JoVE Logo
Faculty Resource Center

Sign In

Mjuk Litografiska funktionalisering och mönstring oxid-fri Silicon och germanium

DOI :

10.3791/3478-v

12:38 min

December 16th, 2011

December 16th, 2011

14,357 Views

1Department of Chemistry, Duke University , 2Hajim School of Engineering and Applied Sciences, University of Rochester , 3Department of Chemical Engineering, University of Rochester

Här beskriver vi en enkel metod för mönstring oxid-fri kisel och germanium med reaktiva organiska monolager och visa funktionalisering av mönstrade substrat med små molekyler och proteiner. Den strategi som skyddar helt ytor från kemisk oxidation, ger exakt kontroll över funktionen morfologi, och ger god tillgång till kemiskt diskriminerad mönster.

Tags

Bioteknik

-- Views

Related Videos

JoVE Logo

Privacy

Terms of Use

Policies

Research

Education

ABOUT JoVE

Copyright © 2024 MyJoVE Corporation. All rights reserved