Abstract
Engineering
Demostramos que resiste la extensión del haz de electrones litografía uso convencional y procesos de transferencia patrón dígito nanómetro dimensiones empleando un aberración-corregido exploración microscopio electrónico de transmisión como la herramienta de exposición. Aquí, presentamos los resultados de modelar nanómetro de dígito de dos haz de electrones utilizado resiste: poli (metacrilato de metilo) y silsesquioxane de hidrógeno. El método logra características sub-5 nanómetros de poli (metacrilato de metilo) y la resolución de la sub-10 nanómetro en silsesquioxane de hidrógeno. Transferencia de alta fidelidad de estos patrones en materiales de la blanco de la opción se puede realizar despegue metal, plasma etch y resistir la infiltración con compuestos organometálicos.
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