Name: growth of gold dendritic nanoforests on titanium nitride-coated silicon substrates
Uploaded: 2019-06-03T14:00:00
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यह काम विज्ञान और प्रौद्योगिकी, ताइवान के मंत्रालय द्वारा समर्थित किया गया था अनुबंध संख्या के तहत सबसे 105-2221-E-492-003-MY2 और सबसे 107-2622-E-239-002-CC3 ।

1. नमूना तैयारी
<ol><li>
टिन सब्सट्रेट तैयारी एक उच्च शक्ति आवेग मैग्नेट्रॉन sputtering प्रणाली का उपयोग
	<ol>
<li>2 सेमी x 2 सेमी नमूनों में एक 4 इंच n-प्रकार सिलिकॉन वेफर कट ।</li>
		<li>एसीटोन, isopropanol, और विआयनीकृत पानी का उप?...

<ol>
	<li>Nehl, C. L., Hafner, J. H. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Shape-dependent+plasmon+resonances+of+gold+nanoparticles.">Shape-dependent plasmon resonances of gold nanoparticles.</a> Journal of Materials Chemistry. 18 (21), 2415-2419 (2008).</li><li>Augui&#233;, B., Barnes, W. L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Collective+resonances+in+gold+nanoparticle+arrays.">Collective resonances in gold nanoparticle arrays.</a> Physical Review Letters. 101 (14), 143902 (2008).</li><li>Sakai, N., Fujiwara, Y., Arai, M., Yu, K., Tatsuma, T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electrodeposition+of+gold+nanoparticles+on+ITO:+Control+of+morphology+and+plasmon+resonance-based+absorption+and+scattering.">Electrodeposition of gold nanoparticles on ITO: Control of morphology and plasmon resonance-based absorption and scattering.</a> Journal of Electroanalytical Chemistry. 628 (1-2), 7-15 (2009).</li><li>Shiao, M. H., Lai, C. P., Liao, B. H., Lin, Y. S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effect+of+photoillumination+on+gold-nanoparticle-assisted+chemical+etching+of+silicon.">Effect of photoillumination on gold-nanoparticle-assisted chemical etching of silicon.</a> Journal of Nanomaterials. 2018, 5479605 (2018).</li><li>Ayati, A., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Photocatalytic+degradation+of+nitrobenzene+by+gold+nanoparticles+decorated+polyoxometalate+immobilized+TiO2+nanotubes.">Photocatalytic degradation of nitrobenzene by gold nanoparticles decorated polyoxometalate immobilized TiO2 nanotubes.</a> Separation and Purification Technology. 171, 62-68 (2016).</li><li>Huang, T., Meng, F., Qi, L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Controlled+synthesis+of+dendritic+gold+nanostructures+assisted+by+supramolecular+complexes+of+surfactant+with+cyclodextrin.">Controlled synthesis of dendritic gold nanostructures assisted by supramolecular complexes of surfactant with cyclodextrin.</a> Langmuir. 26 (10), 7582-7589 (2009).</li><li>Lahiri, A., Wen, R., Kuimalee, S., Kobayashi, S. I., Park, H. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=One-step+growth+of+needle+and+dendritic+gold+nanostructures+on+silicon+for+surface+enhanced+Raman+scattering.">One-step growth of needle and dendritic gold nanostructures on silicon for surface enhanced Raman scattering.</a> CrystEngComm. 14 (4), 1241-1246 (2012).</li><li>Lahiri, A., Wen, R., Kobayashi, S. I., Wang, P., Fang, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Unique+and+unusual+pattern+demonstrating+the+crystal+growth+through+bubble+formation.">Unique and unusual pattern demonstrating the crystal growth through bubble formation.</a> Crystal Growth &#38; Design. 12 (3), 1666-1670 (2012).</li><li>Lahiri, A., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Photo-assisted+control+of+gold+and+silver+nanostructures+on+silicon+and+its+SERRS+effect.">Photo-assisted control of gold and silver nanostructures on silicon and its SERRS effect.</a> Journal of Physics D: Applied Physics. 46 (27), 275303 (2013).</li><li>Lv, Z. Y., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Facile+and+controlled+electrochemical+route+to+three-dimensional+hierarchical+dendritic+gold+nanostructures.">Facile and controlled electrochemical route to three-dimensional hierarchical dendritic gold nanostructures.</a> Electrochimica Acta. 109, 136-144 (2013).</li><li>Dutta, S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Mesoporous+gold+and+palladium+nanoleaves+from+liquid&#8211;liquid+interface:+enhanced+catalytic+activity+of+the+palladium+analogue+toward+hydrazine-assisted+room-temperature+4-nitrophenol+reduction.">Mesoporous gold and palladium nanoleaves from liquid&#8211;liquid interface: enhanced catalytic activity of the palladium analogue toward hydrazine-assisted room-temperature 4-nitrophenol reduction.</a> ACS Applied Materials &#38; Interfaces. 6 (12), 9134-9143 (2014).</li><li>Lin, C. T., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Rapid+fabrication+of+three-dimensional+gold+dendritic+nanoforests+for+visible+light-enhanced+methanol+oxidation.">Rapid fabrication of three-dimensional gold dendritic nanoforests for visible light-enhanced methanol oxidation.</a> Electrochimica Acta. 192, 15-21 (2016).</li><li>Lahiri, A., Kobayashi, S. I. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electroless+deposition+of+gold+on+silicon+and+its+potential+applications.">Electroless deposition of gold on silicon and its potential applications.</a> Surface Engineering. 32 (5), 321-337 (2016).</li><li>White, N., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Surface/interface+analysis+and+optical+properties+of+RF+sputter-deposited+nanocrystalline+titanium+nitride+thin+films.">Surface/interface analysis and optical properties of RF sputter-deposited nanocrystalline titanium nitride thin films.</a> Applied Surface Science. 292, 74-85 (2014).</li><li>Zhao, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Surface+enhanced+Raman+scattering+substrates+based+on+titanium+nitride+nanorods.">Surface enhanced Raman scattering substrates based on titanium nitride nanorods.</a> Optical Materials. 47, 219-224 (2015).</li><li>Lorite, I., Serrano, A., Schwartzberg, A., Bueno, J., Costa-Kr&#228;mer, J. L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Surface+enhanced+Raman+spectroscopy+by+titanium+nitride+non-continuous+thin+films.">Surface enhanced Raman spectroscopy by titanium nitride non-continuous thin films.</a> Thin Solid Films. 531, 144-146 (2013).</li><li>O&#8217;Kelly, J. P., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Room+temperature+electroless+plating+copper+seed+layer+process+for+damascene+interlevel+metal+structures.">Room temperature electroless plating copper seed layer process for damascene interlevel metal structures.</a> Microelectronic Engineering. 50 (1), 473-479 (2000).</li><li>Cesiulis, H., Ziomek-Moroz, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electrocrystallization+and+electrodeposition+of+silver+on+titanium+nitride.">Electrocrystallization and electrodeposition of silver on titanium nitride.</a> Journal of Applied Electrochemistry. 30 (11), 1261-1268 (2000).</li><li>Wu, Y., Chen, W. C., Fong, H. P., Wan, C. C., Wang, Y. Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Displacement+reactions+between+metal+ions+and+nitride+barrier+layer/silicon+substrate.">Displacement reactions between metal ions and nitride barrier layer/silicon substrate.</a> Journal of the Electrochemical Society. 149 (5), G309-G317 (2002).</li><li>Koo, H. C., Ahn, E. J., Kim, J. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Direct-electroplating+of+Ag+on+pretreated+TiN+surfaces.">Direct-electroplating of Ag on pretreated TiN surfaces.</a> Journal of the Electrochemical Society. 155 (1), D10-D13 (2008).</li><li>Shiao, M. H., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Novel+gold+dendritic+nanoflowers+deposited+on+titanium+nitride+for+photoelectrochemical+cells.">Novel gold dendritic nanoflowers deposited on titanium nitride for photoelectrochemical cells.</a> Journal of Solid State Electrochemistry. 22 (10), 3077-3084 (2018).</li><li>Shiao, M. H., Lin, C. T., Zeng, J. J., Lin, Y. S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Novel+gold+dendritic+nanoforests+combined+with+titanium+nitride+for+visible-light-enhanced+chemical+degradation.">Novel gold dendritic nanoforests combined with titanium nitride for visible-light-enhanced chemical degradation.</a> Nanomaterials. 8 (5), 282 (2018).</li><li>Carraro, C., Maboudian, R., Magagnin, L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Metallization+and+nanostructuring+of+semiconductor+surfaces+by+galvanic+displacement+processes.">Metallization and nanostructuring of semiconductor surfaces by galvanic displacement processes.</a> Surface Science Reports. 62 (12), 499-525 (2007).</li></ol>

इस अध्ययन में, कई शाखा आकारों वाले Au DNFs को FAGRR का उपयोग करके टिन/Si की सतह पर सजाया गया था । Au DNFs के जमाव को रंग में एक महत्वपूर्ण परिवर्तन के द्वारा सीधे पहचाना जा सकता है । टिन/Si पर Au DNFs की मोटाई 15 मिनट के भीतर ५.१० ?...

सोने नैनोकणों विशेषता ऑप्टिकल गुण और स्थानीयकृत सतह plasmon अनुनादों (lsprs), आकार और नैनोकणों1,2,3,4के आकार पर निर्भर करता है । इसके अलावा, सोने नैनोकणों काफी plasmonic प्रकाश उत्प्रेरक प्रतिक्रियाओं को बढ़ा सकते हैं5. Dendritic nanoforests खड़ी सोने नैनोकणों की वजह से उनकी उल्लेखनीय विशेष सतह क्षेत्रों और मजबूत lspr वृद्धि6,7,8,9 की काफी ध्यान दिया है ,10,11,12,13।
टिन एक अत्यंत कठिन सिरेमिक सामग्री है और उल्लेखनीय थर्मल, रासायनिक, और यांत्रिक स्थिरता है । टिन विशिष्ट ऑप्टिकल गुण है और दृश्य करने वाली के पास अवरक्त प्रकाश14,15के साथ plasmonic अनुप्रयोगों के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है । अनुसंधान का प्रदर्शन किया है कि टिन विद्युत चुंबकीय क्षेत्र संवर्द्धन, Au nanostructures16के समान उत्पादन कर सकते हैं । आवेदन के लिए टिन के सबस्ट्रैट्स पर कॉपर17 या सिल्वर18,19,20 का निक्षेपण दर्शाया गया है । तथापि, अनुप्रयोगों के लिए एयू/टिन कंपोजिट सामग्रियों पर कुछ अध्ययनों का निष्पादन किया गया है । Shiao एट अल. हाल ही में Au DNFs के संभावित अनुप्रयोगों का प्रदर्शन किया है और photoelectrochemical कोशिकाओं21 और रासायनिक गिरावट22के लिए टिन कंपोजिट ।
Au एक FAGRR23का उपयोग करके एक टिन सब्सट्रेट पर संश्लेषित किया जा सकता है. अनुप्रयोग के निष्पादन में टिन पर Au DNFs की निक्षेपण स्थिति महत्वपूर्ण है । यह अध्ययन एक टिन लेपित एसआई सब्सट्रेट पर Au DNFs के विकास की जांच करता है ।

<table border="0" cellpadding="0" cellspacing="0" style="width:911px;" width="912">
	<tbody>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:233px;">Acetone</td>
			<td style="width:321px;">Dinhaw Enterprise Co. Ltd.,Taipei, Taiwan</td>
			<td style="width:175px;"></td>
			<td style="width:182px;"></td>
		</tr>
		<tr height="49">
			<td height="49" style="height:49px;width:233px;">Isopropanol</td>
			<td style="width:321px;">Echo Chemical Co. Ltd., Miaoli, Taiwan</td>
			<td style="width:175px;">TG-078-000000-75NL</td>
			<td style="width:182px;"></td>
		</tr>
		<tr height="30">
			<td height="30" style="height:31px;width:233px;">Buffered Oxide Etch</td>
			<td style="width:321px;">Uni-onward Corp., Hsinchu, Taiwan&#160;</td>
			<td style="width:175px;">UR-BOE-1EA</td>
			<td style="width:182px;"></td>
		</tr>
		<tr height="31">
			<td height="31" style="height:31px;width:233px;">Chloroauric Acid</td>
			<td style="width:321px;">Alfa Aesar., Heysham, United Kingdom</td>
			<td style="width:175px;">36400.03</td>
			<td style="width:182px;"></td>
		</tr>
		<tr height="31">
			<td height="31" style="height:31px;width:233px;">N-Type Silicon Wafer</td>
			<td style="width:321px;">Summit-Tech Company, Hsinchu, Taiwan</td>
			<td style="width:175px;"></td>
			<td style="width:182px;"></td>
		</tr>
		<tr height="62">
			<td height="62" style="height:62px;width:233px;">High-Power Impulse Magnetron Sputtering System (HiPIMS)</td>
			<td style="width:321px;">Melec GmbH, Germany</td>
			<td style="width:175px;"></td>
			<td style="width:182px;">SPIK2000A&#160;</td>
		</tr>
		<tr height="55">
			<td height="55" style="height:55px;width:233px;">Scanning Electron Microscope (SEM)</td>
			<td style="width:321px;">JEOL, Japan</td>
			<td style="width:175px;"></td>
			<td style="width:182px;">JSM-7800F</td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:233px;">Ion Sputter Coater</td>
			<td style="width:321px;">Hitachi, Japan</td>
			<td style="width:175px;"></td>
			<td>E-1030</td>
		</tr>
		<tr height="22">
			<td height="22" style="height:22px;width:233px;">X-Ray Diffractometer (XRD)</td>
			<td style="width:321px;">PANalytical, The Netherlands</td>
			<td style="width:175px;"></td>
			<td>X&#39;Pert PRO MRD</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

growth of gold dendritic nanoforests on titanium nitride-coated silicon substrates

इस अध्ययन में, एक उच्च शक्ति आवेग मैग्नेट्रॉन sputtering प्रणाली सिलिकॉन (Si) वेफर्स पर एक फ्लैट और फर्म टाइटेनियम नाइट्राइड (टिन) फिल्म कोट करने के लिए प्रयोग किया जाता है, और एक फ्लोराइड से सहायता प्राप्त गैल्वैनिक प्रतिस्थापन प्रतिक्रिया (FAGRR) तेजी से और आसानी से सोने के जमाव के लिए नियोजित है (क) के साथ-साथ, इस संबंध में क्या-क्या है? स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी (SEM) छवियां और ऊर्जा-dispersive एक्स-रे टिन की-किरण स्पेक्ट्रोस्कोपी पैटर्न/ इस अध्ययन में प्रतिक्रिया की स्थिति के तहत, Au dnfs की मोटाई प्रतिक्रिया के 15 मिनट के भीतर रेखीय करने के लिए ५.१० ± ०.२० μm बढ़ जाती है । इसलिए, नियोजित संश्लेषण प्रक्रिया Au DNFs/टिन/सी कंपोजिट तैयार करने के लिए एक सरल और तेजी से दृष्टिकोण है.

चित्र 1 Au Dnfs/टिन/Si नमूना तैयारी की छवियों को दर्शाया गया है । सिलिकॉन वेफर सिल्की सफेद था (चित्र 1a) । टिन/पै सुनहरा पीला था और एक सजातीय सतह (चित्र 1बी), जो सिलिकॉन...

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Growth of Gold Dendritic Nanoforests on Titanium Nitride-coated Silicon Substrates

यह अध्ययन टाइटेनियम नाइट्राइड/सिलिकॉन सब्स्ट्राट्स पर सोने के डेन्ड्रिटिक नैनोवनों के संश्लेषण के लिए एक व्यवहार्य प्रक्रिया प्रस्तुत करता है । सोने के द्रुमाकृतिक नैनोवनों की मोटाई एक संश्लेषण की प्रतिक्रिया के 15 मिनट के भीतर रेखीय बढ़ जाती है ।

टाइटेनियम नाइट्राइड-कोटेड सिलिकॉन सबस्ट्रेट्स पर गोल्ड डेन्ड्रिटिक नैनोवनों की वृद्धि

In this study, a high-power impulse magnetron sputtering system is used to coat a flat and firm titanium nitride (TiN) film on silicon (Si) wafers, and a ...

यह प्रोटोकॉल टाइटेनियम नाइट्राइड-लेपित सिलिकॉन सब्सट्रेट पर सोने के डेंड्रिटिक नैनोवन तैयार करने के लिए एक सरल, त्वरित, इलेक्ट्रोलाइट्स जमाव विधि है। इस तकनीक के मुख्य फायदे इसकी सादगी और इसकी गति है। गोल्ड डेंड्रिटिक नैनोवन प्लाज्मोनिक हॉटस्पॉट को प्रेरित कर सकते हैं और प्लाज्मोनिक फोटोकैटेलिटिक प्रतिक्रियाओं को बढ़ा सकते हैं।चांदी जैसे धातुओं के डेंड्रिटिक नैनोवन तैयार करने के लिए भी इस प्रक्रिया का उपयोग कर सकते हैं। वीडियो प्रदर्शन प्रयोग में आवश्यक विवरण पर जोर देना आसान बनाता है। प्रक्रिया शुरू करने के लिए, एन-प्रकार सिलिकॉन वेफर के दो सेंटीमीटर टुकड़ों से 10 दो काटें।एसीटोन, आइसोप्रोपिल अल्कोहल और अनुक्रम में पानी को डिओनाइज्ड में पांच मिनट के लिए सिलिकॉन नमूनों को सोनिकेट करें। नाइट्रोजन गैस की एक धारा के तहत पांच मिनट के लिए नमूनों को सुखाएं। फिर, एक नमूना धारक में साफ, सूखी सिलिकॉन नमूने रखें, और धारक को एक HiPIMS नमूना कक्ष में रखें।एक HiPIMS स्पंदन कैथोड पर एक चार इंच व्यास टाइटेनियम लक्ष्य रखें, और नकारात्मक छह टॉर्स के लिए आठ गुना 10 के लिए HiPIMS चैंबर नीचे पंप । सिलिकॉन नमूनों पर टाइटेनियम की एक 50 नैनोमीटर थिंक लेयर जमा करें। फिर, लगभग 300 नैनोमीटर की कुल टाइटेनियम नाइट्राइड मोटाई प्राप्त करने के लिए टाइटेनियम नाइट्राइड जमा करें।जब टाइटेनियम नाइट्राइड जमा पूर्ण हो जाता है, तो एक मोलर क्लोरोरिक एसिड के 240 माइक्रोलीटर, छह से एक बफर ऑक्साइड नक़्क़ाशी के आठ मिलीलीटर और पॉलीटेट्राफ्लोरोएथिलीन कंटेनर में 15.76 मिलीलीटर डिओनाइज्ड पानी मिलाएं। ठीक तीन मिनट के लिए क्लोरोएरिक एसिड समाधान में एक सब्सट्रेट विसर्जित करें, और फिर इसे डिओनाइज्ड पानी से धोएं। नाइट्रोजन गैस की एक धारा के नीचे नमूना सूखी और पांच मिनट के लिए १२० डिग्री सेल्सियस पर इसे इनक्यूबेट ।शेष टाइटेनियम नाइट्राइड लेपित सब्सट्रेट्स में से प्रत्येक के लिए इस प्रक्रिया को दोहराएं। जब नमूना तैयारी पूरी हो जाती है, तो स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी और एक्स-रे विवर्तन के साथ नमूनों की विशेषता होती है। एक्स-रे स्पेक्ट्रोस्कोपी के ऊर्जा तितर-बितर ने पुष्टि की कि टाइटेनियम नाइट्राइड लेपित सिलिकॉन सतहों पर सोने की संरचनाएं बढ़ी थीं।सिलिकॉन वेफर पर जमा टाइटेनियम नाइट्राइड फिल्म चिकनी और एक समान थी। विकास समाधान में नमूना रखने के एक मिनट के भीतर, छोटे सोने नाभिक कुछ बड़े नाभिक है कि समुद्र साही मची के साथ नमूने भर में दिखाई दिया । विकास के तीन मिनट के बाद एकल पेड़ जैसी संरचनाएं देखी गईं, जिसमें पांच मिनट के विकास के बाद होने वाली शाखाओं को देखा गया ।10 मिनट के बाद, डेंड्रिटिक नैनोवन ने पूरे टाइटेनियम नाइट्राइट सतह को कवर किया। 15 मिनट के बाद, डेंड्रिटिक नैनोवन घना और लगभग पांच माइक्रोमीटर मोटा था। सोने की डेंड्रिटिक नैनोवन मोटाई संश्लेषण समय के साथ रैकरली बढ़ाने के लिए पाया गया था ।एक्स-रे विवर्तन में सोने की चोटियों में भी समय के साथ वृद्धि हुई जबकि टाइटेनियम नाइट्राइट संकेत संश्लेषण प्रगति के रूप में गायब हो गया । इस प्रक्रिया का प्रयास करते समय याद रखने वाली सबसे महत्वपूर्ण चीजें संरचना की दर और समाधान का पीएच है, बयान की विधि को भी प्रभावित करता है। विभिन्न अनुप्रयोगों के लिए डीएनएफ और अन्य टाइटेनियम नाइट्राइट लेपित सब्सट्रेट्स जैसे सिलिका सिलिकॉन, पारंपरिक ग्लास, आईटीओ ग्लास और एफडीओ ग्लास बनाना संभव है।नमूनों को संभालते समय सावधान रहना चाहिए क्योंकि टाइटेनियम नाइट्राइट सिलिकॉन सब्सट्रेट्स से गोल्डन डीएनएफ को हटाना आसान है यदि गोल्ड डीएनएफ काफी बीमार है। बफर ऑक्साइड वक़्त के साथ काम करते समय व्यक्तिगत सुरक्षा उपकरण पहनना याद रखें, जिसमें हाइड्रोजन फ्लोराइड होता है।

Research

JoVE Journal

Chemistry

Template Directed Synthesis of Plasmonic Gold Nanotubes with Tunable IR Absorbance

टेम्पलेट Tunable IR Absorbance साथ निर्देशित Plasmonic गोल्ड नैनोट्यूब संश्लेषण

A nearly parallel array of pores can be produced by anodizing aluminum foils in acidic environments1, 2. Applications of anodic aluminum oxide (AAO) ...

Synthesis and Catalytic Performance of Gold Intercalated in the Walls of Mesoporous Silica

संश्लेषण और mesoporous सिलिका की दीवारों में गोल्ड Intercalated का उत्प्रेरक प्रदर्शन

As a promising catalytically active nano reactor, gold nanoparticles intercalated in mesoporous silica (GMS) were successfully synthesized and properties ...

Preparation of Mica and Silicon Substrates for DNA Origami Analysis and Experimentation

डीएनए origami विश्लेषण और प्रयोगों के लिए मीका और सिलिकॉन substrates की तैयारी

The designed nature and controlled, one-pot synthesis of DNA origami provides exciting opportunities in many fields, particularly nanoelectronics. Many of ...

Preparation of Macroporous Epitaxial Quartz Films on Silicon by Chemical Solution Deposition

रासायनिक समाधान बयान से सिलिकॉन पर Macroporous Epitaxial क्वार्ट्ज फिल्म्स की तैयारी

This work describes the detailed protocol for preparing piezoelectric macroporous epitaxial quartz films on silicon(100) substrates. This is a three-step ...

Photochemical Oxidative Growth of Iridium Oxide Nanoparticles on CdSe@CdS Nanorods

पर सीडीएसई @ सीडीएस Nanorods इरिडियम आक्साइड नैनोकणों के प्रकाश रासायनिक ऑक्सीडेटिव विकास

We demonstrate a procedure for the photochemical oxidative growth of iridium oxide catalysts on the surface of seeded cadmium selenide-cadmium sulfide ...

Epitaxial Growth of Perovskite Strontium Titanate on Germanium via Atomic Layer Deposition

जर्मेनियम पर perovskite स्ट्रोंटियम titanate की epitaxial विकास परमाणु परत बयान के माध्यम से

Atomic layer deposition (ALD) is a commercially utilized deposition method for electronic materials. ALD growth of thin films offers thickness control and ...

Hydroquinone Based Synthesis of Gold Nanorods

सोना nanorods की Hydroquinone आधारित संश्लेषण

Gold nanorods are an important kind of nanoparticles characterized by peculiar plasmonic properties. Despite their widespread use in nanotechnology, the ...

Reactive Vapor Deposition of Conjugated Polymer Films on Arbitrary Substrates

संयुग्मित बहुलक फिल्मों की मनमानी सब्सट्रेट पर प्रतिक्रियाशील वाष्प जमाव

We demonstrate a method of conformally coating conjugated polymers on arbitrary substrates using a custom-designed, low-pressure reaction chamber. ...

Synthesis and Characterization of Amphiphilic Gold Nanoparticles

एम्फीफिलिक गोल्ड नैनोकणों का संश्लेषण और विशेषता

Gold nanoparticles covered with a mixture of 1-octanethiol (OT) and 11-mercapto-1-undecane sulfonic acid (MUS) have been extensively studied because of ...