Name: nanomoulding of functional materials, a versatile complementary pattern replication method to nanoimprinting
Uploaded: 2013-01-23T12:00:00
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लेखक AFM, डब्ल्यू ली के साथ anodically textured एल्यूमीनियम मास्टर और स्विस फेडरल कार्यालय ऊर्जा और धन के लिए स्विस राष्ट्रीय विज्ञान फाउंडेशन के लिए सहायता के लिए एम. LeBoeuf धन्यवाद. इस काम का एक हिस्सा बाहर FP7 &#39;फास्ट ट्रैक&#39; अनुदान 283501 नहीं समझौते के तहत चुनाव आयोग द्वारा वित्त पोषित परियोजना के ढांचे में किया गया.

1. ढालना फैब्रिकेशन हम नकारात्मक मोल्ड निम्नलिखित रेफरी के निर्माण के लिए हमारे घर में निर्मित सेटअप nanoimprinting का उपयोग करें 6., लेकिन किसी भी वैकल्पिक nanoimprinting सेटअप ठीक काम करेगा. वैकल्पिक रूप स...

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	<li>Geissler, M., Xia, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Patterning:+Principles+and+Some+New+Developments.">Patterning: Principles and Some New Developments.</a> Advanced Materials. 16 (15), 1249-1269 (2004).</li><li>Guo, L. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanoimprint+Lithography:+Methods+and+Material+Requirements.">Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements.</a> Advanced Materials. 19, 495-513 (2007).</li><li>Ahn, S. H., Guo, L. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Large-Area+Roll-to-Roll+and+Roll-to-Plate+Nanoimprint+Lithography:+A+Step+toward+High-Throughput.">Large-Area Roll-to-Roll and Roll-to-Plate Nanoimprint Lithography: A Step toward High-Throughput.</a> Application of Continuous Nanoimprinting. ACS Nano. 3 (8), 2304-2310 (2009).</li><li>Battaglia, C., Escarr&#233;, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanoimprint+Lithography+for+High-Efficiency+Thin-Film+Silicon+Solar+Cells.">Nanoimprint Lithography for High-Efficiency Thin-Film Silicon Solar Cells.</a> Nano Letters. 11, 661-665 (2011).</li><li>Battaglia, C., Escarr&#233;, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanomoulding+of+Transparent+Zinc+Oxide+Electrodes+for+Efficient+Light+Trapping+in+Solar+Cells.">Nanomoulding of Transparent Zinc Oxide Electrodes for Efficient Light Trapping in Solar Cells.</a> Nature Photonics. 5, 535-538 (2012).</li><li>Escarr&#233;, J., S&#246;derstr&#246;m, K., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=High+Fidelity+Transfer+of+Nanometric+Random+Textures+by+UV+Embossing+for+Thin+Film+Solar+Cells+Applications.">High Fidelity Transfer of Nanometric Random Textures by UV Embossing for Thin Film Solar Cells Applications.</a> Solar Energy Materials &amp; Solar Cells. 95, 881-886 (2011).</li><li>Fa&#255;, S., Feitknecht, L., Schl&#252;chter, R., Kroll, U., Vallat-Sauvain, E., Shah, A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Rough+ZnO+layers+by+LP-CVD+process+and+their+effect+in+improving+performances+of+amorphous+and+microcrystalline+silicon+solar+cells.">Rough ZnO layers by LP-CVD process and their effect in improving performances of amorphous and microcrystalline silicon solar cells.</a> Solar Energy Materials and Solar Cells. 90, 2960-2967 (2006).</li><li>Zhao, X. -. M., Xia, Y., Whitesides, G. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Fabrication+of+Three-Dimensional+Micro-Structures:+Microtransfer+Molding.">Fabrication of Three-Dimensional Micro-Structures: Microtransfer Molding.</a> Advanced Materials. 8, 837-840 (1996).</li><li>Hampton, M. J., Williams, S. S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=The+Patterning+of+Sub-500+nm+Inorganic+Oxide+Structures.">The Patterning of Sub-500 nm Inorganic Oxide Structures.</a> Advanced Materials. 20, 2667-2673 (2008).</li><li>Bass, J. D., Schaper, C. D., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Transfer+Molding+of+Nanoscale+Oxides+Using+Water-Soluble+Templates.">Transfer Molding of Nanoscale Oxides Using Water-Soluble Templates.</a> ACS Nano. 5 (5), 4065-4072 (2011).</li><li>Escarr&#233;, J., Nicolay, S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanomoulded+front+ZnO+contacts+for+thin+film+silicon+solar+cell+applications.">Nanomoulded front ZnO contacts for thin film silicon solar cell applications.</a> , (2012).</li><li>Sontheimer, T., Rudigier-Voigt, E., Bockmeyer, M., Klimm, C., Schubert-Bischoff, P., Becker, C., Rech, B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Large-area+fabrication+of+equidistant+free-standing+Si+crystals+on+nanoimprinted+glass.">Large-area fabrication of equidistant free-standing Si crystals on nanoimprinted glass.</a> Phys. Status Solidi. RRL. 5, 376-379 (2011).</li></ol>

Nanomoulding मनमाना कार्यात्मक सामग्री पर nanopatterns के हस्तांतरण की अनुमति देता है. चित्रा 1 और 2 में व्यक्तिगत प्रसंस्करण कदम की तुलना nanomoulding और nanoimprinting के बीच घनिष्ठ संबंध का पता चलता है. nanomoulding और nanoimprinting के ब?...

Nanopatterning नैनो और व्यावहारिक विज्ञान के कई क्षेत्रों में काफी महत्व प्राप्त की है. पैटर्न पीढ़ी पहला कदम है और इलेक्ट्रॉन बीम लिथोग्राफी या नीचे अप nanosphere लिथोग्राफी या एक ब्लॉक copolymer लिथोग्राफी के रूप में स्वयं विधानसभा तरीकों पर आधारित दृष्टिकोण के रूप में ऊपर से नीचे दृष्टिकोण से पूरा किया जा सकता है. पैटर्न पीढ़ी के रूप में महत्वपूर्ण पैटर्न प्रतिकृति है. Photolithography अलावा, nanoimprinting (1 चित्रा) में विशेष रूप से एक होनहार उच्च throughput कम 2-4 लागत में बड़े क्षेत्र nanoscale patterning के लिए उपयुक्त विकल्प के रूप में उभरा है. जबकि photolithography एक मुखौटा नमूनों की आवश्यकता है, nanoimprinting एक पूर्वनिर्मित मास्टर संरचना पर निर्भर करता है. मास्टर से पैटर्न हस्तांतरण सामान्यतः एक थर्माप्लास्टिक या एक यूवी या thermally का इलाज बहुलक में किया जाता है. हालांकि ऐसे कई मामले हैं, जहां यह एक कार्यात्मक सामग्री पर सीधे पैटर्न स्थानांतरण वांछनीय है. &lt;पी वर्ग = &quot;jove_content&quot; यहाँ हम एक प्रतिकृति nanomoulding और जो हम हाल ही में रेफरी में शुरू की परत (2 चित्रा) हस्तांतरण के आधार पर विधि का वर्णन 5. कार्यात्मक जिंक आक्साइड इलेक्ट्रोड पर nanoscale पैटर्न हस्तांतरण के लिए. हमारे nanomoulding विधि आसानी से हो सकता है अगर एक nanoimprinting सेटअप उपलब्ध है लागू कर सकते हैं. Nanomoulding कई अन्य कार्यात्मक सामग्री, सामग्री के ढेर और भी पूरा उपकरणों सामान्यीकरण नहीं किया जा करने की क्षमता प्रदान करता है, बशर्ते कि मोल्ड सामग्री ऐसी है कि यह सामग्री जमाव प्रक्रिया (ते) के साथ संगत है चुना जाता है. एक उदाहरण के रूप में हम यहाँ पारदर्शी प्रवाहकीय जिंक आक्साइड (ZnO) इलेक्ट्रोड रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) है जो उनके सौर कोशिकाओं में प्रकाश 5 फँसाने बढ़ाने आवेदन मिल द्वारा जमा की nanomoulding प्रस्तुत करते हैं.

<table border="1"><tbody><tr><td> अभिकर्मक के नाम </td><td> कंपनी </td><td> सूचीपत्र संख्या </td><td> टिप्पणियां (वैकल्पिक) </td></tr><tr><td> Nanoimprinting राल </td><td> Microresist </td><td> Ormostamp </td><td></td></tr><tr><td> (1h, 1H, 2H, 2H - Perfluoroctyl) trichlorsilane, विरोधी आसंजन एजेंट </td><td> सिग्मा Aldrich </td><td> 448,931-10G </td><td></td></tr><tr><td> कांच स्लाइड </td><td> Schott </td><td> AF32 पर्यावरण </td><td> 0.5 मिमी </td></tr><tr><td> Polyethylene naphtalate शीट (पेन) </td><td> गूड </td><td> ES361090 </td><td> 0.125 मिमी </td></tr><tr><td> (सी 2 5 एच) 2 Zn </td><td> एक्ज़ो नोबल </td><td></td><td></td></tr><tr><td> एजी लक्ष्य 4N धूम </td><td> Heraeus </td><td> 81062165 </td><td></td></tr><tr><td> 2 बी एच 6, SIH 4, एच 2, बी (3 CH) 3, पीएच 3, 4 CH, सीओ 2 </td><td> Messer </td><td></td><td></td></tr><tr><td></td><td></td><td></td><td> उपकरणों </td></tr><tr><td> प्रणाली nanoimprinting </td><td> घर में निर्मित </td><td></td><td></td></tr><tr><td> एल.पी. सीवीडी प्रणाली </td><td> घर में निर्मित </td><td></td><td></td></tr><tr><td> PVD प्रणाली </td><td> Leybold </td><td> Univex 450 बी </td><td></td></tr><tr><td> पीई सीवीडी रिएक्टर </td><td> Indeotec </td><td> मैं ऑक्टोपस </td><td></td></tr><tr><td> SEM </td><td> JEOL </td><td> TFE JSM-7500 </td><td></td></tr><tr><td> AFM </td><td> डिजिटल उपकरण </td><td> 3100 NanoScope </td><td></td></tr></tbody></table>

nanomoulding of functional materials, a versatile complementary pattern replication method to nanoimprinting

हम एक nanomoulding तकनीक है जो कम लागत के nanoscale patterning कार्यात्मक सामग्री, सामग्री के ढेर और पूर्ण उपकरणों की अनुमति देता का वर्णन. परत अंतरण के साथ संयुक्त Nanomoulding कार्यात्मक सामग्री पर एक मास्टर संरचना से मनमाने ढंग से सतह पैटर्न की नकल के लिए सक्षम बनाता है. Nanomoulding किसी भी nanoimprinting स्थापना पर प्रदर्शन किया जा सकता है और सामग्री और बयान प्रक्रियाओं की एक विस्तृत श्रृंखला के लिए लागू किया जा सकता है. हम विशेष रूप से सौर कोशिकाओं में प्रकाश को फँसाने अनुप्रयोगों के लिए नमूनों पारदर्शी जिंक आक्साइड इलेक्ट्रोड के निर्माण को प्रदर्शित करता है.

<html> चित्रा 3 कुछ nanomoulded संरचनाओं के निदर्शी उदाहरण सार. ZnO मास्टर कांच पर सीवीडी द्वारा विकसित संरचना (क) में दिखाया गया है. इसी nanomoulded ZnO प्रतिकृति (घ) में दिखाया गया है. स्थानीय (छ) ऊंचाई और कोण (जे) AFM छवियों स...

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Nanomoulding of Functional Materials, a Versatile Complementary Pattern Replication Method to Nanoimprinting

हम एक nanomoulding तकनीक है जो कम लागत के nanoscale patterning कार्यात्मक सामग्री, सामग्री के ढेर और पूर्ण उपकरणों की अनुमति देता का वर्णन. Nanomoulding किसी भी nanoimprinting स्थापना पर प्रदर्शन किया जा सकता है और सामग्री और बयान प्रक्रियाओं की एक विस्तृत श्रृंखला के लिए लागू किया जा सकता है.

कार्यात्मक सामग्री के Nanomoulding, एक बहुमुखी पूरक पैटर्न प्रतिकृति nanoimprinting विधि

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