/cm2 improvement in photocurrent density for NaI- and CuBr-based solar cells were achieved compared to the pristine device. Our work paves the way for further improvements in the optoelectronic quality of CH3NH3PbI3 perovskite and subsequent devices. It highlights a new avenue for investigations on the role of dopant impurities in crystallization and controls the electronic defect density in perovskite structures.

Monovalent Cation Doping of CH3NH3PbI3 for Efficient Perovskite Solar Cells

Here, we present a protocol to adjust the properties of solution-processed CH3NH3PbI3 through the incorporation of monovalent cation additives in order to achieve highly efficient perovskite solar cells.

CHの一価の陽イオンドーピング<sub&gt; 3</sub&gt; NH<sub&gt; 3</sub&gt; PBI<sub&gt; 3</sub&gt;効率的なペロブスカイト太陽電池用

Here, we demonstrate the incorporation of monovalent cation additives into CH3NH3PbI3 perovskite in order to adjust the optical, excitonic, and electrical ...

Fabrication of Ultra-thin Color Films with Highly Absorbing Media Using Oblique Angle Deposition

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present an advanced method for fabricating ultra-thin color films with improved characteristics. The proposed process addresses several fabrication issues, including large area processing. Specifically, the protocol describes a process for fabricating ultra-thin color films using an electron beam evaporator for oblique angle deposition of germanium (Ge) and gold (Au) on silicon (Si) substrates.&#160; Film porosity produced by the oblique angle deposition induces color changes in the ultra-thin film. The degree of color change depends on factors such as deposition angle and film thickness. Fabricated samples of the ultra-thin color films showed improved color tunability and color purity. In addition, the measured reflectance of the fabricated samples was converted into chromatic values and analyzed in terms of color. Our ultra-thin film fabricating method is expected to be used for various ultra-thin film applications such as flexible color electrodes, thin film solar cells, and optical filters. Also, the process developed here for analyzing the color of the fabricated samples is broadly useful for studying various color structures.

We present a detailed method for fabricating ultra-thin color films with improved characteristics for optical coatings. The oblique angle deposition technique using an electron beam evaporator allows improved color tunability and purity. Fabricated films of Ge and Au on Si substrates were analyzed by reflectance measurements and color information conversion.

斜め蒸着を使用してメディアを高吸収極薄カラー フィルムの作製

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present ...