薄膜电镀
Overview
资料来源:洛根·基弗、安德鲁·法尔科夫斯基和泰勒·斯帕克斯，犹他大学材料科学与工程系，盐湖城，犹他州
电镀是一种利用电流来减少溶解金属阳离子，使其在电极上形成薄涂层的过程。其他薄膜沉积技术包括化学气相沉积 （CVD）、自旋涂层、浸渍涂层和溅射沉积等。CVD使用要沉积的元素的气相前体。旋转涂层将液体前体向心传播。浸渍涂层类似于旋转涂层，但基板完全浸入其中，而不是旋转液体前体。溅射使用等离子体从目标中去除所需材料，然后对基板板板。CVD 或溅射等技术可生产非常高质量的薄膜，但制作速度很慢且成本很高，因为这些技术通常需要真空大气和小样本尺寸。电镀不依赖于真空大气，这大大降低了成本，提高了可扩展性。此外，电镀可以达到相对较高的沉积率。
Procedure
- 通过混合 50 mL 的 0.05 M 盐酸 （HCl）、100 mL 的 0.05 m 铁氧化钾 （K3[Fe（CN）6]和 100 mL 的 0.05 M 铁 （III） 氯化物六合物（FeCl3.6H2O））制备普鲁士蓝溶液。
- 通过将大约 8 厘米的单色线 （NiCr） 包裹到紧的线圈中，创建阳极。
- 通过去除保护 ITO 涂层 PET 5X5 厘米板导电侧的外涂层来制备阴极基板。
- 通过将 9 伏 （9V） 蓄电池的正极串连连接到 30 欧姆电阻器，然后使用鳄鱼夹连接到 NiCr 阳极来构建电路。使用鳄鱼夹将电池的负端连接到 ITO 阴极基板。确保阴极和阳极未接触溶液中。
- 准备电路和普鲁士蓝溶液后，将阴极和阳极放入溶液中，注意不要淹没任何鳄鱼夹。保持2分钟，然后在DI水中取出并冲洗阴极和阳极。此步骤可在不同的浸没时间重复，以改变涂层的厚度。
- 使用 Perkin Elmer Lambda 950 UV-Vis 光谱仪分析样品，确定其波长范围为 750-400 nm 的可见光的透射率
Results
Application and Summary
Tags
ElectroplatingThin FilmsElectric CurrentMetal CationsElectrode SurfaceNanometerMicrometerSolar CellsBiosensor ProbesModified Surface PropertiesThin Film Deposition TechniquesElectroplating TechniqueGalvanic CellAnodeCathodeSalt BridgePorous MembraneElectrochemical CellsOxidationReduction Half cell ReactionsElectrical CurrentRedox ReactionsElectrolytic SolutionMetal Salts
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