Pattern the Photoresist and Silicon Nitride‐Deposited Si Wafer (SixNy)
2:31
Etching the Si and Eliminating the KOH Etching Residues
3:21
Prepare the Micro‐Patterned SixNy and Eliminate the PR
4:25
Transfer Graphene Oxide (GO) by the Drop‐Casting Method
5:30
Results: Analysis of the Micro‐Patterned Chip with GO Windows
6:35
Conclusion
Transcript
Denne protokollen er viktig for å regulere tykkelsen på bildestørrelsen på nanoskalaen for å kunne observere proteiner og nanomaterialer i forskjellige størrelser ved bruk av cryo EM. Mems fabrikasjonsteknikk tillater masseproduksjon av mikrochip.
Sign in or start your free trial to access this content
En nyutviklet mikromønstret brikke med grafenoksidvinduer fremstilles ved å bruke mikroelektromekaniske systemteknikker, noe som muliggjør effektiv og høy gjennomstrømning kryogen elektronmikroskopiavbildning av forskjellige biomolekyler og nanomaterialer.