对结型场效应晶体管(JFET)进行偏置对于设置工作参数和确保电子电路的高效运行是至关重要的。结型场效应晶体管的特点是在 N 沟道或 P 沟道配置中使用单载流子类型,其中的沟道会被 PN 结包围。这些结是器件控制电流流动能力的核心。
在 N 沟道结型场效应晶体管中,其结构是由 N 型材料组成,并在 P 型基板上形成沟道,栅极是由 P 型材料制成的。对这种类型的元件进行偏置时,通常需要在栅极上施加一个相对于源极的负电压。负电压会排斥沟道中的电子,并形成耗尽区,从而使通道变窄并降低其导电性。对沟道宽度的控制会间接的控制电子流,从而能够以此来控制电流。
相反,P 沟道结型场效应晶体管具有 P 型半导体沟道,该沟道的两侧为 N 型栅极材料。在这种结构中,对 P 型沟道施加正栅极电压会排斥空穴,从而增加耗尽区并降低电导率。这种反向偏置对于控制通过器件的电流来说是至关重要的。
对于用作开关或放大器的结型场效应晶体管来说,有效偏置是最基本的。施加的栅极-源极电压能够精确的调整耗尽区的宽度,从而能够进一步控制流过沟道的电流。此外,对结型场效应晶体管的偏置还会影响到交流漏极电阻(通常在几百欧姆的范围内)等特性以及跨导和放大系数等参数。
适当的偏置能够防止结型场效应晶体管在饱和或截止等不良状态下的运行,从而能够以此来优化其在电路中的性能和耐用性。
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