Name: micropunching lithography for generating micro- and submicron-patterns on polymer substrates
Uploaded: 2012-07-02T08:00:00
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이 작품은 NSFDMI-0508454, NSF / LEQSF (2006) - Pfund-53, NSF-CMMI-0811888, 그리고 NSF-CMMI-0900595 보조금을 통해 부분적으로 지원되었다.

MPL의 A. 회로도 macropunching 방법은 &quot;절단&quot;와 &quot;그림&quot;작업을 포함합니다. &quot;절단&quot;수술은 날카로운 볼록 구조의 금형을 채택하고 세 가지 기본 단계 (그림 1 (A1-A3)을) 포함한다. 첫째, 딱딱한 기판 (그림 1 (A1))에 금속판을 배치. 둘째, 높은 강제로 신체 접촉시 금형과 기판을 가지고. (그림 1 (A2)이 두 번째 단계 동안, 직접 볼?...

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	<li>Menon, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Conducting+polymers:+Nobel+Prize+in+Chemistry,+2000.">Conducting polymers: Nobel Prize in Chemistry, 2000.</a> Current Science. 79, 1632 (2000).</li><li>Inzelt, G., Pineri, M., Schultze, J. W., Vorotyntsev, M. 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문제 해결 정보 : &quot;절단&quot;작업을 사용하여 고분자와 금속을 수행 단일 및 다중 레이어 micropatterns의 생성에 관한 중요 사항 : (1) 엠보싱의 온도는 최적의 결과를 생성하는 중간 PMMA 계층의 유동성을 보장합니다. 그것은 범위의 하한선에서 시작하고 원하는 결과가 달성되지 않은 경우 점차 온도를 높이는 것이 좋습니다. 너무 높은 온도는 화학 물질 및 / 또는 전기적 특성을 변경하...

<table border="1"><tbody><tr><td> 시약의 이름 </td><td> 회사 </td><td> 카탈로그 번호 </td><td> 댓글 </td></tr><tr><td> PMMA </td><td> 시그마 - 올드 리치 (주) </td><td> 495C9 </td><td> 용매는 cholorobenzene입니다. 적절한 환기와 퓸 후드 아래 PMMA 솔루션을 취급하고 있습니다. 증기를 호흡​​하지 마십시오. 안전 취급 지침은 MSDS를 참조하십시오. </td></tr><tr><td> PPy </td><td> 시그마 - 올드 리치 (주) </td><td> - </td><td> 물에 무게 약 5 %. 로 사용할 받았습니다. </td></tr><tr><td> PEDOT-PSS </td><td> HC Starck (주) </td><td> V4 Baytron P HC </td><td> 용매 독점적. 로 사용할 받았습니다. </td></tr><tr><td> SPANI </td><td> 시그마 - 올드 리치 (주) </td><td> - </td><td> 수용성 형태. 로 사용할 받았습니다. </td></tr><tr><td> 핫 엠보싱 기계 </td><td> JenoptikMikrotechnik (주) </td><td> HEX 01/LT </td><td></td></tr><tr><td> 기계를 스퍼터 </td><td> Cressington (주) </td><td> 208HR </td><td></td></tr><tr><td> 악의없는 거짓말 기계 </td><td> 자이스 혈구 (주) </td><td> 악의없는 거짓말 대들보 1,540 XB </td><td></td></tr><tr><td> 스핀 coater </td><td> 전진 Reseach (주) </td><td> PWM32-PS-R790의 스피너 시스템 </td><td></td></tr><tr><td> RIE 기계 </td><td> 학술적 MicroRIE (주) </td><td> - </td><td></td></tr><tr><td> 포토 레지스트 </td><td> 쉬플리 (주) </td><td> S1813 </td><td></td></tr><tr><td> PDMS </td><td> 다우 코닝 </td><td> Sylgard 184 실리콘 엘라스토머 키트 </td><td></td></tr><tr><td> HDPE 시트 </td><td> 미국 플라스틱은 통합 </td><td> - </td><td></td></tr><tr><td> PMMA 시트 </td><td> Cyro (주) </td><td> - </td><td></td></tr><tr><td> 양면 adhesiv전자 테이프 </td><td> 스카치 (주) </td><td> - </td><td></td></tr><tr><td> 싱글 양면 테이프 </td><td> Delphon (주) </td><td> # 1310을 Ultratape </td><td></td></tr><tr><td> 유리 micropipettes </td><td> FHC (주) </td><td> 30-30-1 </td><td></td></tr><tr><td> 클립 </td><td> 오피스 디포 (주) </td><td> 불독 클립 </td><td></td></tr><tr><td> 가습기 </td><td> Vicks (주) </td><td> 필터 무료 가습기 </td><td></td></tr></tbody></table>

micropunching lithography for generating micro- and submicron-patterns on polymer substrates

실시 폴리머는 1977 1 도핑된 polyacetylene 높은 전도성의 발견 이후 큰 주목을 받고있다. 그들은 낮은 중량, 특성에 맞게 조정하고 쉽게 응용 프로그램을 2,3의 다양한 스펙트럼의 장점을 제공합니다. 이러한 자료 4 작업할 때 환경 조건에 폴리머를 수행 감도로 인해 (예 : 공기, 산소, 습기, 고온 및 화학 솔루션), 리소그래피 기술은 중요한 기술적인 과제를 제시. 예를 들어, 울트라 바이올렛 (UV)와 같은 현재의 photolithographic 방법은, 이러한 방법의 습식 및 / 또는 드라이 에칭 프로세스의 개입으로 인해 patterning 실시 폴리머하기에 적합합니다. 또한, 현재의 마이크로 / nanosystems는 주로 평면 형태로 5,6있다. 구조의 한 계층은 조작 기능의 또 다른 레이어의 상단 표면에 내장되어 있습니다. 이러한 구조의 여러 레이어에 여러 장치를 형성하기 위해 함께 정렬됩니다일반적인 기판. microstructures의 측벽 표면은 건설 장비에 사용되지 않았습니다. 한편, 측벽 패턴이 수정 유체 채널 및 나노 와이어와 나노튜브를 직접 수평 성장을 3 차원 회로를 구축하는 데 예를 들어, 사용될 수 있습니다. macropunching 방법은 수백 년 동안 판금의 macropatterns를 만드는 제조 산업에 적용되었습니다. 이 방법에 의해 동기, 우리는 고분자를 실시하고 측벽 패턴을 생성 patterning의 장애물을 극복하기 micropunching 리소그래피 방법 (MPL)를 개발했습니다. 및 (ii) 본 그림은 (i) 절단 : macropunching 방법과 마찬가지로, MPL은 또한 두 작업 (그림 1)가 포함되어 있습니다. &quot;절단&quot;작업 패턴 셋 전도 폴리머 4, polypyrrole (PPy), 폴리 (3,4 - ethylenedioxythiophen) - 폴리 (4 styrenesulphonate) (PEDOT)과 polyaniline (PANI)에 적용되었다. 또한 알루미늄 microstructures에게 7 만드는 고용되었다. 폴리머를 수행 가공 microstructures은 습도가 8, 화학 8, 포도당 센서를 9로 사용되었습니다. 알 및 실시 폴리머의 결합 microstructures은 콘덴서 및 각종 heterojunctions 9,10,11를 조작하기 위해 고용되었다. &quot;절단&quot;수술은 또 100과 같은 submicron - 패턴을 생성하기 위해 적용되었다 -와 500 nm의 범위 PPy 라인뿐만 아니라, 100-nm의 범위의 Au 와이어. &quot;그림&quot;수술은 두 개의 애플 리케이션을 위해 고용되었다 :는 (i) 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE) 3D 마이크로 12,13,14 구축에 사용될 수있는 채널에의 Au 측벽 패턴을 생산하고, (ii) 본 polydimethylsiloxane (PDMS) micropillars를 조작 HDPE 기판에 채널 15 연락처 각도를 높일 수 있습니다.

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Micropunching Lithography for Generating Micro- and Submicron-patterns on Polymer Substrates

micropunching 리소그래피 방식이 생성하는 마이크로와 submicron 패턴 위, 측벽 및 폴리머 기판의 바닥 표면을 개발하고 있습니다. 그것은 patterning이 폴리머를 실시하고 측벽 패턴을 생성하는 장애물을 극복. 이 방법은 여러 기능의 신속한 제조가 가능하며 적극적인 화학 무료입니다.

마이크로 및 Submicron 패턴 폴리머 기판을 생성하기위한 리소그래피를 Micropunching

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