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조사 폰 Willebrand 요소 이상 모델을 사용 하는 흐름 챔버의 폰 Willebrand 요인-혈소판 문자열 형성

DOI :

10.3791/55917-v

August 14th, 2017

August 14th, 2017

10,983 Views

1Department of Pathology and Molecular Medicine, Queen's University, 2Department of Medicine, Queen's University

이 문서에서 설명 하는 내 피 폰 Willebrand 평가 하는 방법 요소 릴리스 및 다음 혈소판 유체 전단 응력은 생체 외에서 흐름 챔버 시스템을 사용 하 여 염증 성 자극에 대 한 응답에서에서 캡처.

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