Preparation of PDMS Templates and Gel Film Deposition on SOI Substrates by Dip-Coating
2:55
Surface Micro/Nanostructuration by Soft Imprint Lithography and Gel Film Crystallization by Thermal Treatment
4:00
Preparing and Patterning of the Quartz Samples for the Cantilever Microfabrication Process
8:49
Results: Qualitative Analysis of the Progressive Epitaxial Nanostructured α-Quartz Film Thickness Developed on Silicon
10:20
Conclusion
Transcript
Nowadays, quartz-based sensors are limited by the miniaturization process and the monolithic integration of this material on silicon. These bottlenecks are now overcome with the first chemical integration of epitaxial requirements in the form of h
Sign in or start your free trial to access this content
يقدم هذا العمل بروتوكولًا مفصلًا للتكبير المجهري للمواد النانوية α الكوارتز على طبقة تكنولوجيا السيليكون أون عازل (SOI) بدءًا من النمو الإكسي للفيلم الكوارتز مع طريقة طلاء الانخفاض ثم إعادة تخطيط النانو للفيلم الرقيق عبر الطباعة الحجرية النانوية.