金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ (MOSFET) は、その汎用性と電流制御の効率性により、現代の電子機器において極めて重要な役割を果たしています。このデバイスは、IGFET、MISFET、MOSFET とも呼ばれ、3 つの主な端子、つまりソース、ドレイン、ゲートを持ちます。MOSFET は、基板とソースまたはドレイン領域のドーピング特性に基づいて、n チャネルまたは p チャネルに分類されます。
n-MOSFET では、逆バイアス pn ダイオードによって p 型基板から分離された n 型ソースおよびドレイン領域が構造に含まれています。ゲートは、酸化物層上に配置された金属プレートと基板上のオーミックコンタクトで構成され、MOSFET の 4 つの端子を構成します。ゲートに電圧が印加されていない通常の状態では、n-MOSFET はオフのままで、ごくわずかなリーク電流を除いて、ソースからドレインに流れる大きな電流はありません。
しかし、n-MOSFET のゲートに正のバイアスをかけると n チャネルが生成され、大電流が流れやすくなります。このチャネルのコンダクタンスはゲート電圧を変えることで調整でき、固定されたソース領域とドレイン領域間の電流を正確に制御できます。
MOSFET は、スマートフォンやラップトップのマイクロプロセッサから電気自動車の電力管理システムまで、さまざまなアプリケーションに不可欠なコンポーネントです。最小限の電力損失で電流を効率的に制御できるため、さまざまな分野の技術の進歩に欠かせないものとなっています。
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