Pattern the Photoresist and Silicon Nitride‐Deposited Si Wafer (SixNy)
2:31
Etching the Si and Eliminating the KOH Etching Residues
3:21
Prepare the Micro‐Patterned SixNy and Eliminate the PR
4:25
Transfer Graphene Oxide (GO) by the Drop‐Casting Method
5:30
Results: Analysis of the Micro‐Patterned Chip with GO Windows
6:35
Conclusion
Transcript
פרוטוקול זה חשוב לוויסות עובי גודל התמונה בקנה מידה ננומטרי כדי לצפות בהצלחה בחלבונים ובחומרים ננומטריים בגדלים שונים באמצעות cryo EM. טכניקת הייצור של המם מאפשרת ייצור המוני של השבב. זה גם מאפשר בחירה של עומקים ועיצובים של בארות דפוס מיקרו. בהתאם
Sign in or start your free trial to access this content
שבב מיקרו-תבניתי שפותח לאחרונה עם חלונות תחמוצת גרפן מיוצר על ידי יישום טכניקות של מערכת מיקרואלקטרומכנית, המאפשרות הדמיה יעילה ובעלת תפוקה גבוהה של מיקרוסקופיית אלקטרונים קריוגנית בתפוקה גבוהה של ביומולקולות וננו-חומרים שונים.