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Mit Synchrotronstrahlung Mikrotomographie Mehrskalige Dreidimensionale Mikroelektronische Bauteile zur Untersuchung

DOI :

10.3791/53683-v

April 13th, 2016

April 13th, 2016

9,851 Views

1Materials Engineering Division, Lawrence Livermore National Laboratory, 2Assembly Test and Technology Development Failure Analysis Labs, Intel Corporation, 3Advanced Light Source, Lawrence Berkeley National Laboratory

Für diese Studie Synchrotronstrahlung Mikrotomographie, zerstörungs dreidimensionale Abbildungstechnik wird verwendet, um einen gesamten mikroelektronisches Gehäuse mit einer Querschnittsfläche von 16 x 16 mm zu untersuchen. Aufgrund der hohen Fluss und Helligkeit des Synchrotron wurde die Probe in nur 3 min mit einer 8,7 um räumliche Auflösung abgebildet.

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Technik

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