This work performed under the auspices of the U.S. Department of Energy by Lawrence Livermore National Laboratory under Contract DE-AC52-07NA27344 within the LDRD program.

1. إعداد الملمع والطين أولا إعداد نظام تلميع متقاربة (وتسمى تحديدا C onvergent، I nitial سطح مستقل، S إنجل التكرار، R ogue الجسيمات مجاني الملمع أو CISR (وضوحا &quot;مقص &#39;)) 7،17 عن طريق تثبيت لوحة والحاجز، وتكييف لوحة، تمييع واستقرار كيميائيا الطين، وتتضمن الطين داخل نظام الترشيح. <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> على ملمع CISR، والتمسك لوحة البولي يوريثين على قاعدة من الجرانيت اللفة. الالتزام سادة حافة واحدة أولا وممارسة الضغط في الاتجاه نحو حافة معارضة لتقليل الفجوات الهواء. تقليم لوحة المتدلية ثم استخدام شفرة حلاقة وأسطوانات لثقب وإزالة فقاعات الهواء إذا لزم الأمر. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> للاستخدام مرة الأولى، وبعد كل ~ 100 حR من تلميع، وحالة الماس لوحة باستخدام مكيف الماس CMP (50 مم؛ 0.6 رطل ضغط تطبيقها، و5 دقائق يسكن في كل موقع اللفة شعاعي مع 25 ملم تباعد الزيادات، اللفة دوران 25 دورة في الدقيقة) مع الماء DI المتدفقة. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> بين التكرارات تلميع، وإزالة أي الطين والمنتجات الزجاجية المتبقية من لوحة باستخدام منظف في الموقع بالموجات فوق الصوتية (~ 2 دقيقة يسكن في كل موقع شعاعي، اللفة دوران 5 دورة في الدقيقة) مع الماء DI المتدفقة. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> على وزن الحاجز شكل فريد، والتمسك شريط مزدوج من جانب ورغوة ثم المواد الحاجز (على سبيل المثال، قبل قطع الزجاج أو غيرها من المواد غير يرتدي). تقليم أي الشريط رغوة المتدلية لتتناسب مع شكل مواد الحاجز والوزن. لاحظ تصميم الحاجز (سواء الشكل والوزن) يتغير لأحجام مختلفة من الشغل واللفة 7،17. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> إعداد تلميع الطين لبوم 4 تركيز (على وجه التحديد مزيج من حيث الحجم ~ 1 جزء أكسيد السيريوم تلميع الطين و~ 9 أجزاء منزوع الأيونات (DI) الماء في 11 L بوcket). تحقق بوم باستخدام تعويم بوم. إضافة ~ 5 مل من KOH (10 M) لضبط درجة الحموضة إلى 9.5 وإضافة ~ 120 مل (1 المجلد٪) من السطحي الملكية 19. إعادة ضبط درجة الحموضة وبوم كل 24 ساعة لتلميع. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> تثبيت دلو مع الطين مستعد في نظام الترشيح. ثم تثبيت المطلوب مرشحات الجسيمات CMP إلى نظام الترشيح. دعونا إعادة توزيع الطين داخل نظام الترشيح لعدة ساعات. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> قياس توزيع حجم الجسيمات من الطين (على سبيل المثال، وذلك باستخدام تقنيات الاستشعار عن جسيم واحد البصرية) لضمان ذيل التوزيع غير كاف 9،20 خالية من الجسيمات المارقة. </li></ol> 2. إعداد الشغل (فن الحفر وحجب) قبل تلميع، حفر كيميائيا كما وردت-الشغل الأرض غرامة لتقليل كمية إزالة المواد اللازمة لإزالة شبه السطحية طحن الضرر 21. ثم، منع الشغل (إذا كانت نسبة الارتفاع (أي طول / سمك) هو&gt; 10) باستخدام تقنية رواية زر الملعب حجب (PBB) لمنع الشغل من خلال منع الانحناء وتلميع 22. <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> حفر الشغل الأرض غرامة (تحديدا 265 X 265 × 8 مم 3 تنصهر فيها الزجاج السيليكا شقة) في خزان مملوء HF: NH 4 F (6: 1 مخزنة حفر أكسيد (البنك المركزي البريطاني) 3X المخفف بالماء DI) لمدة 6 ساعة إزالة 10 ميكرون من الزجاج من سطح الشغل. تنبيه! بنك انجلترا خطرة للغاية. ارتداء معدات الوقاية الشخصية المناسبة (PPE). إزالة الشغل من خزان حفر وشطف بقوة الشغل مع الماء DI والسماح الشغل إلى الهواء الجاف عموديا. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> تفقد الشغل عن الضرر العميق أثناء عملية الطحن باستخدام تفتيش الضوء الساطع في غرفة مظلمة. إذا تم العثور على أي ضرر عميق، انتقل إلى الخطوة التالية، وإلا ترسل الشغل إلى الخلف لإعادة طحن. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> تسخين حجب الملعب في مسدس الغراء إلى ~ 95 درجة مئوية ومكان قطرات (وتسمى أيضا أزرار) من الملعب (~ 0.06 ز) على وجهحجب لوحة في 9 × 9 مجموعة (81 الأزرار مع 26 ملم تباعد). للالشغل مختلفة الحجم، يرجى الرجوع إلى تصميم قواعد المثالي عدد وحجم والمباعدة زر الملعب (22). وضع لوحة حجب مع أزرار تطبيق تواجه يصل في فرن مسخن مسبقا في 70 درجة مئوية. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> تطبيق الشريط على وجهه من الشغل التي لا ينبغي مصقول. تجنب توليد فقاعات الهواء أو تمتد بشكل مفرط الشريط. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> وضع الشغل مع وجه الجانب الشريط أسفل على أزرار على لوحة حجب في الفرن. تغطية الشغل على زر لبنة للحد من تدفق الحمل الحراري. بعد 1.5 ساعة، تعيين الفرن ليبرد 10 درجة مئوية / ساعة إلى درجة حرارة الغرفة. بعد التبريد، يجب أن يكون سمك الملعب على الشغل منعت ~ 1 مم. </li></ol> 3. متقاربة تلميع <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> تشغيل نظام الرطوبة في الغرفة البيئية للCISR ملمع لمنع الطين من خلال تجفيف وتلميع وللتقليل من الجسيمات المارقة الخدش الشغل. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> الإضافيةطويل القامة وجبل الحاجز مصممة خصيصا وعلى استعداد في الملمع. تثبيت PBB الشغل إلى ملمع CISR وانخفاض الازدهار لعقد الشغل. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> الشغل البولندي على CISR لمدة 4 ساعة في اللفة والشغل معدل دوران متطابق من 25 دورة في الدقيقة مع السكتة الدماغية شعاعي من ~ 75 ملم ومع تدفق الطين من نظام الترشيح من 1 غال / دقيقة. ملاحظة: يقدم لوحة حجب أيضا باسم وزن التحميل على الشغل المقابلة إلى 0.6 رطل ضغط تطبيقها. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> إيقاف اللفة والشغل التناوب وتدفق الطين. إزالة PBB الشغل من CISR ملمع وsubmerse ذلك إلى DI المياه تملأ الحمام. يمسح سطح الشغل مع القماش غرف الأبحاث بينما المغمورة. إزالة PBB الشغل من الحمام ورذاذ يشطف بالماء DI. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> يشتت الشغل عن طريق إدخال الرقائق في واجهة الشغل كتلة. إزالة الشريط من سطح الشغل. شطف بقوة الشغل مع الماء DI والهواء الجاف. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> PBB مواجهة معارضة من الشغل كما هو موضح في القسم 2. ثم كرر بوالإجراء تترأسه كما هو موضح في القسم 3. </li></ol> 4. المقاييس والتفتيش <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> الاجراء يعكس واجهة الموجة (أي الرقم السطحية) من كلا الجانبين من الشغل وكذلك واجهة الموجة التي تنتقل عن طريق استخدام تداخل. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> جبل الشغل على مشرقة محطة التفتيش الضوء وقياس خصائص الصفر / حفر باستخدام أساليب تلفيق الضوئية القياسية. وحفر بنك انجلترا قصيرة من الشغل، كما هو موضح في الخطوة 2.1، يمكن أن تستخدم لكشف الخدوش الخفية للالشغل المستخدمة في تطبيقات الليزر فلوينس عالية. لقياس الخدوش غرامة أو خشونة في الشغل، المجهر الضوئي العادي أو ضوء التداخل الأبيض يمكن أن تستخدم. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> متجر الانتهاء الشغل في التقليل الحاوية على اتصال مع الوجه من الشغل. </li></ol>

<ol>
	<li>Anderson, D., Burge, J., Thompson, B., Malacara, D. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Ch+28.+Handbook+of+optical+engineering.">Ch 28. Handbook of optical engineering.</a> Optical fabrication. , (2001).</li><li>Karow, H. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=.">.</a> Fabrication Methods for Precision Optics. , (1993).</li><li>Brown, N. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=A+short+course+in+optical+fabrication+technology.">A short course in optical fabrication technology.</a> , (1981).</li><li>Cook, L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Chemical+processes+in+glass+polishing.">Chemical processes in glass polishing.</a> J. Non-Crystal. Solids. 120, 152-171 (1990).</li><li>Preston, F. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=The+Structure+of+Abraded+Glass+Surfaces.">The Structure of Abraded Glass Surfaces.</a> Trans. Opt. Soc. 23 (3), 141-14 (1922).</li><li>Suratwala, T., Feit, M., Steele, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Toward+Deterministic+Material+Removal+and+Surface+Figure+During+Fused+Silica+Pad+Polishing.">Toward Deterministic Material Removal and Surface Figure During Fused Silica Pad Polishing.</a> J. Am. Ceram. Soc. 93 (5), 1326-1340 (2010).</li><li>Suratwala, T., Steele, R., Feit, M., Desjardin, R., Mason, D. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Convergent+Pad+Polishing+of+amorphous+fused+silica.">Convergent Pad Polishing of amorphous fused silica.</a> International Journal of Applied Glass Science. 3 (1), 14-28 (2012).</li><li>Suratwala, T., Feit, M., Steele, R., Wong, L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Influence+of+Temperature+and+Material+Deposit+on+Material+Removal+Uniformity+during+Optical+Pad+Polishing.">Influence of Temperature and Material Deposit on Material Removal Uniformity during Optical Pad Polishing.</a> J. Am. Ceram. Soc. , (2014).</li><li>Suratwala, T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Microscopic+removal+function+and+the+relationship+between+slurry+particle+size+distribution+and+workpiece+roughness+during+pad+polishing.">Microscopic removal function and the relationship between slurry particle size distribution and workpiece roughness during pad polishing.</a> J. Am. Ceram. Soc. 91 (1), 81-91 (2014).</li><li>Terrell, E., Higgs, C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Hydrodynamics+of+Slurry+Flow+in+Chemical+Mechanical+Polishing.">Hydrodynamics of Slurry Flow in Chemical Mechanical Polishing.</a> J. Electrochem. Soc. 153 (6), 15-22 (2006).</li><li>Runnels, S., Eyman, L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Tribology+Analysis+of+Chemical+MechanicalPolishing.">Tribology Analysis of Chemical MechanicalPolishing.</a> J. Electrochem. Soc. 141 (6), 1698-1701 (1994).</li><li>Park, S., Cho, C., Ahn, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Hydrodynamic+Analysis+of+Chemical+Mechanical+Polishing+Process.">Hydrodynamic Analysis of Chemical Mechanical Polishing Process.</a> J. Tribology Int. 33, 723-730 (2000).</li><li>Luo, J., Dornfeld, D. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effects+of+Abrasive+Size+Distribution+in+Chemical+Mechanical+Planarization:+Modeling+and+Verification.">Effects of Abrasive Size Distribution in Chemical Mechanical Planarization: Modeling and Verification.</a> IEEE T. Semicond. M. 16 (3), 469-476 (2003).</li><li>Luo, J., Dornfeld, D. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Material+Removal+Mechanism+in+Chemical+Mechanical+Polishing:+Theory+and+Modeling.">Material Removal Mechanism in Chemical Mechanical Polishing: Theory and Modeling.</a> IEEE T. Semiconduct. M. 14, 112-133 (2001).</li><li>Bastaninejad, M., Ahmadi, G. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Modeling+the+Effects+of+Abrasive+Size+Distribution,+Adhesion,+and+Surface+Plastic+Deformation+on+Chemical+Mechanical+Polishing.">Modeling the Effects of Abrasive Size Distribution, Adhesion, and Surface Plastic Deformation on Chemical Mechanical Polishing.</a> J. Electrochem. Soc. 152 (9), 720-730 (2005).</li><li>Sampurno, Y., Sudargho, F., Zhuang, Y., Ashizawa, T., Morishima, H., Philipossian, A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effect+of+Cerium+Oxide+Particles+Sizes+in+Oxide+Chemical+Mechanical+Planarization.">Effect of Cerium Oxide Particles Sizes in Oxide Chemical Mechanical Planarization.</a> Electrochem. Solid State. 12 (6), 191-194 (2009).</li><li>Suratwala, T., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Method+and+system+for+Convergent+Polishing.">Method and system for Convergent Polishing.</a> US Provisional Patent Application. , (2011).</li><li>Suratwala, T., Feit, M., Steele, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Apparatus+and+Method+for+Deterministic+Control+of+Surface+Figure+During+Full+Aperture+Polishing.">Apparatus and Method for Deterministic Control of Surface Figure During Full Aperture Polishing.</a> US Patent Application. US. , (2010).</li><li>Dylla-Spears, R., Feit, M., Miller, P., Steele, R., Suratwala, T., Wong, L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Method+for+preventing+agglomeration+of+charged+colloids+without+loss+of+surface+activity.">Method for preventing agglomeration of charged colloids without loss of surface activity.</a> US Provisional Patent Application. , (2012).</li><li>Dylla-Spears, R., Wong, L., Miller, P., Feit, M., Steele, R., Suratwala, T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Charged+Micelle+Halo+Mechanism+for+Agglomeration+Reduction+in+Metal+Oxide+Particle+Based+Polishing+Slurries.">Charged Micelle Halo Mechanism for Agglomeration Reduction in Metal Oxide Particle Based Polishing Slurries.</a> Colloid Surface A. 447, 32-43 (2014).</li><li>Wong, L., Suratwala, T., Feit, M., Miller, P., Steele, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=The+Effect+of+HF/NH4F+Etching+on+the+Morphology+of+Surface+Fractures+on+Fused+Silica.">The Effect of HF/NH4F Etching on the Morphology of Surface Fractures on Fused Silica.</a> J. Non-Crystal. Solids. 355, 797 (2009).</li><li>Feit, M., DesJardin, R., Steele, R., Suratwala, T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Optimized+pitch+button+blocking+for+polishing+high-aspect-ratio+optics.">Optimized pitch button blocking for polishing high-aspect-ratio optics.</a> Appl. Opt. 51 (35), 8350-8359 (2013).</li><li>Suratwala, T., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Sub-surface+mechanical+damage+distributions+during+grinding+of+fused+silica.">Sub-surface mechanical damage distributions during grinding of fused silica.</a> J. Non-Crystal. Solids. 352, 5601 (2006).</li><li>Miller, P., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=The+Distribution+of+Sub-surface+Damage+in+Fused+Silica.">The Distribution of Sub-surface Damage in Fused Silica.</a> SPIE. 5991, (2005).</li><li>Suratwala, T., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effect+of+Rogue+particles+on+the+sub-surface+damage+of+fused+silica+during+grinding/polishing.">Effect of Rogue particles on the sub-surface damage of fused silica during grinding/polishing.</a> J. Non-Crystal. Solids. 354, 2003 (2008).</li><li>Suratwala, T., Miller, P., Ehrmann, P., Steele, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Polishing+slurry+induced+surface+haze+on+phosphate+laser+glasses.">Polishing slurry induced surface haze on phosphate laser glasses.</a> J. Non-Crystal. Solids. 351, 2091-2101 (2004).</li></ol>

The authors have nothing to disclose.

كما جاء في المقدمة، والتنفيذ الناجح لتلميع متقاربة فيما يتعلق السطح الرقم يشمل القضاء أو التقليل من كل الظواهر التي تؤثر المكاني المادي عدم تماثله إلا أنه من الشغل في اللفة بسبب عدم تطابق شكل الشغل. إذا كان أي واحد من هذه الظواهر لا ينحصر بشكل مناسب، إما من خلال التحك...

وتشمل الخطوات الرئيسية في عملية تصنيع البصرية نموذجية تشكيل، طحن، تلميع الكامل الفتحة، وأحيانا أداة صغيرة تلميع 1-3. مع تزايد الطلب على المكونات البصرية عالية الجودة لنظم التصوير والليزر، كانت هناك تطورات كبيرة في تلفيق البصرية على مدى العقود القليلة الماضية. على سبيل المثال، والدقة، وإزالة المواد القطعية ممكنة الآن خلال تشكيل وعمليات طحن مع التقدم في الحاسوب العددي التحكم آلات تشكيل (CNC) الزجاج. وبالمثل، تقنيات تلميع أداة صغيرة (على سبيل المثال، الكمبيوتر التي تسيطر عليها تطفو على السطح البصري (CCOS)، أيون الاعتقاد، ومغناطيسي الانسيابية التشطيب (MRF)) أدت إلى إزالة المواد حتمية والسيطرة الرقم السطح، مما يؤثر بشدة على صناعة تصنيع البصرية. ومع ذلك، فإن خطوة وسيطة في عملية التشطيب، كامل فتحة تلميع، لا تزال تفتقر الحتمية عالية، الأمر الذي يتطلب عادة opticia المهرةنانوثانية لتنفيذ متعددة، وغالبا طويلة، دورات متكررة مع التغيرات عملية متعددة لتحقيق هذا الرقم إلى السطح المطلوب 1-3. جعلت عدد كبير من وسائل تلميع، متغيرات العملية، والكيميائية المعقدة والتفاعلات الميكانيكية بين الشغل، اللفة والطين 3-4 صعوبة في تحويل تلميع البصرية من &#39;الفن&#39; إلى العلم. لتحقيق حتمية فتحة تلميع الكامل، ومعدل إزالة المواد يجب أن يكون مفهوما بشكل جيد. تاريخيا، وقد وصفت معدل إزالة المواد عن طريق المعادلة بريستون تستخدم على نطاق واسع 5 <img alt="المعادلة 1" fo:content-width="1in" fo:src="/files/ftp_upload/51965/51965eqn1.jpg" src="/files/ftp_upload/51965/51965eqn1.jpg" width="100px" /> (1) حيث درهم / دينارا هو متوسط ​​معدل إزالة سمك، ك ع هو ثابت بريستون، σ o غيرالضغوط التي مورست، وV r هي متوسط ​​السرعة النسبية بين الشغل واللفة الشكل 1 يصور تخطيطي المفاهيم الفيزيائية التي تؤثر على معدل إزالة المواد كما هو موضح في بريستون معادلة، بما في ذلك الاختلافات المكانية والزمانية في السرعة والضغط، والاختلافات بين الضغوط التي مورست وتوزيع الضغط الذي تجارب الشغل، وآثار الاحتكاك 6-8. على وجه الخصوص، ويخضع توزيع الضغط الفعلي الذي يعيشه الشغل من قبل عدد من الظواهر (وصفها بالتفصيل في مكان آخر 6-8) التي تؤثر بقوة مما أدى الرقم سطح الشغل. أيضا، في بريستون المعادلة، يتم طي الآثار المجهرية والجزيئية مستوى إلى حد كبير في بريستون ثابتة العيانية (ك ع)، والتي تؤثر على مجمل معدل المواد الإزالة، خشونة الصغيرة، وحتى الخدش على الشغل. توسعت الدراسات المختلفة نموذج بريستون لحساب<html> لالطين المجهري الجسيمات وسادة-الشغل التفاعلات لشرح مواد معدل إزالة وmicroroughness 9-16. لتحقيق السيطرة القطعية من الرقم السطح خلال كامل فتحة تلميع، كل من الظواهر المذكورة أعلاه يجب أن يكون مفهوما، كميا وتسيطر ذلك الحين. استراتيجية وراء متقاربة تلميع هي للقضاء أو التقليل الأسباب غير مرغوب فيها من إزالة المواد غير موحدة، سواء من خلال هندستها التصميم ملمع أو عن طريق التحكم في العمليات، مثل أن إزالة مدفوعة فقط من قبل عدم تطابق الشغل لفة بسبب شكل الشغل 7،17- 18. ويوضح الشكل 2 كيف يمكن أن يؤدي إلى شكل الشغل التقارب على أساس الشغل في اللفة مفهوم عدم تطابق. النظر في اللفة مسطحة والشغل افتراضية من شكل معقد يظهر في أعلى اليسار. فمنها ارتفاع واجهة (ويشار إلى هذه الفجوة، Δh ر أ) يؤثر على توزيع الضغط واجهة (σ) على النحو التالي: المحتوى &quot;FO: المحافظة على together.within صفحة =&quot; دائما &quot;&gt; <img alt="المعادلة 2" fo:content-width="1in" fo:src="/files/ftp_upload/51965/51965eqn2.jpg" src="/files/ftp_upload/51965/51965eqn2.jpg" width="100px" /> (2) حيث h هو ثابت واصفا المعدل الذي الضغط ينخفض ​​مع زيادة في الفجوة Δh OL 6. في هذا المثال، الشغل لديها أعلى ضغط المحليين في مركز (انظر الجزء السفلي الأيسر من الشكل 2)، وبالتالي هذا الموقع سوف نلاحظ أعلى معدل إزالة المواد الأولية خلال تلميع. كما تتم إزالة المواد، والفرق الضغط عبر الشغل الانخفاض يرجع إلى انخفاض في عدم تطابق الشغل في اللفة، وسوف الشغل تتلاقى على شكل اللفة. في التقارب، وتوزيع ضغط الشغل، وبالتالي إزالة المادية، وسوف تكون موحدة في جميع أنحاء الشغل (انظر الجانب الأيمن من الشكل 2). ويتضح هذا المثال لحضن مسطحة، howevإيه، وينطبق نفس المفهوم لحضن كروية (إما مقعرة أو محدبة). مرة أخرى، هذه عملية التقارب يعمل فقط إذا تم القضاء على كل الظواهر الأخرى التي تؤثر المكاني المادي عدم تماثله. ووصف التخفيف الإجرائية وهندسية محددة تنفذ في بروتوكول تلميع متقاربة في مناقشة. بروتوكول صفها في الدراسة التالية هي عملية متقاربة تلميع خصيصا ل26.5 سم مربع تنصهر الشغل زجاج السيليكا بدءا من سطح الأرض على ما يرام. في 8 ساعات من تلميع (4 ساعات / السطح)، وهذا يمكن الشغل تحقيق التسطيح مصقول من ~ λ / 2 مع نوعية السطح عالية جدا (أي منخفضة الكثافة الصفر).

<table border="0" cellpadding="0" cellspacing="0" width="634">
	<tbody>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:251px;">Name of Material/Equipment</td>
			<td style="width:245px;">Company</td>
			<td style="width:139px;">Catalog Number</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">MHN 50 mil Polyurethane Pad&#160;</td>
			<td>Eminess Technologies</td>
			<td>PF-MHN15A050L-56</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Cerium oxide polishing slurry</td>
			<td>Universal Photonics</td>
			<td>HASTILITE PO</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td dir="LTR" height="21" style="height:21px;width:251px;">Septum Glass (waterjet cut)</td>
			<td dir="LTR" style="width:245px;">Borofloat ; Schott&#160;</td>
			<td dir="LTR" style="width:139px;">NA</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Diamond conditioner</td>
			<td>Morgan Advanced Ceramics&#160;</td>
			<td>CMP-25035-SFT</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Ultrasonic Cleaner</td>
			<td>Advanced Sonics Processing System</td>
			<td>URC4</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Purification Optima Filter cartridge</td>
			<td>3M</td>
			<td>CMP560P10FC</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Blocking Pitch</td>
			<td>Universal Photonics</td>
			<td>BP1</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Blocking Tape</td>
			<td>3M</td>
			<td>#4712</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Cleanroom Cloth</td>
			<td>ITW Texwipe</td>
			<td>AlphaWipe TX1013</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Single Particle Optical Sensing</td>
			<td>Paritcle Sizing Systems</td>
			<td>Accusizer 780 AD</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

convergent polishing: a simple, rapid, full aperture polishing process of high quality optical flats &amp; spheres

المتقاربة تلميع هو نظام رواية تلميع وطريقة لإنهاء البصريات الزجاج المسطح وكروية فيه الشغل، مستقلة عن شكله الأولي (أي الرقم السطح)، سوف تتلاقى على الرقم سطح النهائي مع نوعية ممتازة تحت السطح، مجموعة ثابت ثابت تلميع المعلمات في التكرار تلميع واحد. في المقابل، طرق تلميع الفتحة الكاملة التقليدية تتطلب متعددة في كثير من الأحيان طويلة، دورات، التكرارية التي تنطوي على تلميع والمقاييس وعملية التغييرات لتحقيق الرقم المطلوب السطح. وتستند عملية متقاربة تلميع على مفهوم الشغل في اللفة ارتفاع عدم تطابق مما أدى إلى الضغط التفاضلي الذي يؤدي إلى انخفاض مع إزالة والنتائج في الشغل المتقاربة لشكل اللفة. تنفيذ الناجح لعملية متقاربة تلميع هو نتيجة لمزيج من عدد من التقنيات لإزالة جميع مصادر غير موحدة إزالة المواد المكانية (باستثناء الشغل في اللفةعدم تطابق) لشخصية سطح التقارب والحد من عدد الجسيمات المارقة في نظام لكثافة الصفر منخفضة وانخفاض خشونة. وقد تجلى عملية متقاربة تلميع لتصنيع كل من الشقق ومجالات مختلفة الأشكال والأحجام، ونسب على المواد الزجاجية المختلفة. الأثر العملي هو أن مكونات عالية الجودة البصرية يمكن أن تكون ملفقة بسرعة أكبر، وأكثر مرارا وتكرارا، مع أقل المقاييس، وبعدد أقل من العمالة، مما أدى إلى انخفاض تكاليف الوحدة. في هذه الدراسة، وصفت بروتوكول متقاربة تلميع خصيصا لافتعال 26.5 سم تنصهر مربع الشقق السيليكا من سطح الأرض على ما يرام إلى ~ λ / 2 الرقم سطح مصقول بعد تلميع 4 ساعة في السطح على 81 سم قطرها الملمع.

وصف بروتوكول متقاربة تلميع فوق يسمح أرضية تنصهر السيليكا الشغل (في هذه الحالة 26.5 سم مربع) ليتم مصقول، في تكرار واحد من 4 ساعات في السطح، إلى التسطيح الذروة إلى الوادي من ~ λ / 2 (~ 330 نانومتر) لانخفاض الشغل نسبة الارتفاع و~ 1λ (~ 633 نانومتر) لجانب ارتفاع نسبة الشغل (انظر ا?...

Watch this Scientific Journal Video about Convergent Polishing: A Simple, Rapid, Full Aperture Polishing Process of High Quality Optical Flats & Spheres at JoVE.com

Convergent Polishing: A Simple, Rapid, Full Aperture Polishing Process of High Quality Optical Flats &amp; Spheres

A novel optical polishing process, called &#8220;Convergent Polishing&#8221;, which enables faster, lower cost polishing, is described. Unlike conventional polishing processes, Convergent Polishing allows a glass workpiece to be polished in a single iteration and with high surface quality to its final surface figure without requiring changes to polishing parameters.

المتقاربة تلميع: بسيطة، عملية سريعة، فتحة كاملة تلميع عالية الجودة البصرية شقق و المجالات

Convergent Polishing is a novel polishing system and method for finishing flat and spherical glass optics in which a workpiece, independent of its initial ...

convergent-polishing-simple-rapid-full-aperture-polishing-process

Research

JoVE Journal

Engineering

11.0K Views.  Lawrence Livermore National Laboratory. A novel optical polishing process, called “Convergent Polishing”, which enables faster, lower cost polishing, is described. Unlike conventional polishing processes, Convergent Polishing allows a glass workpiece to be polished in a single iteration and with high surface quality to its final surface figure without requiring changes to polishing parameters.

Video: Convergent Polishing: A Simple, Rapid, Full Aperture Polishing Process of High Quality Optical Flats & Spheres

Fabrication of Silica Ultra High Quality Factor Microresonators

Whispering gallery resonant cavities confine light in circular orbits at their periphery.1-2 The photon storage lifetime in the cavity, quantified by the quality factor (Q) of the cavity, can be in excess of 500ns for cavities with Q factors above 100 million. As a result of their low material losses, silica microcavities have demonstrated some of the longest photon lifetimes to date1-2. Since a portion of the circulating light extends outside the resonator, these devices can also be used to probe the surroundings. This interaction has enabled numerous experiments in biology, such as single molecule biodetection and antibody-antigen kinetics, as well as discoveries in other fields, such as development of ultra-low-threshold microlasers, characterization of thin films, and cavity quantum electrodynamics studies.3-7
The two primary silica resonant cavity geometries are the microsphere and the microtoroid. Both devices rely on a carbon dioxide laser reflow step to achieve their ultra-high-Q factors (Q&gt;100 million).1-2,8-9 However, there are several notable differences between the two structures. Silica microspheres are free-standing, supported by a single optical fiber, whereas silica microtoroids can be fabricated on a silicon wafer in large arrays using a combination of lithography and etching steps. These differences influence which device is optimal for a given experiment.
Here, we present detailed fabrication protocols for both types of resonant cavities. While the fabrication of microsphere resonant cavities is fairly straightforward, the fabrication of microtoroid resonant cavities requires additional specialized equipment and facilities (cleanroom). Therefore, this additional requirement may also influence which device is selected for a given experiment.
Introduction
An optical resonator efficiently confines light at specific wavelengths, known as the resonant wavelengths of the device. 1-2 The common figure of merit for these optical resonators is the quality factor or Q. This term describes the photon lifetime (&tau;o) within the resonator, which is directly related to the resonator's optical losses. Therefore, an optical resonator with a high Q factor has low optical losses, long photon lifetimes, and very low photon decay rates (1/&tau;o). As a result of the long photon lifetimes, it is possible to build-up extremely large circulating optical field intensities in these devices. This very unique property has allowed these devices to be used as laser sources and integrated biosensors.10
A unique sub-class of resonators is the whispering gallery mode optical microcavity. In these devices, the light is confined in circular orbits at the periphery. Therefore, the field is not completely confined within the device, but evanesces into the environment. Whispering gallery mode optical cavities have demonstrated some of the highest quality factors of any optical resonant cavity to date.9,11 Therefore, these devices are used throughout science and engineering, including in fundamental physics studies and in telecommunications as well as in biodetection experiments. 3-7,12
Optical microcavities can be fabricated from a wide range of materials and in a wide variety of geometries. A few examples include silica and silicon microtoroids, silicon, silicon nitride, and silica microdisks, micropillars, and silica and polymer microrings.13-17 The range in quality factor (Q) varies as dramatically as the geometry. Although both geometry and high Q are important considerations in any field, in many applications, there is far greater leverage in boosting device performance through Q enhancement. Among the numerous options detailed previously, the silica microsphere and the silica microtoroid resonator have achieved some of the highest Q factors to date.1,9 Additionally, as a result of the extremely low optical loss of silica from the visible through the near-IR, both microspheres and microtoroids are able to maintain their Q factors over a wide range of testing wavelengths.18 Finally, because silica is inherently biocompatible, it is routinely used in biodetection experiments.
In addition to high material absorption, there are several other potential loss mechanisms, including surface roughness, radiation loss, and contamination loss.2 Through an optimization of the device size, it is possible to eliminate radiation losses, which arise from poor optical field confinement within the device. Similarly, by storing a device in an appropriately clean environment, contamination of the surface can be minimized. Therefore, in addition to material loss, surface scattering is the primary loss mechanism of concern.2,8
In silica devices, surface scattering is minimized by using a laser reflow technique, which melts the silica through surface tension induced reflow. While spherical optical resonators have been studied for many years, it is only with recent advances in fabrication technologies that researchers been able to fabricate high quality silica optical toroidal microresonators (Q&gt;100 million) on a silicon substrate, thus paving the way for integration with microfluidics.1
The present series of protocols details how to fabricate both silica microsphere and microtoroid resonant cavities. While silica microsphere resonant cavities are well-established, microtoroid resonant cavities were only recently invented.1 As many of the fundamental methods used to fabricate the microsphere are also used in the more complex microtoroid fabrication procedure, by including both in a single protocol it will enable researchers to more easily trouble-shoot their experiments.

We describe the use of a carbon dioxide laser reflow technique to fabricate silica resonant cavities, including free-standing microspheres and on-chip microtoroids. The reflow method removes surface imperfections, allowing long photon lifetimes within both devices. The resulting devices have ultra high quality factors, enabling applications ranging from telecommunications to biodetection.

تلفيق من السيليكا عالية جدا Microresonators عامل الجودة

Whispering gallery resonant cavities confine light in circular orbits at their periphery.1-2 The photon storage lifetime in the cavity, quantified by the ...

Process of Making Three-dimensional Microstructures using Vaporization of a Sacrificial Component

Vascular structures in natural systems are able to provide high mass transport through high surface areas and optimized structure. Few synthetic material fabrication techniques are able to mimic the complexity of these structures while maintaining scalability. The Vaporization of a Sacrificial Component (VaSC) process is able to do so. This process uses sacrificial fibers as a template to form hollow, cylindrical microchannels embedded within a matrix. Tin (II) oxalate (SnOx) is embedded within poly(lactic) acid (PLA) fibers which facilitates the use of this process. The SnOx catalyzes the depolymerization of the PLA fibers at lower temperatures. The lactic acid monomers are gaseous at these temperatures and can be removed from the embedded matrix at temperatures that do not damage the matrix. Here we show a method for aligning these fibers using micromachined plates and a tensioning device to create complex patterns of three-dimensionally arrayed microchannels. The process allows the exploration of virtually any arrangement of fiber topologies and structures.

The Vaporization of a Sacrificial Component (VaSC) process is used to fabricate microvascular structures. This procedure uses sacrificial poly(lactic) acid fibers to form hollow microchannels with precise 3D geometric positioning provided by laser micromachined guide plates.

عملية صنع المجهرية ثلاثي الأبعاد باستخدام تبخير مكون قرباني

Vascular structures in natural systems are able to provide high mass transport through high surface areas and optimized structure. Few synthetic material ...

Construction of a High Resolution Microscope with Conventional and Holographic Optical Trapping Capabilities

High resolution microscope systems with optical traps allow for precise manipulation of various refractive objects, such as dielectric beads 1 or cellular organelles 2,3, as well as for high spatial and temporal resolution readout of their position relative to the center of the trap. The system described herein has one such "traditional" trap operating at 980 nm. It additionally provides a second optical trapping system that uses a commercially available holographic package to simultaneously create and manipulate complex trapping patterns in the field of view of the microscope 4,5 at a wavelength of 1,064 nm. The combination of the two systems allows for the manipulation of multiple refractive objects at the same time while simultaneously conducting high speed and high resolution measurements of motion and force production at nanometer and piconewton scale.

The system described herein employs a traditional optical trap as well as an independent holographic optical trapping line, capable of creating and manipulating multiple traps. This allows for the creation of complex geometric arrangements of refractive particles while also permitting simultaneous high-speed, high-resolution measurements of the activity of biological enzymes.

بناء مجهر عالي الدقة مع التقليدية والتصوير المجسم قدرات ملائمة بصري

High resolution microscope systems with optical traps allow for precise manipulation of various refractive objects, such as dielectric beads 1 or cellular ...

The Generation of Higher-order Laguerre-Gauss Optical Beams for High-precision Interferometry

Thermal noise in high-reflectivity mirrors is a major impediment for several types of high-precision interferometric experiments that aim to reach the standard quantum limit or to cool mechanical systems to their quantum ground state. This is for example the case of future gravitational wave observatories, whose sensitivity to gravitational wave signals is expected to be limited in the most sensitive frequency band, by atomic vibration of their mirror masses. One promising approach being pursued to overcome this limitation is to employ higher-order Laguerre-Gauss (LG) optical beams in place of the conventionally used fundamental mode. Owing to their more homogeneous light intensity distribution these beams average more effectively over the thermally driven fluctuations of the mirror surface, which in turn reduces the uncertainty in the mirror position sensed by the laser light.
We demonstrate a promising method to generate higher-order LG beams by shaping a fundamental Gaussian beam with the help of diffractive optical elements. We show that with conventional sensing and control techniques that are known for stabilizing fundamental laser beams, higher-order LG modes can be purified and stabilized just as well at a comparably high level. A set of diagnostic tools allows us to control and tailor the properties of generated LG beams. This enabled us to produce an LG beam with the highest purity reported to date. The demonstrated compatibility of higher-order LG modes with standard interferometry techniques and with the use of standard spherical optics makes them an ideal candidate for application in a future generation of high-precision interferometry.

Large laser-interferometers are being constructed to create a new type of astronomy based on gravitational waves. Their sensitivities, as for many other high-precision experiments, are approaching fundamental noise limits such as the atomic vibration of their components. We are pioneering technologies to overcome these limits using novel laser beam shapes.

توليد العليا أجير-غاوس الأشعة الضوئية لقياس التداخل عالية الدقة

Thermal noise in high-reflectivity mirrors is a major impediment for several  types of high-precision interferometric experiments that aim to reach the  ...

Fabrication Process of Silicone-based Dielectric Elastomer Actuators

This contribution demonstrates the fabrication process of dielectric elastomer transducers (DETs). DETs are stretchable capacitors consisting of an elastomeric dielectric membrane sandwiched between two compliant electrodes. The large actuation strains of these transducers when used as actuators (over 300% area strain) and their soft and compliant nature has been exploited for a wide range of applications, including electrically tunable optics, haptic feedback devices, wave-energy harvesting, deformable cell-culture devices, compliant grippers, and propulsion of a bio-inspired fish-like airship. In most cases, DETs are made with a commercial proprietary acrylic elastomer and with hand-applied electrodes of carbon powder or carbon grease. This combination leads to non-reproducible and slow actuators exhibiting viscoelastic creep and a short lifetime. We present here a complete process flow for the reproducible fabrication of DETs based on thin elastomeric silicone films, including casting of thin silicone membranes, membrane release and prestretching, patterning of robust compliant electrodes, assembly and testing. The membranes are cast on flexible polyethylene terephthalate (PET) substrates coated with a water-soluble sacrificial layer for ease of release. The electrodes consist of carbon black particles dispersed into a silicone matrix and patterned using a stamping technique, which leads to precisely-defined compliant electrodes that present a high adhesion to the dielectric membrane on which they are applied.

This manuscript shows the fabrication process for the manufacture of dielectric elastomer soft actuators based on silicone membranes. The three key stages of production are presented in detail: blade casting of thin silicone membranes; pad printing of compliant electrodes; and the assembly of all the components.

عملية تصنيع عازل المرنة الأجهزة التنفيذية القائمة على السيليكون

This contribution demonstrates the fabrication process of dielectric elastomer transducers (DETs). DETs are stretchable capacitors consisting of an ...

Adsorption Device Based on a Langatate Crystal Microbalance for High Temperature High Pressure Gas Adsorption in Zeolite H-ZSM-5

We present a high-temperature and high-pressure gas adsorption measurement device based on a high-frequency oscillating microbalance (5 MHz langatate crystal microbalance, LCM) and its use for gas adsorption measurements in zeolite H-ZSM-5. Prior to the adsorption measurements, zeolite H-ZSM-5 crystals were synthesized on the gold electrode in the center of the LCM, without covering the connection points of the gold electrodes to the oscillator, by the steam-assisted crystallization (SAC) method, so that the zeolite crystals remain attached to the oscillating microbalance while keeping good electroconductivity of the LCM during the adsorption measurements. Compared to a conventional quartz crystal microbalance (QCM) which is limited to temperatures below 80 &#176;C, the LCM can realize the adsorption measurements in principle at temperatures as high as 200-300 &#176;C (i.e., at or close to the reaction temperature of the target application of one-stage DME synthesis from the synthesis gas), owing to the absence of crystalline-phase transitions up to its melting point (1,470 &#176;C). The system was applied to investigate the adsorption of CO2, H2O, methanol and dimethyl ether (DME), each in the gas phase, on zeolite H-ZSM-5 in the temperature and pressure range of 50-150 &#176;C and 0-18 bar, respectively. The results showed that the adsorption isotherms of these gases in H-ZSM-5 can be well fitted by Langmuir-type adsorption isotherms. Furthermore, the determined adsorption parameters, i.e., adsorption capacities, adsorption enthalpies, and adsorption entropies, compare well to literature data. In this work, the results for CO2 are shown as an example.

A protocol for high-temperature and high-pressure gas adsorption measurements on zeolite H-ZSM-5 using an adsorption measurement device based on a langatate crystal microbalance is presented. Prior to the adsorption measurements, the synthesis of zeolite H-ZSM-5 on the langatate crystal microbalance sensor by the steam-assisted crystallization (SAC) method is demonstrated.

جهاز الامتصاص واستنادا إلى Langatate كريستال توازن دقيق لدرجة حرارة عالية الضغط العالي امتزاز الغاز في الزيوليت H-ZSM-5

We present a high-temperature and high-pressure gas adsorption measurement device based on a high-frequency oscillating microbalance (5 MHz langatate ...

Challenges in Rheological Characterization of Highly Concentrated Suspensions &#8212; A Case Study for Screen-printing Silver Pastes

A comprehensive rheological characterization of highly concentrated suspensions or pastes is mandatory for a targeted product development meeting the manifold requirements during processing and application of such complex fluids. In this investigation, measuring protocols for a conclusive assessment of different process relevant rheological parameters have been evaluated. This includes the determination of yield stress, viscosity, wall slip velocity, structural recovery after large deformation and elongation at break as well as tensile force during filament stretching.
The importance of concomitant video recordings during parallel-plate rotational rheometry for a significant determination of rheological quantities is demonstrated. The deformation profile and flow field at the sample edge can be determined using appropriate markers. Thus, measurement parameter settings and plate roughness values can be identified for which yield stress and viscosity measurements are possible. Slip velocity can be measured directly and measuring conditions at which plug flow, shear banding or sample spillover occur can be identified clearly. 
Video recordings further confirm that the change in shear moduli observed during three stage oscillatory shear tests with small deformation amplitude in stage I and III but large oscillation amplitude in stage II can be directly attributed to structural break down and recovery. For the pastes investigated here, the degree of irreversible, shear-induced structural change increases with increasing deformation amplitude in stage II until a saturation is reached at deformations corresponding to the crossover of G' and G'', but the irreversible damage is independent of the duration of large amplitude shear. 
A capillary breakup elongational rheometer and a tensile tester have been used to characterize deformation and breakup behavior of highly filled pastes in uniaxial elongation. Significant differences were observed in all experiments described above for two commercial screen-printing silver pastes used for front side metallization of Si-solar cells.

Challenges in Rheological Characterization of Highly Concentrated Suspensions &amp;#8212; A Case Study for Screen-printing Silver Pastes

A protocol for a robust and application relevant rheological characterization of highly concentrated suspensions is presented. Silver pastes used for screen-printing application in solar cell production are employed as model systems.

التحديات في الريولوجية توصيف المعلقات عالية التركيز - دراسة حالة ل-طباعة الشاشة الفضية المعاجين

A comprehensive rheological characterization of highly concentrated suspensions or pastes is mandatory for a targeted product development meeting the ...

Method for Recording Broadband High Resolution Emission Spectra of Laboratory Lightning Arcs

Lightning is one of the most common and destructive forces in nature and has long been studied using spectroscopic techniques, first with traditional camera film methods and then digital camera technology, from which several important characteristics have been derived. However, such work has always been limited due to the inherently random and non-repeatable nature of natural lightning events in the field. Recent developments in lightning test facilities now allow the reproducible generation of lightning arcs within controlled laboratory environments, providing a test bed for the development of new sensors and diagnostic techniques to understand lightning mechanisms better. One such technique is a spectroscopic system using digital camera technology capable of identifying the chemical elements with which the lightning arc interacts, with these data then being used to derive further characteristics. In this paper, the spectroscopic system is used to obtain the emission spectrum from a 100 kA peak, 100 &#181;s duration lightning arc generated across a pair of hemispherical tungsten electrodes separated by a small air gap. To maintain a spectral resolution of less than 1 nm, several individual spectra were recorded across discrete wavelength ranges, averaged, stitched, and corrected to produce a final composite spectrum in the 450 nm (blue light) to 890 nm (near infrared light) range. Characteristic peaks within the data were then compared to an established publicly available database to identify the chemical element interactions. This method is readily applicable to a variety of other light emitting events, such as fast electrical discharges, partial discharges, and sparking in electrical equipment, apparatus, and systems.

Emission spectroscopy techniques have traditionally been used to analyze inherently random lightning arcs occurring in nature. In this paper, a method developed to obtain the emission spectroscopy from reproducible lightning arcs generated within a laboratory environment is described.

طريقة لتسجيل النطاق العريض عالية الدقة الأطياف الانبعاثات من أقواس البرق المختبر

Lightning is one of the most common and destructive forces in nature and has long been studied using spectroscopic techniques, first with traditional ...

Atomic Layer Deposition of Vanadium Dioxide and a Temperature-dependent Optical Model

Vanadium dioxide is a material that has a reversible metal-insulator phase change near 68 &#176;C. To grow VO2 on a wide variety of substrates, with wafer-scale uniformity and angstrom level control of thickness, the method of atomic-layer deposition was chosen. This ALD process enables high-quality, low-temperature (&#8804;150 &#176;C) growth of ultrathin films (100-1000 &#197;) of VO2. For this demonstration, the VO2 films were grown on sapphire substrates. This low temperature growth technique produces mostly amorphous VO2 films. A subsequent anneal in an ultra-high vacuum chamber with a pressure of 7x10-4 Pa of ultra-high purity (99.999%) oxygen produced oriented, polycrystalline VO2 films. The crystallinity, phase, and strain of the VO2 were determined by Raman spectroscopy and X-ray diffraction, while the stoichiometry and impurity levels were determined by X-ray photoelectron spectroscopy, and finally the morphology was determined by atomic force microscopy. These data demonstrate the high-quality of the films grown by this technique. A model was created to fit to the data for VO2 in its metallic and insulating phases in the near infrared spectral region. The permittivity and refractive index of the ALD VO2 agreed well with the other fabrication methods in its insulating phase, but showed a difference in its metallic state. Finally, the analysis of the films&#39; optical properties enabled the creation of a wavelength- and temperature-dependent model of the complex optical refractive index for developing VO2 as a tunable refractive index material.

Thin films (100-1000 &#197;) of vanadium dioxide (VO2) were created by atomic-layer deposition (ALD) on sapphire substrates. Following this, the optical properties were characterized through the metal-insulator transition of VO2. From the measured optical properties, a model was created to describe the tunable refractive index of VO2.

ترسيب طبقة الذرية ثاني أكسيد الفاناديوم ونموذج بصرية تعتمد على درجة الحرارة

Vanadium dioxide is a material that has a reversible metal-insulator phase change near 68 &#176;C. To grow VO2 on a wide variety of substrates, with ...

Predicting Catalyst Extrudate Breakage Based on the Modulus of Rupture

The mechanical strength of extruded catalysts and their natural or forced breakage by either collision against a surface or by a compressive load in a fixed bed are important phenomena in catalyst technology. The mechanical strength of the catalyst is measured here by its bending strength or flexural strength. This technique is relatively new from the perspective of applying it to commercial catalysts of typical sizes used in the industry. Catalyst breakage by collision against a surface is measured after a fall of the extrudates through the ambient air in a vertical pipe. Quantifying the impact force is done theoretically by applying Newton's second law. Measurement of catalyst breakage due to stress in a fixed bed is done following the standard procedure of the bulk crush strength test. Novel here is the focus on measuring the reduction in the length to diameter ratio of the extrudates as a function of the stress.

Here we present a protocol to measure the modulus of rupture of an extruded catalyst and the breakage of said catalyst extrudates by collision against a surface or by compression in a fixed bed.

توقع محفز اكستروداتي الكسر استناداً إلى المعامل تمزق

The mechanical strength of extruded catalysts and their natural or forced breakage by either collision against a surface or by a compressive load in a ...