JoVE Logo
Faculty Resource Center

Sign In

Сосредоточенная литография Ионного Луча для наноархитектур etch в микроэлектроды

DOI :

10.3791/60004-v

January 19th, 2020

January 19th, 2020

6,517 Views

1Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Michigan, 2Veteran Affairs Ann Arbor Healthcare System, 3Department of Neurology, School of Medicine, University of Michigan, 4Department of Biomedical Engineering, University of Michigan, 5Michigan Center for Materials Characterization, University of Michigan, 6Carl Zeiss SMT, Inc.

Мы показали, что травление наноархитектуры в внутрикортикальные микроэлектродные устройства могут уменьшить воспалительные реакции и имеет потенциал для улучшения электрофизиологических записей. Описанные в нем методы намечают подход к наноархитектуре на поверхности нефункциональных и функциональных однохвостового кремния интракортикальных микроэлектродов.

Tags

155

-- Views

Related Videos

JoVE Logo

Privacy

Terms of Use

Policies

Research

Education

ABOUT JoVE

Copyright © 2024 MyJoVE Corporation. All rights reserved