Pattern the Photoresist and Silicon Nitride‐Deposited Si Wafer (SixNy)
2:31
Etching the Si and Eliminating the KOH Etching Residues
3:21
Prepare the Micro‐Patterned SixNy and Eliminate the PR
4:25
Transfer Graphene Oxide (GO) by the Drop‐Casting Method
5:30
Results: Analysis of the Micro‐Patterned Chip with GO Windows
6:35
Conclusion
Transcript
क्रायो ईएम का उपयोग करके विभिन्न आकारों के प्रोटीन और नैनो सामग्रियों का सफलतापूर्वक निरीक्षण करने के लिए नैनो पैमाने पर चित्र आकार की मोटाई को विनियमित करने के लिए यह प्रोटोकॉल महत्वपूर्ण है। मेम की निर्माण तकनीक माइक्रोचिप के बड़े पैमाने पर उत्प
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ग्राफीन ऑक्साइड खिड़कियों के साथ एक नव विकसित माइक्रो-पैटर्न वाली चिप को माइक्रोइलेक्ट्रोमैकेनिकल सिस्टम तकनीकों को लागू करके बनाया जाता है, जो विभिन्न बायोमोलेक्यूल्स और नैनोमैटेरियल्स के कुशल और उच्च-थ्रूपुट क्रायोजेनिक इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी इमेजिंग को सक्षम करता है।