Name: micro/nano-scale strain distribution measurement from sampling moir&#233; fringes
Uploaded: 2017-05-23T15:00:00
Description: Watch this Scientific Journal Video about Micro/Nano-scale Strain Distribution Measurement from Sampling MoirÃƒÂ© Fringes at JoVE.com

यह काम जेएसपीएस कंकनी, जेपी 16 के 1 9 88 और जेपी 16 के 0 9 6 9 और जेपी 16 के 0 9 6 9 के अनुदान संख्या, और कैबिनेट कार्यालय द्वारा संचालित क्रॉस-मिनिस्ट्री स्ट्रेटजिक इनोवेशन प्रोमोशन प्रोग्राम, यूनिट डी 66, इनोवेटिव मेजरमेंट एंड स्ट्रक्चरल मैटेरियल्स (एसआईपी-आईएमएएसएम) के विश्लेषण के द्वारा समर्थित था। लेखक भी डीआरएस के लिए आभारी हैं। अपने सीएफआरपी सामग्री के लिए एनआईएमएस पर सतोशी किशिमोतो और किमोजी नेतो।

1. नमूने पर माइक्रो / नैनो-स्तरीय ग्रिड की पुष्टि <ol><li> नमूना की मशीनिंग <ol><li> नमूनों को सूक्ष्मदर्शी ( उदाहरण के लिए 1 x 5 x 30 मिमी 3 ) के तहत उपयोग किए जाने वाले विशिष्ट लोडिंग डिवाइस के लिए आवश्यक आ?...

<ol>
	<li>Weller, R., Shepard, B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Displacement+measurement+by+mechanical+interferometry.">Displacement measurement by mechanical interferometry.</a> Proc. Soc. Exp. Stress Anal. 6 (1), 35-38 (1948).</li><li>Kishimoto, S., Egashira, M., Shinya, N. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Microcreep+deformation+measurements+by+a+moir&#233;+method+using+electron+beam+lithography+and+electron+beam+scan.">Microcreep deformation measurements by a moir&#233; method using electron beam lithography and electron beam scan.</a> Opt. Eng. 32 (3), 522-526 (1993).</li><li>Ifju, P., Han, B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Recent+applications+of+moir&#233;+interferometry.">Recent applications of moir&#233; interferometry.</a> Exp. Mech. 50 (8), 1129-1147 (2010).</li><li>Zhang, H., Wu, C., Liu, Z., Xie, H. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=A+curved+surface+micro-moir&#233;+method+and+its+application+in+evaluating+curved+surface+residual+stress.">A curved surface micro-moir&#233; method and its application in evaluating curved surface residual stress.</a> Meas. Sci. Technol. 25 (9), 095002 (2014).</li><li>Zhang, H., Liu, Z., Wen, H., Xie, H., Liu, C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Subset+geometric+phase+analysis+method+for+deformation+evaluation+of+HRTEM+images.">Subset geometric phase analysis method for deformation evaluation of HRTEM images.</a> Ultramicroscopy. 171, 34-42 (2016).</li><li>Wang, Q., Kishimoto, S., Xie, H., Liu, Z., Lou, X. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=In+situ+high+temperature+creep+deformation+of+micro-structure+with+metal+film+wire+on+flexible+membrane+using+geometric+phase+analysis.">In situ high temperature creep deformation of micro-structure with metal film wire on flexible membrane using geometric phase analysis.</a> Microelectron. Reliab. 53 (4), 652-657 (2013).</li><li>Wang, Q., Kishimoto, S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Simultaneous+analysis+of+residual+stress+and+stress+intensity+factor+in+a+resist+after+UV-nanoimprint+lithography+based+on+electron+moir&#233;+fringes.">Simultaneous analysis of residual stress and stress intensity factor in a resist after UV-nanoimprint lithography based on electron moir&#233; fringes.</a> J. Micromech. Microeng. 22 (10), 105021 (2012).</li><li>Kishimoto, S., Wang, Q., Xie, H., Zhao, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Study+of+the+surface+structure+of+butterfly+wings+using+the+scanning+electron+microscopic+moir&#233;+method.">Study of the surface structure of butterfly wings using the scanning electron microscopic moir&#233; method.</a> Appl. Opt. 46 (28), 7026-7034 (2007).</li><li>Li, C., Liu, Z., Xie, H., Wu, D. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Novel+3D+SEM+Moir&#233;+method+for+micro+height+measurement.">Novel 3D SEM Moir&#233; method for micro height measurement.</a> Opt. Express. 21 (13), 15734-15746 (2013).</li><li>Xie, H., Wang, Q., Kishimoto, S., Dai, F. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Characterization+of+planar+periodic+structure+using+inverse+laser+scanning+confocal+microscopy+moir&#233;+method+and+its+application+in+the+structure+of+butterfly+wing.">Characterization of planar periodic structure using inverse laser scanning confocal microscopy moir&#233; method and its application in the structure of butterfly wing.</a> J. Appl. Phys. 101 (10), 103511 (2007).</li><li>Tang, M., Xie, H., Wang, Q., Zhu, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Phase-shifting+laser+scanning+confocal+microscopy+moir&#233;+method+and+its+applications.">Phase-shifting laser scanning confocal microscopy moir&#233; method and its applications.</a> Meas. Sci. Technol. 21 (5), 055110 (2010).</li><li>Xie, H., Kishimoto, S., Asundi, A., Boay, C. G., Shinya, N., Yu, J., Ngoi, B. K. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=In-plane+deformation+measurement+using+the+atomic+force+microscope+moir&#233;+method.">In-plane deformation measurement using the atomic force microscope moir&#233; method.</a> Nanotechnology. 11 (1), 24 (2000).</li><li>Xie, H., Liu, Z., Fang, D., Dai, F., Gao, H., Zhao, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=A+study+on+the+digital+nano-moir&#233;+method+and+its+phase+shifting+technique.">A study on the digital nano-moir&#233; method and its phase shifting technique.</a> Meas. Sci. Technol. 15 (9), 1716 (2004).</li><li>Wang, Q., Kishimoto, S., Yamauchi, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Three-directional+structural+characterization+of+hexagonal+packed+nanoparticles+by+hexagonal+digital+moir&#233;+method.">Three-directional structural characterization of hexagonal packed nanoparticles by hexagonal digital moir&#233; method.</a> Opt. Lett. 37 (4), 548-550 (2012).</li><li>Liu, Z., Lou, X., Gao, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Deformation+analysis+of+MEMS+structures+by+modified+digital+moir&#233;+methods.">Deformation analysis of MEMS structures by modified digital moir&#233; methods.</a> Opt. Lasers Eng. 48 (11), 1067-1075 (2010).</li><li>Li, Y., Xie, H., Chen, P., Zhang, Q. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Theoretical+analysis+of+moir&#233;+fringe+multiplication+under+a+scanning+electron+microscope.">Theoretical analysis of moir&#233; fringe multiplication under a scanning electron microscope.</a> Meas. Sci. Technol. 22 (2), 025301 (2010).</li><li>Patorski, K., Wielgus, M., Ekielski, M., Ka&#378;mierczak, P. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=AFM+nanomoir&#233;+technique+with+phase+multiplication.">AFM nanomoir&#233; technique with phase multiplication.</a> Meas. Sci. Technol. 24 (3), 035402 (2013).</li><li>Wang, Q., Ri, S., Takashita, Y., Ogihara, S., Yoshida, S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Chapter+33:+Full-field+measurements+of+principal+strains+and+orientations+using+moir&#233;+fringes.">Chapter 33: Full-field measurements of principal strains and orientations using moir&#233; fringes.</a> Advancement of Optical Methods in Experimental Mechanics. 3, 251-259 (2017).</li><li>Wang, Z., Han, B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Advanced+iterative+algorithm+for+phase+extraction+of+randomly+phase-shifted+interferograms.">Advanced iterative algorithm for phase extraction of randomly phase-shifted interferograms.</a> Opt. Lett. 29 (14), 1671-1673 (2004).</li><li>Wang, Q., Xie, H., Hu, Z., Zhang, J., Sun, J., Liu, G. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Residual+thermo-creep+deformation+of+copper+interconnects+by+phase-shifting+SEM+moir&#233;+method.">Residual thermo-creep deformation of copper interconnects by phase-shifting SEM moir&#233; method.</a> Appl. Mech. Mater. 83, 185-190 (2011).</li><li>Ri, S., Fujigaki, M., Morimoto, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Sampling+moir&#233;+method+for+accurate+small+deformation+distribution+measurement.">Sampling moir&#233; method for accurate small deformation distribution measurement.</a> Exp. Mech. 50 (4), 501-508 (2010).</li><li>Ri, S., Muramatsu, T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Theoretical+error+analysis+of+the+sampling+moir&#233;+method+and+phase+compensation+methodology+for+single-shot+phase+analysis.">Theoretical error analysis of the sampling moir&#233; method and phase compensation methodology for single-shot phase analysis.</a> Appl. Opt. 51 (16), 3214-3223 (2012).</li><li>Wang, Q., Ri, S., Tsuda, H. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Digital+sampling+Moir&#233;+as+a+substitute+for+microscope+scanning+Moir&#233;+for+high-sensitivity+and+full-field+deformation+measurement+at+micron/nano+scales.">Digital sampling Moir&#233; as a substitute for microscope scanning Moir&#233; for high-sensitivity and full-field deformation measurement at micron/nano scales.</a> Appl. Opt. 55 (25), 6858-6865 (2016).</li><li>Dai, F., Wang, Z. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Automatic+fringe+patterns+analysis+using+digital+processing+tehniques:+I+fringe+center+method.">Automatic fringe patterns analysis using digital processing tehniques: I fringe center method.</a> Acta Photonica Sinica. 28, 700-706 (1999).</li><li>Gutmann, B., Weber, H. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Phase-shifter+calibration+and+error+detection+in+phase-shifting+applications:+a+new+method.">Phase-shifter calibration and error detection in phase-shifting applications: a new method.</a> Appl. Opt. 37 (32), 7624-7631 (1998).</li><li>Wang, Q., Kishimoto, S., Tanaka, Y., Kagawa, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Micro/submicro+grating+fabrication+on+metals+for+deformation+measurement+based+on+ultraviolet+nanoimprint+lithography.">Micro/submicro grating fabrication on metals for deformation measurement based on ultraviolet nanoimprint lithography.</a> Opt. Lasers Eng. 51 (7), 944-948 (2013).</li><li>Min-Jin, T., Hui-Min, X., Yan-Jie, L., Xiao-Jun, L., Dan, W. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=A+new+grating+fabrication+technique+on+metal+films+using+UV-nanoimprint+lithography.">A new grating fabrication technique on metal films using UV-nanoimprint lithography.</a> Chin. Phys. Lett. 29 (9), 098101 (2012).</li></ol>

वर्णित तकनीक में, एक चुनौतीपूर्ण कदम सूक्ष्म / नैनो-स्तरीय ग्रिड या झंझरी (ग्रिड के रूप में संक्षिप्त) निर्माण 26 है अगर नमूना पर कोई आवधिक पैटर्न मौजूद नहीं है। ग्रिड पिच विरूपण से पहले वर्दी हो...

सूक्ष्म / नैनो-स्तरीय विकृति माप यांत्रिक गुणों, अस्थिरता व्यवहार, अवशिष्ट तनाव, और उन्नत सामग्री की दरार घटनाओं के मूल्यांकन के लिए महत्वपूर्ण रूप से आवश्यक हैं। चूंकि ऑप्टिकल तकनीक गैर-संपर्क, पूर्ण-क्षेत्र और गैर-विनाशकारी हैं, पिछले कुछ दशकों के दौरान विरूपण माप के लिए कई ऑप्टिकल विधियों का विकास किया गया है। हाल के वर्षों में, सूक्ष्म / नैनो-स्तरीय विरूपण माप तकनीक मुख्य रूप से मोइर विधि 1 , 2 , 3 , 4 , ज्यामितीय चरण विश्लेषण (जीपीए) 5 , 6 , फूरियर रूपांतरण (एफटी), डिजिटल छवि सहसंबंध (डीआईसी), और इलेक्ट्रॉनिक चक्कर पैटर्न इंटरफेरोमेट्री (ईएसपीआई) इन तकनीकों में, जटिल विकृति माप के लिए जीपीए और एफटी अच्छी तरह से अनुकूल नहीं हैं क्योंकि कई आवृत्तियों का अस्तित्व है। डीआईसी पद्धति सिम हैलेकिन शोर के खिलाफ शक्तिहीन, क्योंकि विरूपण वाहक यादृच्छिक चोंच है। अंत में, ईएसपीआई कंपन के प्रति सशक्त रूप से संवेदनशील है। सूक्ष्म / नैनो पैमाने पर मोइर तरीकों में, वर्तमान में सबसे अधिक इस्तेमाल किए गए तरीकों में माइक्रोस्कोप स्कैनिंग मोइर विधियां हैं, जैसे कि इलेक्ट्रॉन स्कैनिंग मोइर 7 , 8 , 9 , लेजर स्कैनिंग मोइर 10 , 11 , और परमाणु बल माइक्रोस्कोप (एएफएम) मोइर 12 , और कुछ माइक्रोस्कोप-आधारित मोइर विधियां, जैसे डिजिटल / ओवरलैपिंग मोइर 13 , 14 , 15 विधि और गुणा / आंशिक मोइर विधि 16 , 17 । स्कैनिंग मोइर पद्धति के पास कई फायदे हैं, जैसे कि व्यापक क्षेत्रीय दृश्य, उच्च रीसोयादृच्छिक शोर करने के लिए, अजीब आवाज, और असंवेदनशीलता। हालांकि, पारंपरिक स्कैनिंग मोइर विधि 2 डी तनाव माप के लिए असुविधाजनक है क्योंकि यह नमूना चरण या स्कैनिंग की दिशा 90 डिग्री तक घुमाने और दो दिशाओं में मोइर फ्रिंज को दो बार स्कैन करने के लिए आवश्यक है। रोटेशन और दोहरी स्कैनिंग प्रक्रिया रोटेशन त्रुटि का परिचय देते हैं और लंबे समय से लेते हैं, विशेष रूप से कतरनी तनाव के लिए 2 डी तनाव की माप सटीकता को प्रभावित करते हैं। अस्थायी चरण-स्थानांतरण तकनीक 1 9 , 20 विकृति माप सटीकता में सुधार कर सकती है, इसके लिए समय और गतिशील परीक्षणों के लिए एक विशेष चरण-शिफ़्ट डिवाइस अनुपयुक्त है। सैम्पलिंग मोइर विधि 21 , 22 की विस्थापन माप में उच्च सटीकता है और अब मुख्य रूप से पुलों पर विक्षेपण मापन के लिए उपयोग किया जाता है जब ऑटोमोबाइल पीगधा। सूक्ष्म / नैनो पैमाने पर 2 डी तनाव माप के लिए नमूना मोइर पद्धति का विस्तार करने के लिए, एक खंगाला हुआ गुणा विधि को 23 बार 2-पिक्सेल नमूनाकरण मोइर फ्रिंज से विकसित किया गया है, जिसमें माप दो बार संवेदनशील और विस्तृत दृश्य के क्षेत्र हैं स्कैनिंग मोइर विधि रखा जाता है इसके अलावा, स्थानिक चरण-स्थानांतरण नमूना मोइर विधि भी बहु-पिक्सेल नमूने मोरी फ्रिंज से विकसित की गई है, जिससे उच्च-सटीकता तनाव माप की अनुमति मिलती है। यह प्रोटोकॉल विस्तृत तनाव माप प्रक्रिया को पेश करेगा और उम्मीद की जा रही है कि शोधकर्ताओं और इंजीनियरों की मदद से विरूपण को मापना, सामग्री और उत्पादों की विनिर्माण प्रक्रियाओं में सुधार करना सीखें।

<table border="0" cellpadding="0" cellspacing="0" width="737">
	<tbody>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:208px;">Automatic Polishing Machine</td>
			<td style="width:161px;">Marumoto Struers K.K.</td>
			<td style="width:201px;">LaboPol-30, Labor Force-100</td>
			<td style="width:167px;"></td>
		</tr>
		<tr height="34">
			<td height="34" style="height:34px;width:208px;">Carbon Fiber Reinforced Plastic</td>
			<td style="width:161px;">Mitsubishi Plastics, Inc.&#160;</td>
			<td style="width:201px;">HYEJ16M95DHX1</td>
			<td style="width:167px;"></td>
		</tr>
		<tr height="85">
			<td height="85" style="height:85px;width:208px;">Computer</td>
			<td style="width:161px;">DELL Japan</td>
			<td style="width:201px;">VOSTRO</td>
			<td style="width:167px;">Can be replaced with another computer with C++ programming language</td>
		</tr>
		<tr height="43">
			<td height="43" style="height:43px;width:208px;">Image Recording Software</td>
			<td style="width:161px;">Lasertec Corporation</td>
			<td style="width:201px;">LMEYE7</td>
			<td style="width:167px;">Installed in a laser scanning microscope</td>
		</tr>
		<tr height="42">
			<td height="42" style="height:42px;width:208px;">Ion Coater</td>
			<td style="width:161px;">Japan Electron Optics Laboratory Ltd.</td>
			<td style="width:201px;">JEC3000F</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:208px;">Laser Scanning Microscope</td>
			<td style="width:161px;">Lasertec Corporation</td>
			<td style="width:201px;">OPTELICS HYBRID</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="90">
			<td height="90" style="height:90px;width:208px;">Nanoimprint Device</td>
			<td style="width:161px;">Japan Laser Corporation&#160;</td>
			<td style="width:201px;">EUN-4200</td>
			<td style="width:167px;">Can be replaced with a electron beam lithography device or a focused ion beam milling device</td>
		</tr>
		<tr height="90">
			<td height="90" style="height:90px;width:208px;">Nanoimprint Mold</td>
			<td style="width:161px;">SCIVAX Corporation</td>
			<td style="width:201px;">3.0&#956;m pitch</td>
			<td style="width:167px;">Customized</td>
		</tr>
		<tr height="90">
			<td height="90" style="height:90px;width:208px;">Nanoimprint Resist</td>
			<td style="width:161px;">Toyo Gosei Co., Ltd&#160;</td>
			<td style="width:201px;">PAK01</td>
			<td style="width:167px;"></td>
		</tr>
		<tr height="42">
			<td height="42" style="height:42px;width:208px;">Polishing Solution</td>
			<td style="width:161px;">Marumoto Struers K.K.</td>
			<td style="width:201px;">DP-Spray P 15&#956;m, 1&#956;m, 0.25&#956;m</td>
			<td>Use from coarse to fine</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:208px;">Pipet</td>
			<td style="width:161px;">AS ONE Corporation</td>
			<td style="width:201px;">10mL</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:208px;">Sand Paper</td>
			<td style="width:161px;">Marumoto Struers K.K.</td>
			<td style="width:201px;">SiC Foil #320, #800</td>
			<td>Use from coarse to fine</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:208px;">Spin Coater</td>
			<td>MIKASA Corporation</td>
			<td style="width:201px;">MS-A100</td>
			<td></td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

micro/nano-scale strain distribution measurement from sampling moir&#233; fringes

यह काम पूर्ण-क्षेत्र सूक्ष्म / नैनो-स्तरीय विरूपण माप के लिए नमूना मोर तकनीक की माप प्रक्रिया और सिद्धांतों का वर्णन करता है। विकसित तकनीक दो तरीकों से किया जा सकता है: पुनर्निर्मित गुणन मोरी विधि या स्थानिक चरण-स्थानांतरण नमूना मोइर विधि का उपयोग करना। जब नमूना ग्रिड पिच 2 पिक्सल के आसपास होता है, तो 2-पिक्सेल नमूना मोइर फ्रिंज विरूपण माप के लिए एक गुणांक मोरे पैटर्न के पुनर्निर्माण के लिए उत्पन्न होते हैं। विस्थापन और तनाव दोनों संवेदनशीलता दृश्य के समान व्यापक क्षेत्र में परंपरागत स्कैनिंग मोइरे विधि के रूप में दो बार उच्च हैं। जब नमूना ग्रिड पिच 3 पिक्सल के आसपास या उससे अधिक है, बहु-पिक्सेल नमूना मोरी फ्रिंज उत्पन्न होते हैं, और एक स्थानिक चरण-स्थानांतरण तकनीक पूर्ण-फ़ील्ड विरूपण माप के लिए एकत्रित होती है। तनाव माप सटीकता में काफी सुधार हुआ है, और स्वचालित बैच माप आसानी से प्राप्त करने योग्य है।दोनों विधियां एक-शॉट ग्रिड छवि से दो-आयामी (2 डी) तनाव वितरण को नमूना या स्कैनिंग लाइनों को घुमाने के बिना, पारंपरिक मूय तकनीक के रूप में माप सकती हैं। उदाहरण के तौर पर, दो कार्बन फाइबर प्रबलित प्लास्टिक नमूनों की कतरनी प्रवृत्तियों सहित, 2 डी विस्थापन और तनाव के वितरण, तीन सूत्री झुकने वाले परीक्षणों में मापा गया था। प्रस्तावित तकनीक से यांत्रिक गुणों के गैर-विनाशकारी मात्रात्मक मूल्यांकन में महत्वपूर्ण भूमिका निभाने की उम्मीद है, विभिन्न प्रकार की सामग्रियों के बगैर तनाव, और दरारें उत्पन्न होती हैं।

2 डी विस्थापन और दो कार्बन फाइबर प्रबलित प्लास्टिक (सीएफआरपी) नमूनों (# 1 और # 2) के दबाव के वितरण को मोइरे गठन सिद्धांत 23 और माप प्रक्रिया ( चित्रा 1 ) के अनुसार मापा गया था। सीए...

Watch this Scientific Journal Video about Micro/Nano-scale Strain Distribution Measurement from Sampling MoirÃƒÂ© Fringes at JoVE.com

Micro/Nano-scale Strain Distribution Measurement from Sampling MoirÃƒÆ’Ã†'Ãƒâ€šÃ‚Â© Fringes

सूक्ष्म / नैनो पैमाने पर उच्च-सटीकता तनाव वितरण मापन के लिए 2-पिक्सेल और बहु-पिक्सेल नमूनाकरण विधियों की एक सैंपलिंग मोइर तकनीक यहां प्रस्तुत की गई है।

सूक्ष्म / नैनो-स्तरीय वितरण मापन नमूनाकरण से Moire Finges

This work describes the measurement procedure and principles of a sampling moir&#233; technique for full-field micro/nano-scale deformation measurements. ...

Research

JoVE Journal

Engineering

Micro/Nano-scale Strain Distribution Measurement from Sampling Moir&#233; Fringes

Measurement of Scattering Nonlinearities from a Single Plasmonic Nanoparticle

एक एकल Plasmonic Nanoparticle से nonlinearities बिखरने का मापन

Plasmonics, which are based on the collective oscillation of electrons due to light excitation, involve strongly enhanced local electric fields and thus ...

Strain Sensing Based on Multiscale Composite Materials Reinforced with Graphene Nanoplatelets

तनाव सेंसिंग ग्राफीन nanoplatelets साथ Multiscale कम्पोजिट सामग्री प्रबलित के आधार पर

The electrical response of NH2-functionalized graphene nanoplatelets composite materials under strain was studied. Two different manufacturing methods are ...

Optical Trap Loading of Dielectric Microparticles In Air

ढांकता हुआ microparticles की ऑप्टिकल जाल लोड हो रहा है हवा में

We demonstrate a method to trap a selected dielectric microparticle in air using radiation pressure from a single-beam gradient optical trap. Randomly ...

Standardized Method for Measuring Collection Efficiency from Wipe-sampling of Trace Explosives

ट्रेस विस्फोटक साफ कर लें-नमूने में से संग्रह क्षमता को मापने के लिए मानकीकृत विधि

One of the limiting steps to detecting traces of explosives at screening venues is effective collection of the sample. Wipe-sampling is the most common ...

Generation of Size-controlled Poly (ethylene Glycol) Diacrylate Droplets via Semi-3-Dimensional Flow Focusing Microfluidic Devices

Generation of Size-controlled Poly ethylene Glycol Diacrylate Droplets via Semi-3-Dimensional Flow Focusing Microfluidic Devices

आकार-नियंत्रित पाली की पीढ़ी (ईथीलीन ग्लाइकोल) अर्द्ध 3 आयामी प्रवाह Microfluidic उपकरणों ध्यान केंद्रित के माध्यम से Diacrylate बूंदों

Uniform and size-controllable poly (ethylene glycol) diacrylate (PEGDA) droplets could be produced via the flow focusing process in a microfluidic device. ...

Cutting Procedures, Tensile Testing, and Ageing of Flexible Unidirectional Composite Laminates

काटने की प्रक्रिया, टेन्सिल परीक्षण, और लचीला यूनिडायरेक्शनल कम्पोजिट लैमिनेट्स की उम्र बढ़ने

Many body armor designs incorporate unidirectional (UD) laminates. UD laminates are constructed of thin (&#60;0.05 mm) layers of high-performance yarns, ...

Intermediate Strain Rate Material Characterization with Digital Image Correlation

मध्यवर्ती विकृति दर सामग्री डिजिटल छवि सहसंबंध के साथ लक्षण वर्णन

The mechanical response of a material under dynamic load is typically different than its behavior under static conditions; therefore, the common ...

Method Development for Contactless Resonant Cavity Dielectric Spectroscopic Studies of Cellulosic Paper

Contactless अनुनाद कवी के लिए विधि विकास Dielectric स्पेक्ट्रोस्कोपिक अध्ययन सेल्यूलोसिक कागज के

The current analytical techniques for characterizing printing and graphic arts substrates are largely ex situ and destructive. This limits the amount of ...

Measuring Sub-23 Nanometer Real Driving Particle Number Emissions Using the Portable DownToTen Sampling System

पोर्टेबल डाउनटोटेन सैंपलिंग सिस्टम का उपयोग करके उप-23 नैनोमीटर रियल ड्राइविंग पार्टिकल नंबर उत्सर्जन को मापना

The current particle size threshold of the European Particle Number (PN) emission standards is 23 nm. This threshold could change because future ...

Calibration Procedures for Orthogonal Superposition Rheology

ऑर्थोगोनल सुपरपोजिशन रियोलॉजी के लिए अंशांकन प्रक्रियाएं

Orthogonal superposition (OSP) rheology is an advanced rheological technique that involves superimposing a small-amplitude oscillatory shear deformation ...