Para comenzar, deposite cobre y plata en los cubreobjetos limpios utilizando el sistema de deposición de película delgada por haz de electrones siguiendo los procedimientos estándar recomendados por el fabricante. Para la deposición de cobre, aumente la corriente de emisión gradualmente a 10 miliamperios por minuto hasta que el sensor lea una tasa de deposición cercana a 10 angstroms por segundo. Una vez que se alcanza la tasa de deposición deseada, cierre el obturador y ajuste la posición de la platina a cero grados.
Abra el obturador para iniciar el proceso de deposición y supervise el grosor en la pantalla del sensor de deposición. Cierre el obturador cuando se alcance el grosor deseado para el cobre. Luego gire el soporte del crisol usando la perilla para dirigir la viga hacia el crisol que contiene pellets de plata, y realice la deposición como se demuestra.
A continuación, agregue 500 microlitros de una solución de 50 micromolar Nile Blue sobre la superficie de la película delgada de plata. Después de 15 minutos, enjuague bien la película delgada de plata con agua ultrapura para eliminar las moléculas de azul del Nilo débilmente absorbidas. Finalmente, seque la película delgada de plata con gas nitrógeno.
Funda por gota 500 microlitros de una dilución de 100 veces del coloide de nanopartículas de plata en la misma región de la película delgada de plata fundida con Nile Blue Solution. Después de 20 minutos, enjuague el modo de separación Raman mejorada en superficie, o sustrato SERS, con agua ultrapura. Luego seque el sustrato con gas nitrógeno.
El espectro visible ultravioleta de la buena película delgada de plata demuestra que la película es parcialmente transparente para la porción visible del espectro electromagnético. Aquí se muestra una imagen AFM representativa del sustrato bueno. La variación en la altura del sustrato de película delgada de plata está representada por el perfil de línea, lo que demuestra la uniformidad y suavidad de la película.
La imagen SEM de nanopartículas de plata fundidas y secadas al aire en una oblea de silicio mostró un diámetro promedio de aproximadamente 79,2 nanómetros.
