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Preparação de hidrofóbicos Metal-Organic Frameworks via Plasma aprimorado Chemical Vapor Deposition de perfluoroalcanos para a remoção de amônia

DOI :

10.3791/51175-v

October 10th, 2013

October 10th, 2013

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1Research and Development, Science Applications International Corporation (SAIC), 2Edgewood Chemical Biological Center, Research Development Engineering Command

Aqui os processos de deposição de vapor químico de plasma aumentada de perfluoroalcanos sobre materiais microporosos tais como os quadros metal-orgânicos para melhorar a sua estabilidade e hidrofobicidade são descritos. Além disso, o teste de ruptura de quantidades de miligrama de amostras está descrita em detalhe.

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