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銅上のア​​トムプローブトモグラフィ研究(、ジョージア州)SE

DOI :

10.3791/50376-v

April 22nd, 2013

April 22nd, 2013

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1Department of Microstructure Physics and Alloy Design, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, 2Zentrum für Sonnenenergie- und Wasserstoff-Forschung Baden-Württemberg ( ZSW )

本研究では、CIGS太陽電池の光吸収層の粒界を研究するための原子プローブ断層撮影技術の使用を記載している。公知の構造の所望の粒界を含むアトムプローブ·チップを製造するための新しいアプローチは、ここで提示される。

Tags

74 SE 2 TEM APT SEM

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