Name: demonstration of equal-intensity beam generation by dielectric metasurfaces
Uploaded: 2019-06-07T12:30:00
Description: Watch this Scientific Journal Video about Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces at JoVE.com

Эта работа финансируется грантами Национального исследовательского фонда (NRF-2019R1A2C3003129, CAMM-2019M3A6B3030637, NRF-2018M3D1A1058998, NRF-2015R1A5A10376668) финансируются Министерством науки и ИКТ (МСит), Республика Корея.

1. Изготовление диэлектрической метаповерхности
<ol><li>Очистка сросленного субстрата кремнезема
	<ol>
<li>Приготовьте двусторонний полированный, сросшиеся ксилейкоподвора (длина: 2 см; ширина: 2 см; толщина: 500 мкм).</li>
		<li>Погрузите сросшиеся свилийного субстрата в 50 мл ацетона и про?...

<ol>
	<li>Khorasaninejad, M., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Metalenses+at+visible+wavelengths:+Diffraction-limited+focusing+and+subwavelength+resolution+imaging.">Metalenses at visible wavelengths: Diffraction-limited focusing and subwavelength resolution imaging.</a> Science. 352 (6290), 1190-1194 (2016).</li><li>Chen, W. T., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=A+broadband+achromatic+metalens+for+focusing+and+imaging+in+the+visible.">A broadband achromatic metalens for focusing and imaging in the visible.</a> Nature Nanotechnology. 13 (3), 220-226 (2018).</li><li>Zheng, G., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Metasurface+holograms+reaching+80%+efficiency.">Metasurface holograms reaching 80% efficiency.</a> Nature Nanotechnology. 10 (4), 308-312 (2015).</li><li>Devlin, R. C., Khorasaninejad, M., Chen, W. T., Oh, J., Capasso, F. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Broadband+high-efficiency+dielectric+metasurfaces+for+the+visible+spectrum.">Broadband high-efficiency dielectric metasurfaces for the visible spectrum.</a> Proceedings of the National Academy of Sciences. 113 (38), 10473-10478 (2016).</li><li>Yoon, G., Lee, D., Nam, K. T., Rho, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Pragmatic+Metasurface+Hologram+at+Visible+Wavelength:+The+Balance+between+Diffraction+Efficiency+and+Fabrication+Compatibility.">Pragmatic Metasurface Hologram at Visible Wavelength: The Balance between Diffraction Efficiency and Fabrication Compatibility.</a> ACS Photonics. 5 (5), 1643-1647 (2018).</li><li>Yoon, G., Lee, D., Nam, K. T., Rho, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term="Crypto-Display"+in+Dual-Mode+Metasurfaces+by+Simultaneous+Control+of+Phase+and+Spectral+Responses.">"Crypto-Display" in Dual-Mode Metasurfaces by Simultaneous Control of Phase and Spectral Responses.</a> ACS Nano. 12 (7), 6421-6428 (2018).</li><li>Ni, X., Wong, Z. J., Mrejen, M., Wang, Y., Zhang, X. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+ultrathin+invisibility+skin+cloak+for+visible+light.">An ultrathin invisibility skin cloak for visible light.</a> Science. 349 (6254), 1310-1314 (2015).</li><li>Khorasaninejad, M., Crozier, K. B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Silicon+nanofin+grating+as+a+miniature+chirality-distinguishing+beam-splitter.">Silicon nanofin grating as a miniature chirality-distinguishing beam-splitter.</a> Nature Communications. 5, 5386 (2014).</li><li>Zhang, D., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanoscale+beam+splitters+based+on+gradient+metasurfaces.">Nanoscale beam splitters based on gradient metasurfaces.</a> Optics Letters. 43 (2), 267 (2018).</li><li>Yoon, G., Lee, D., Nam, K. T., Rho, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Geometric+metasurface+enabling+polarization+independent+beam+splitting.">Geometric metasurface enabling polarization independent beam splitting.</a> Scientific Reports. 8 (1), 9468 (2018).</li><li>Goodman, J. W. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=.">.</a> Introduction to Fourier Optics. , (2005).</li><li>Gerchberg, R. W., Saxton, W. O. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=A+practical+algorithm+for+the+determination+of+the+phase+from+image+and+diffraction+plane+pictures.">A practical algorithm for the determination of the phase from image and diffraction plane pictures.</a> Optik. 35 (2), 237-246 (1972).</li><li>Yoon, G., Kim, I., Rho, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Challenges+in+fabrication+towards+realization+of+practical+metamaterials.">Challenges in fabrication towards realization of practical metamaterials.</a> Microelectronic Engineering. 163, 7-20 (2016).</li><li>Zhou, Z., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Efficient+Silicon+Metasurfaces+for+Visible+Light.">Efficient Silicon Metasurfaces for Visible Light.</a> ACS Photonics. 4 (3), 544-551 (2017).</li><li>Dammann, H., G&#246;rtler, K. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=High-efficiency+in-line+multiple+imaging+by+means+of+multiple+phase+holograms.">High-efficiency in-line multiple imaging by means of multiple phase holograms.</a> Optics Communications. 3 (5), 312-315 (1971).</li></ol>

Некоторые этапы изготовления должны быть проведены тщательно, чтобы создать метаповерхность, которая такая же, как первоначальный дизайн. В процессе разработки сопротивления, низкотемпературное решение, как правило, предпочтительнее. Стандартным условием является комнатная темпера?...

Метаповерхности, состоящие из двухмерных подволяновых антенных массивов, продемонстрировалимножество перспективных оптических функций, таких как ахроматические линзы 1,2, голограммы 3,4,5 ,6, и оптические плащи7. Обычные громоздкие оптические компоненты могут быть заменены ультратонкими метаповерхностями, сохраняя при этом первоначальную функциональность. Например, сплиттер пучка является оптическим устройством, используемым для разделения лучей инцидента на два луча. Типичные сплиттеры пучка сделаны путем объединения двух треугольных призм. Поскольку их характеристики интерфейса определяют свойства расщепления луча, трудно уменьшить физический размер без функциональной деградации. С другой стороны, ультратонкие сплиттеры пучка могут быть реализованы с помощьюметаповерхностей, закодированных одномерным линейным градиентом фазы 8,9. Толщина метаповерхностей меньше, чем их рабочие длины волн, а свойства разделения могут контролироваться распределением фаз.
Мы разработали сплиттер метаповерхности, который может генерировать равноинтенсивные лучи независимо от состояния поляризации инцидента10. Эта характеристика происходит от голограммы Фурье. Благодаря изображению двух белых пятен на черном фоне, сгенерированная голограмма с метаповерхности такая же, как и закодированное изображение. Голограмма Фурье не имеет определенного фокусного длины, поэтому закодированное изображение можно наблюдать во всем пространстве за метаповерхностью11. Если за метаповерхностью генерируется одно и то же двухточечное изображение, оно также работает как сплиттер луча. Голограмма Фурье по метаповерхности создает перевернутое изображение, которое называется двойным изображением, по отношению к состояниям ортогонализации. Двойное изображение обычно рассматривается как шум. Тем не менее, двухместное изображение, закодированное в этой метаповерхности, является источником-симметричным, что приводит к идеальному перекрытию исходных и двойных изображений. В виду того что любые положения поляризации могут быть представлены линейной комбинацией right-handed (RCP) и left-handed (LCP) круговой поляризации, прибор описанный здесь показывает поляризацию-независимую функциональность.
Здесь мы представляем протокол для изготовления и оптической характеристики диэлектрических метаповерхностей, позволяющих одноимную генерацию пучка. Фазовое распределение этого устройства извлекается из алгоритма Герхберг-Сакстон (GS), который обычно используется для фазовых голограмм12. a-Si:H толщиной 300 нм откладывается на срослом субстрате кремнезема с использованием PECVD. Маска Cr определяется на пленке a-Si:H с использованием EBL. Шаблон маски соответствует фазовому распределению, полученному из алгоритма GS. ICP-RIE используется для травления a-Si:H пленки вдоль маски Cr. Остальная часть маски Cr удаляется Cr etchant, завершающим изготовление образца. Оптическая функциональность изготовленного метаповерхности характеризуется с помощью индивидуальной оптической установки. Когда лазерный луч является инцидентом с метаповерхность, передаваемый луч делится на три части, а именно два диффравенных луча и один луч нулевого порядка. Диффраутированные лучи отклоняются от расширения пути луча инцидента, в то время как пучок нулевого порядка следует за ним. Чтобы проверить функциональность этого устройства, мы измерили силу луча, профиль луча и размножительный угол с помощью счетчика мощности, CCD и protractor, соответственно.
Все используемые процессы изготовления и материалы оптимизированы для целевой функциональности. Для видимых рабочих частот отдельные размеры антенны должны сосужаться в несколько сотен нанометров, а сам материал должен иметь низкую оптическую потерю на видимых длинах волн. При определении таких небольших структур применимы лишь несколько видов методов изготовления. Типичная фотолитография, а также прямое лазерное письмо, неспособны к изготовлению из-за предела дифракции. Сосредоточенный ионный луч фрезерования могут быть использованы, но Есть критические вопросы загрязнения галлия, шаблон дизайн зависимости, и медленная скорость процесса. Практически, EBL является единственным способом облегчить изготовление метаповерхностей, работающих на видимых частотах13.
Диэлектрики, как правило, предпочитают из-за неизбежной потери ohmic металлов. Оптическая потеря a-Si:H достаточно низка для нашей цели. Хотя оптическая потеря a-Si:H не так низко, как низкой потеридиэлектрики, такие как диоксид титана 1,4 и кристаллический кремний14, изготовление a-Si:H гораздо проще. Типичные процессы испарения и распыления не способны к осаждению пленки a-Si:H. PECVD обычно требуется. Во время процесса PECVD, некоторые атомы водорода из SiH4 и H2 газов оказались в ловушке среди атомов кремния, в результате чего a-Si:H пленки. Существует два способа определения шаблонов a-Si:H. Одним из них является осаждение a-Si:H на узорчатом фоторезистом, за которым следует процесс подъема, а другой – определение маски для травления на пленке a-Si:H, за которой следует процесс травления. Первый хорошо подходит для процессов испарения, но это не легко отойти на хранение a-Si:H пленки с помощью испарения. Таким образом, последний является оптимальным способом сделать a-Si:H шаблонов. Cr используется в качестве материала маски травления из-за его высокой селективности травления с кремнием.

<table>
	<tbody>
		<tr>
			<td>Plasma enhanced chemical vapor deposition</td>
			<td>BMR Technology</td>
			<td>HiDep-SC</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Electron beam lithography</td>
			<td>Elionix</td>
			<td>ELS-7800</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>E-beam evaporation system</td>
			<td>Korea Vacuum Tech</td>
			<td>KVE-E4000</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Inductively-coupled plasma reactive ion etching</td>
			<td>DMS</td>
			<td>-</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Ultrasonic cleaner</td>
			<td>Honda</td>
			<td>W-113</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>E-beam resist</td>
			<td>MICROCHEM</td>
			<td>495 PMMA A2</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Resist developer</td>
			<td>MICROCHEM</td>
			<td>MIBK:IPA=1:3</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Conducting polymer</td>
			<td>Showa denko</td>
			<td>E-spacer</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Chromium etchant</td>
			<td>KMG</td>
			<td>CR-7</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Acetone</td>
			<td>J.T. Baker</td>
			<td>925402</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>2-propanol</td>
			<td>J.T. Baker</td>
			<td>909502</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Chromium evaporation source</td>
			<td>Kurt J. Lesker</td>
			<td>EVMCR35D</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Collimated laser diode module</td>
			<td>Thorlabs</td>
			<td>CPS-635</td>
			<td>wavelength: 635 nm</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>ND:YAG laser</td>
			<td>GAM laser</td>
			<td>GAM-2000</td>
			<td>wavelength: 532 nm</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>power meter</td>
			<td>Thorlabs</td>
			<td>S120VC</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>CCD Camera</td>
			<td>INFINITY</td>
			<td>infinity2-2M</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>ND filter</td>
			<td>Thorlabs</td>
			<td>NCD-50C-4-A</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Linear polarizer</td>
			<td>Thorlabs</td>
			<td>LPVISA100-MP2</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Lens</td>
			<td>Thorlabs</td>
			<td>LB1676</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Iris</td>
			<td>Thorlabs</td>
			<td>ID25</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Circular polarizer</td>
			<td>Edmund optics</td>
			<td>88-096</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>sample holder</td>
			<td>Thorlabs</td>
			<td>XYFM1</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>PECVD software</td>
			<td>BMR Technology</td>
			<td>HIDEP</td>
			<td></td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

demonstration of equal-intensity beam generation by dielectric metasurfaces

Демонстрируется протокол изготовления и характеристики сплиттера метаповерхностного луча, обеспечивающего выработку одинаковой интенсивности образования луча. Водородный аморфный кремний (a-Si:H) откладывается на срослом субстрате кремнезема с использованием плазменного химического осаждения паров (PECVD). Типичный аморфный кремний, отложенный путем испарения, вызывает серьезные оптические потери, посягая на работу на видимых частотах. Атомы водорода внутри аморфной кремниевой тонкой пленки могут уменьшить структурные дефекты, улучшая оптическую потерю. Для работы метаповерхностей на видимых частотах требуются наноструктуры в несколько сотен нанометров. Обычная фотолитография или прямое лазерное письмо непредставляется при изготовлении таких небольших структур из-за предела дифракции. Таким образом, электронная лучевая литография (EBL) используется для определения хромовой (Cr) маски на тонкой пленке. Во время этого процесса, подвергшееся сопротивлению разработан при холодной температуре, чтобы замедлить химическую реакцию и сделать края шаблона острее. Наконец, a-Si:H выгравируется вдоль маски, используя индуктивно соединенные плазмено-реактивные ионные травления (ICP-RIE). Продемонстрированный метод неосуществим для крупномасштабного изготовления из-за низкой пропускной записи EBL, но его можно улучшить, объединив его с литографией наноимпринта. Изготовленное устройство характеризуется настраиваемым оптическим устройством, состоящим из лазера, поляризатора, объектива, счетчика мощности и зарядного устройства (CCD). Изменяя длину волны и поляризацию лазерной волны, измеряются свойства дифракции. Измеренные диффратые лучи всегда равны, независимо от поляризации инцидента, а также длины волны.

Результаты измерений показывают поляризацию-независимую функциональность устройства, представленного здесь(рисунок 1). Измеренные полномочия пучка дифракционных порядков м и 1 равны независимо от состояния поляризации инцидента (т.е. RCP, LCP и линейной поляризации). Поск...

Watch this Scientific Journal Video about Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces at JoVE.com

Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces

Демонстрация поколения равной интенсивности луча диэлектрическими метаповерхностями

Представлен протокол изготовления и оптической характеристики диэлектрических метаповерхностей. Этот метод может быть применен к изготовлению не только пучковых сплиттеров, но и общих диэлектрических метаповерхностей, таких как линзы, голограммы и оптические плащи.

The fabrication and characterization protocol for a metasurface beam splitter, enabling equal-intensity beam generation, is demonstrated. Hydrogenated ...

Этот протокол предоставляет подробный метод изготовления для реализации высокой эффективности метаповерхностных, один из самых важных вопросов в области метаповерхностных исследований. По сравнению с другими методами для проверки осаждения атомного слоя, этот метод является недорогим и быстрым методом изготовления для реализации высокой эффективности метаповерхностных поверхностей, работающих на видимых длинах волн. Этот протокол может быть применен для изготовления общих метаповерхностных элементов, таких как линзы, голограммы и оптические часы, просто изменив конфигурацию шаблона.Этот метод может обеспечить понимание кремния фотоники научно-исследовательской области, которая использует кремния микро-и нано структур. Подложка для метаповерхностного сплавленного кремнезема. Подготовка чистой двойной стороне полированной площади сплавленного кремнезема два сантиметра на стороне.Возьмите субстрат для загрузки в систему PECVD. Там, в камере блокировки нагрузки, распоите субстрат на джиге. Закройте камеру и приготовьтесь к работе системы.В программном обеспечении управления, настроить процесс осаждения, установив температуру, мощность РФ, скорость потока газа, и давление процесса. После осаждения, которое занимает около 300 секунд, восстановить образец. Возьмите образец с отложенным гидрогенизированным аморфным кремнием в спиновое пальто.Загрузите образец на держатель образца шпателя. Далее, получить фильтр установлен пять миллилитров шприц, содержащий PMMA с 2%anusol. Пальто образец с PMMA перед началом вращения на 2000 об /мин в течение одной минуты.После этого перенесите образец на горячую тарелку. Выпекать образец при температуре 180 градусов по Цельсию в течение пяти минут. Затем удалите образец, чтобы охладить его в течение одной минуты, прежде чем продолжить.Затем верните образец в спиновое пальто. Используйте одноми миллилитровую пипету, чтобы выпустить на ее поверхность проводящий полимерный раствор. Пальто образца на 2000 об /мин в течение одной минуты.Когда покрытие будет завершено, возьмите образец для литографии электронного луча. У образца фиксированной на джиг для машины. Затем поместите джиг в камеру машины и завершите процесс погрузки.Перейти к работе с консолью и подготовить электронный луч литографии системы для процедуры. После подготовки системы, работа на компьютере подключен к консоли. В этой системе используйте командную строку для преобразования файла GDS в файл CEL.Когда файл преобразуется, введите задание для запуска программного обеспечения EBL. Используйте командную строку, чтобы проверить, что желаемый шаблон находится в файле формата CEL в текущем каталоге. Введите задание для запуска программного обеспечения.В программном обеспечении нажмите на меню модификации размера чипа. Выберите 600 микрометров на 600 микрометров. Далее выберите 240 000 точек.Сохраните изменения. Затем выйти из этого экрана. Теперь нажмите на меню создания шаблонных данных.В окне команды введите PS для загрузки файла CEL шаблона. Введите I в командное окно. Затем нажмите на шаблон, чтобы увеличить изображение.Теперь введите ST0 в командном окне, чтобы установить время дозы до трех микросекунд. Введите SP11, чтобы установить подвергая шаг в нормальном состоянии. Создайте файл CCC, введя ПК и имя файла.Когда это будет сделано, нажмите на центр шаблона. Чтобы применить условия разоблачения, введите CP в командное окно и нажмите на шаблон. Введите SV и имя файла для создания файла CON.Выйти из этого меню создания шаблонных данных, введя в меню экспозиции кнопку «Движение». Введите I и выбранное имя файла CON. Установите значение дозы до 2,4.Нажмите кнопку побега, чтобы завершить расписание. Затем введите E и нажмите кнопку экспозиции, чтобы начать процесс экспозиции. Когда процесс экспозиции завершится, вернитесь на консоль EBL.Выключите кнопку изоляции. Нажмите кнопку EX, чтобы переместить сцену. Затем выгрузите образец из камеры.Далее приготовьтесь удалить проводящий полимер. Сделай это, погрузив образец в 50 миллилитров деионизированной воды в течение одной минуты. Затем переместите образец в 10-миллилитровый раствор метил изобутилкетона и изопропилового спирта, окруженный льдом.Через 12 минут снимите образец и промойте его изопропиловым спиртом. Высушите его взорванным азотным газом. Следующий шаг требует испарителя электронного луча.У образца фиксированной на держатель испарителя и смонтировать держатель внутри камеры испарения. Теперь получить хром для использования в испаритель. Подготовка кусок типа хрома в графитовом тигле для испарения на поверхность образца.Загрузите тигель в камеру. Далее, работа с программным обеспечением для испарителя электронного луча. Нажмите кнопку перекачки камеры, чтобы создать вакуум в камере.В материальном разделе выберите хром. Затем нажмите кнопку материала, чтобы применить выделение. Нажмите кнопку затвора E луч, чтобы открыть затвор источника.Далее щелкните высокое напряжение. Следуйте этому, нажав на источник. Используйте восходящую стрелку, чтобы медленно увеличить мощность луча.Остановка на целевой скорости осаждения. Чтобы сбросить датчик толщины, нажмите кнопку "ноль". Нажмите на главную кнопку затвора, чтобы открыть затвор.Мониторинг датчика толщины. Когда датчик достигает 30 нанометров, нажмите на главную кнопку затвора, чтобы закрыть затвор. Нажмите затвор E луч, чтобы закрыть затвор источника.Используйте нисходящую стрелку, чтобы медленно уменьшить мощность луча до нуля. Оказавшись на нуле, нажмите источник, а затем высокое напряжение. Дайте камере остыть в течение 15 минут, а затем нажмите вентиляционные отверстия.Удалите образец из камеры и держателя. Далее, возьмите его для процесса старта. Во-первых, погрузить его в 50 миллилитров ацетона в течение трех минут.Следуйте этому sonication в течение одной минуты на 40 килогерц. Промыть образец изопропиловым спиртом и высушить азотным газом. На данный момент образец готов к офорту.Получить тепловой клей и распространение его на задней части образца, прежде чем прикрепить образец к джигу системы травления. Загрузите джиг в систему травления. На компьютере установите скорость потока газа хлора и бромистого водорода, источник питания и смещения перед травлением в течение 100 секунд.После офорта выгрузите образец. С пылью протрите, удалите тепловой клей. Погрузите образец в 20 миллилитров хлорного офорта в течение двух минут.Затем перенесите его на 50 миллилитров деионизированной воды на одну минуту. Промыть образец деионизированной водой и высушить азотным газом. Это сканирующее электронное микроскопию верхней части метаповерхностной поверхности.Каждая из ячеек имеет основание, которое составляет 150 нанометров на 80 нанометров. Высота ячейки составляет 300 нанометров. Дополнительные детали ячеек видны в этом представлении перспективы.Эксперимент, который измеряет мощность луча, когда 532 нанометровый лазерный луч является инцидентом на метаповерхностной демонстрирует полярно-независимую функциональность устройства. Для правых круговых поляризованных лучей, линейно поляризованных лучей и левых круговых поляризованных лучей сила в порядке «плюс» и «минус один дифракцион» равна. Эксперименты с лазерным лучом 635 нанометров дают аналогичные результаты.Метод разработки является наиболее важным шагом, потому что мы можем точно контролировать процесс разработки из-за медленной скорости реакции. Большинство сбоев происходит во время этапов сушки. Следует иметь в виду, что сильный дует лучше, чем слабый дует в целом.Эта процедура может быть применена не только к общим диэлектрическим метаповерхностным, но и к кремниевой фотонике и микроэлектронной механической системе. Как правило, мы можем сделать тонкие нано структуры с помощью этой техники, чтобы она прокладывает путь для решения, как свет взаимодействует с некоторыми структурами длины волны. PMMA и пара раствора развития оба опасны поэтому процессы включая их должны быть выполнены в вытяжки дыма.

Research

JoVE Journal

Engineering

Molecular Beam Mass Spectrometry With Tunable Vacuum Ultraviolet (VUV) Synchrotron Radiation

Molecular Beam Mass Spectrometry With Tunable Vacuum Ultraviolet VUV Synchrotron Radiation

Молекулярная масс-спектрометрии ширина с перестраиваемой вакуумного ультрафиолетового (ВУФ) синхротронного излучения

Tunable soft ionization coupled to mass spectroscopy is a powerful method to investigate isolated molecules, complexes and clusters and their spectroscopy ...

The Preparation of Electrohydrodynamic Bridges from Polar Dielectric Liquids

Подготовка Электрогидродинамические Мосты от полярных диэлектрических жидкостей

Horizontal and vertical liquid bridges are simple and powerful tools for exploring the interaction of high intensity electric fields (8-20 kV/cm) and ...

Speciation and Bioavailability Measurements of Environmental Plutonium Using Diffusion in Thin Films

Видообразования и биодоступности Измерения окружающей среды плутонием диффузия в тонких пленках

The biological uptake of plutonium (Pu) in aquatic ecosystems is of particular concern since it is an alpha-particle emitter with long half-life which can ...

Fabrication Process of Silicone-based Dielectric Elastomer Actuators

Изготовление Процесс силиконовой основе диэлектрических эластомеров приводов

This contribution demonstrates the fabrication process of dielectric elastomer transducers (DETs). DETs are stretchable capacitors consisting of an ...

Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography

Использование жертвенной наночастицами для устранения эффекта дробового шума в контактных отверстий сфабриковано E-лучевую литографию

Nano-patterns fabricated with extreme ultraviolet (EUV) or electron-beam (E-beam) lithography exhibit unexpected variations in size. This variation has ...

Optical Trap Loading of Dielectric Microparticles In Air

Оптическая ловушка Загрузка Диэлектрические микрочастицами In Air

We demonstrate a method to trap a selected dielectric microparticle in air using radiation pressure from a single-beam gradient optical trap. Randomly ...

Dielectric RheoSANS &#8212; Simultaneous Interrogation of Impedance, Rheology and Small Angle Neutron Scattering of Complex Fluids

Dielectric RheoSANS ÃƒÆ’Ã‚Â¢ÃƒÂ¢Ã¢â‚¬Å¡Ã‚Â¬ÃƒÂ¢Ã¢â€šÂ¬Ã‚Â Simultaneous Interrogation of Impedance, Rheology and Small Angle Neutron Scattering of Complex Fluids

Диэлектрические RheoSANS - Одновременная Допрос импеданса, реология и малого угол рассеяния нейтронов сложных жидкостей

A procedure for the operation of a new dielectric RheoSANS instrument capable of simultaneous interrogation of the electrical, mechanical and ...

Demonstration of a Hyperlens-integrated Microscope and Super-resolution Imaging

Демонстрация Hyperlens интегрированы микроскопа и супер-резолюции изображений

The use of super-resolution imaging to overcome the diffraction limit of conventional microscopy has attracted the interest of researchers in biology and ...

Fabrication of Schottky Diodes on Zn-polar BeMgZnO/ZnO Heterostructure Grown by Plasma-assisted Molecular Beam Epitaxy

Производство диодов Шоттки на Zn Полярный BeMgZnO/ZnO гетероструктуры, выращенных при содействии плазмы Молекулярно-пучковая эпитаксия

Heterostructure field effect transistors (HFETs) utilizing a two dimensional electron gas (2DEG) channel have a great potential for high speed device ...

Preparing an Isotopically Pure 229Th Ion Beam for Studies of 229mTh

Preparing an Isotopically Pure 229Th Ion Beam for Studies of 229mTh

Подготовка изотопно Чистый 229Th Ion Луч для исследований 229mTh

A methodology is described to generate an isotopically pure 229Th ion beam in the 2+ and 3+ charge states. This ion beam enables one to investigate the ...