JoVE Logo
Faculty Resource Center

Sign In

Fokuserad jonstråle litografi till etch nano-arkitekturer i mikroelektroder

DOI :

10.3791/60004-v

January 19th, 2020

January 19th, 2020

6,517 Views

1Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Michigan, 2Veteran Affairs Ann Arbor Healthcare System, 3Department of Neurology, School of Medicine, University of Michigan, 4Department of Biomedical Engineering, University of Michigan, 5Michigan Center for Materials Characterization, University of Michigan, 6Carl Zeiss SMT, Inc.

Vi har visat att etsning av Nano-arkitektur i intracortical mikroelektrod enheter kan minska den inflammatoriska reaktionen och har potential att förbättra elektrofysiologiska inspelningar. De metoder som beskrivs häri skissera en strategi för etch nano-arkitekturer i ytan av icke-funktionella och funktionella enda skaft kisel intracortical mikroelektroder.

Tags

Bioteknik

-- Views

Related Videos

JoVE Logo

Privacy

Terms of Use

Policies

Research

Education

ABOUT JoVE

Copyright © 2024 MyJoVE Corporation. All rights reserved