Name: fabrication of thin film silver/silver chloride electrodes with finely controlled single layer silver chloride
Uploaded: 2020-07-01T13:00:00
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Diese Arbeit wurde durch ein Stipendium des RGC-NSFC Joint Fund unterstützt, der vom Research Grants Council of Hong Kong gesponsert wurde (Projekt Nr. N_HKUST615/14). Wir möchten Die Nanosystem Fabrication Facility (NFF) von HKUST für die Geräte-/Systemfertigung würdigen.

1. Herstellung einer Cr/Au-Haftschicht mittels Liftoff
<ol><li>Spincoat HPR504 positiver Photowiderstand von 1,2 m Dicke auf einen Quarzwafer mit einer Streugeschwindigkeit von 1.000 U/min für 5 s und einer Spin-Geschwindigkeit von 4.000 U/min für 30 s.</li>
	<li>Softbake der Photoresist auf dem Quarz-Wafer bei 110 °C für 5 min auf einer heißen Platte.</li>
	<li>Setzen Sie den Wafer mit einem Maskenaligner so aus, dass Die Positionen für die Cr/Au-Abscheidung mit ultraviolettem (UV) Licht belichtet werden. Die Be...

<ol>
	<li>Bakker, E., Telting-Diaz, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electrochemical+sensors.">Electrochemical sensors.</a> Analytical Chemistry. 74 (12), 2781-2800 (2002).</li><li>Jobst, G., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Thin-Film+Microbiosensors+for+Glucose-Lactate+Monitoring.">Thin-Film Microbiosensors for Glucose-Lactate Monitoring.</a> Analytical Chemistry. 68 (18), 3173-3179 (1996).</li><li>Matsumoto, T., Ohashi, A., Ito, N. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Development+of+a+micro-planar+Ag/AgCl+quasi-reference+electrode+with+long-term+stability+for+an+amperometric+glucose+sensor.">Development of a micro-planar Ag/AgCl quasi-reference electrode with long-term stability for an amperometric glucose sensor.</a> Analytica Chimica Acta. 462 (2), 253-259 (2002).</li><li>Suzuki, H., Hirakawa, T., Sasaki, S., Karube, I. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+integrated+three-electrode+system+with+a+micromachined+liquid-junction+Ag/AgCl+liquid-junction+Ag/AgCl+reference+electrode.">An integrated three-electrode system with a micromachined liquid-junction Ag/AgCl liquid-junction Ag/AgCl reference electrode.</a> Analytica Chimica Acta. 387 (1), 103-112 (1999).</li><li>Ives, D. J. G., Janz, G. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=.">.</a> Reference Electrodes - theory and practice. , (1961).</li><li>Huynh, T. M., Nguyen, T. S., Doan, T. C., Dang, C. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Fabrication+of+thin+film+Ag/AgCl+reference+electrode+by+electron+beam+evaporation+method+for+potential+measurements.">Fabrication of thin film Ag/AgCl reference electrode by electron beam evaporation method for potential measurements.</a> Advances in Natural Sciences: Nanoscience and Nanotechnology. 10 (1), 015006 (2019).</li><li>Katan, T., Szpak, S., Bennion, D. N. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Silver/silver+chloride+electrode:+Reaction+paths+on+discharge.">Silver/silver chloride electrode: Reaction paths on discharge.</a> Journal of The Electrochemical Society. 120 (7), 883-888 (1973).</li><li>Katan, T., Szpak, S., Bennion, D. N. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Silver/silver+chloride+electrodes:+Surface+morphology+on+charging+and+discharging.">Silver/silver chloride electrodes: Surface morphology on charging and discharging.</a> Journal of The Electrochemical Society. 121 (6), 757-764 (1974).</li><li>Polk, B. J., Stelzenmuller, A., Mijares, G., MacCrehan, W., Gaitan, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Ag/AgCl+microelectrodes+with+improved+stability+for+microfluidics.">Ag/AgCl microelectrodes with improved stability for microfluidics.</a> Sensors and Actuators B: Chemical. 114 (1), 239-247 (2006).</li><li>Mechaour, S. S., Derardja, A., Oulmi, K., Deen, M. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effect+of+the+wire+diameter+on+the+stability+of+micro-scale+Ag/AgCl+reference+electrode.">Effect of the wire diameter on the stability of micro-scale Ag/AgCl reference electrode.</a> Journal of The Electrochemical Society. 164 (14), E560-E564 (2017).</li><li>Brewer, P. J., Leese, R. J., Brown, R. J. C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+improved+approach+for+fabricating+Ag/AgCl+reference+electrodes.">An improved approach for fabricating Ag/AgCl reference electrodes.</a> Electrochimica Acta. 71, 252-257 (2012).</li><li>Safari, S., Selvaganapathy, P. R., Derardja, A., Deen, M. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electrochemical+growth+of+high-aspect+ratio+nanostructured+silver+chloride+on+silver+and+its+application+to+miniaturized+reference+electrodes.">Electrochemical growth of high-aspect ratio nanostructured silver chloride on silver and its application to miniaturized reference electrodes.</a> Nanotechnology. 22 (31), 315601 (2001).</li><li>Tjon, K. C. E., Yuan, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Impedance+characterization+of+silver/silver+chloride+micro-electrodes+for+bio-sensing+applications.">Impedance characterization of silver/silver chloride micro-electrodes for bio-sensing applications.</a> Electrochimica Acta. 320, 134638 (2019).</li><li>Pargar, F., Kolev, H., Koleva, D. A., van Breugel, K. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Microstructure,+surface+chemistry+and+electrochemical+response+of+Ag+|+AgCl+sensors+in+alkaline+media.">Microstructure, surface chemistry and electrochemical response of Ag | AgCl sensors in alkaline media.</a> Journal of Materials Science. 53 (10), 7527-7550 (2018).</li><li>Hassel, A. W., Fushimi, K., Seo, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+agar-based+silver+|+silver+chloride+reference+electrode+for+use+in+micro-electrochemistry.">An agar-based silver | silver chloride reference electrode for use in micro-electrochemistry.</a> Electrochemistry communications. 1 (5), 180-183 (1999).</li></ol>

Die physikalischen Eigenschaften einer Ag/AgCl-Elektrode werden durch die Morphologie und die Struktur der auf der Elektrode abgelagerten AgCl gesteuert. In diesem Beitrag haben wir ein Protokoll zur präzisen Steuerung der Abdeckung einer einzelnen Schicht von AgCl auf der Oberfläche der Silberelektrode vorgestellt. Ein integraler Bestandteil des Protokolls ist eine modifizierte Form des Faraday-Gesetzes der Elektrolyse, das verwendet wird, um den Grad von AgCl auf den Dünnschicht-Silberelektroden zu steuern. Es kann ...

Die Ag/AgCl-Elektrode ist eine der am häufigsten verwendeten Elektroden im Bereich der Elektrochemie. Es wird am häufigsten als Referenzelektrode in elektrochemischen Systemen aufgrund seiner einfachen Herstellung, ungiftige Eigenschaft und stabile Elektrodenpotenzial1,2,3,4,5,6.
Forscher haben versucht, den Mechanismus von Ag/AgCl-Elektroden zu verstehen. Die Schicht des Chloridsalzes auf der Elektrode ist ein grundlegendes Material in der charakteristischen Redoxreaktion der Ag/AgCl-Elektrode in einem elektrolythaltigen Chlorid. Für den Oxidationspfad kombiniert sich das Silber an den Unvollkommenheiten auf der Oberfläche der Elektrode mit den Chloridionen in der Lösung zu löslichen AgCl-Komplexen, in denen sie zu den Rändern der AgCl diffundieren, die sich auf der Oberfläche der Elektrode zur Ausfällung in Form von AgCl ablagern. Der Reduktionspfad beinhaltet die Bildung von löslichen AgCl-Komplexen mit dem AgCl auf der Elektrode. Die Komplexe diffundieren auf die Silberoberfläche und reduzieren zurück zu elementarem Silber7,8.
Die Morphologie der AgCl-Schicht ist ein entscheidender Einfluss auf die physikalische Eigenschaft von Ag/AgCl-Elektroden. Verschiedene Arbeiten zeigten, dass die große Oberfläche der Schlüssel zur Bildung von Referenz-Ag/AgCl-Elektroden mit hoch reproduzierbaren und stabilen Elektrodenpotentialen9,10,11,12ist. Daher haben Forscher Methoden zur Herstellung von Ag/AgCl-Elektroden mit einer großen Oberfläche untersucht. Brewer et al. entdeckten, dass die Verwendung von konstanter Spannung anstelle von konstantem Strom zur Herstellung von Ag/AgCl-Elektroden zu einer stark porösen AgCl-Struktur führen würde, wodurch die Oberfläche der AgCl-Schicht11vergrößert würde. Safari et al. nutzten den Massentransport-Beschränkungseffekt während der AgCl-Bildung auf der Oberfläche von Silberelektroden, um AgCl-Nanoblätter darüber zu bilden, wodurch die Oberfläche der AgCl-Schicht signifikant12erhöht wurde.
Es gibt einen steigenden Trend, AgCl Elektrode für Sensoranwendungen zu entwerfen. Eine geringe Kontaktimpedanz ist entscheidend für die Erfassung von Elektroden. Daher ist es wichtig zu verstehen, wie sich die Oberflächenbeschichtung von AgCl auf seine Impedanzeigenschaft auswirken würde. Unsere bisherigen Untersuchungen haben gezeigt, dass der Grad der AgCl-Abdeckung auf der Silberelektrode einen entscheidenden Einfluss auf die Impedanzcharakteristik der Elektroden-/Elektrolytschnittstelle13hat. Um jedoch die Kontaktimpedanz von Dünnschicht-Ag/AgCl-Elektroden richtig einschätzen zu können, muss die gebildete AgCl-Schicht glatt sein und eine gut kontrollierte Abdeckung haben. Daher ist eine Methode zum Erstellen glatter AgCl-Layer mit festgelegtem AgCl-Abdeckungsgrad erforderlich. Es wurden Arbeiten durchgeführt, um diesem Bedarf teilweise gerecht zu werden. Brewer et al. und Pargar et al. diskutierten, dass eine glatte AgCl mit einem sanften konstanten Strom erreicht werden kann, indem die AgCl-Schicht auf der Oberseite der Silberelektrode11,14hergestellt wird. Katan et al. bildeten eine einzige Schicht AgCl auf ihren Silberproben und beobachteten die Größe der einzelnen AgCl-Partikel8. Ihre Forschung fand heraus, dass die Dicke einer einzelnen Schicht von AgCl etwa 350 nm beträgt. Ziel dieser Arbeit ist es, ein Protokoll zu entwickeln, um feine und gut kontrollierte Filme von AgCl mit vorhergesagten Impedanzeigenschaften auf Silberelektroden zu bilden.

<table border="1" fo:keep-together.within-page="1" fo:keep-with-next.within-page="always">
	<tbody>
		<tr>
			<td>AST Peva-600EI E-Beam Evaporation System</td>
			<td>Advanced System Technology</td>
			<td></td>
			<td>For Cr/Au Deposition</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>AZ 5214 E Photoresist</td>
			<td>MicroChemicals</td>
			<td></td>
			<td>Photoresist for pad opening</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>AZ P4620 Photoresist</td>
			<td>AZ Electronic Materials</td>
			<td></td>
			<td>Photoresist for Ag liftoff</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Branson/IPC 3000 Plasma Asher</td>
			<td>Branson/IPC</td>
			<td></td>
			<td>Ashing</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Branson 5510R-MT Ultrasonic Cleaner</td>
			<td>Branson Ultrasonics</td>
			<td></td>
			<td>Liftoff</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>CHI660D</td>
			<td>CH Instruments, Inc</td>
			<td></td>
			<td>Electrochemical Analyser</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Denton Explorer 14 RF/DC Sputter</td>
			<td>Denton Vacuum</td>
			<td></td>
			<td>For Ag Sputtering</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>FHD-5</td>
			<td>Fujifilm</td>
			<td>800768</td>
			<td>Photoresist Development</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>HPR 504 Photoresist</td>
			<td>OCG Microelectronic Materials NV</td>
			<td></td>
			<td>Photoresist for Cr/Au liftoff</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Hydrochloric acid fuming 37%</td>
			<td>VMR</td>
			<td>20252.420</td>
			<td>Making diluted HCl for cathodic cleaning</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>J.A. Woollam M-2000VI Spectroscopic Elipsometer</td>
			<td>J.A. Woollam</td>
			<td></td>
			<td>Measurement of silicon dioxide passivation layer thickness on dummy</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Multiplex CVD</td>
			<td>Surface Technology Systems</td>
			<td></td>
			<td>Silicon dioxide passivation</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Oxford RIE Etcher</td>
			<td>Oxford Instruments</td>
			<td></td>
			<td>For Pad opening</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Potassium Chloride</td>
			<td>Sigma-Aldrich</td>
			<td>7447-40-7</td>
			<td>Making KCl solutions</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>SOLITEC 5110-C/PD Manual Single-Head Coater</td>
			<td>Solitec Wafer Processing, Inc.</td>
			<td></td>
			<td>For spincoating of photoresist</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>SUSS MA6</td>
			<td>SUSS MicroTec</td>
			<td></td>
			<td>Mask Aligner</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Sylgard 184 Silicone Elastomer Kit</td>
			<td>Dow Corning</td>
			<td></td>
			<td>Adhesive for container on chip</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

fabrication of thin film silver/silver chloride electrodes with finely controlled single layer silver chloride

Dieses Papier zielt darauf ab, ein Protokoll zur Bildung von glatten und gut kontrollierten Folien aus Silber/Silberchlorid (Ag/AgCl) mit designierter Abdeckung auf dünnschichtigen Silberelektroden zu präsentieren. Dünnschicht-Silberelektroden in den Größen 80 x 80 x m und 160 x 160 m wurden auf Quarzwafern mit einer Chrom/Gold-Schicht (Cr/Au) zur Haftung gesputtert. Nach Passivierung, Polieren und kathodischen Reinigungsprozessen wurden die Elektroden unter Berücksichtigung des Faraday-Gesetzes der Elektrolyse galvanisch oxidiert, um glatte Schichten von AgCl mit einem bestimmten Grad an Abdeckung auf der Silberelektrode zu bilden. Dieses Protokoll wird durch die Inspektion von Rasterelektronenmikroskop(SEM)-Bildern der Oberfläche der hergestellten Ag/AgCl Dünnschichtelektroden validiert, was die Funktionalität und Leistung des Protokolls unterstreicht. Auch suboptimal gefertigte Elektroden werden zum Vergleich gefertigt. Dieses Protokoll kann häufig verwendet werden, um Ag/AgCl-Elektroden mit spezifischen Impedanzanforderungen herzustellen (z. B. Sondierungselektroden für Impedanzsensorikanwendungen wie Impedanzdurchflusszytometrie und interdigitierte Elektrodenarrays).

Abbildung 1 zeigt eine 80 x 80 m Ag/AgCl-Elektrode mit einer nach diesem Protokoll hergestellten AgCl-Abdeckung von 50 %. Nach Beobachtung summiert sich die Fläche des AgCl-Patches auf etwa 68 x 52 m, was etwa 55 % der AgCl-Abdeckung entspricht. Dies zeigt, dass das Protokoll die Menge der AgCl-Abdeckung auf den Dünnschicht-Ag-Elektroden fein steuern kann. Die hergestellte AgCl-Schicht ist ebenfalls sehr glatt, wie das Verklumpen benachbarter AgCl-Partikel ...

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Fabrication of Thin Film Silver/Silver Chloride Electrodes with Finely Controlled Single Layer Silver Chloride

Dieses Papier zielt darauf ab, eine Methode zur Bildung von glatten und gut kontrollierten Folien aus Silberchlorid (AgCl) mit einer bestimmten Abdeckung auf dünnen Silberelektroden zu präsentieren.

Herstellung von Dünnschichtsilber/Silberchloridelektroden mit fein kontrollierten einlagigen Silberchlorid

This paper aims to present a protocol to form smooth and well-controlled films of silver/silver chloride (Ag/AgCl) with designated coverage on top of thin ...

Dieses Protokoll ermöglicht die Abscheidung einer glatten Einzelschicht aus Silberchlorid mit ausgewiesener Abdeckung auf Dünnschicht-Silberelektroden. Dies ist das erste Mal, dass eine Technik eingeführt wird, die die Abdeckung von einlagigem Silberchlorid auf dünnen Elektrodenschichten präzise steuern kann. Um zu beginnen, spülen Sie den Chip mit Isopropanol gefolgt von DI-Wasser.0,01 Molaren-Salzsäurelösung in den Acrylbehälter gießen. Mit Labor-Reinigungstüchern die Makrosilber/Silberchlorid-Referenzelektroden-Pipette außen und Elektrode trocknen. Verbinden Sie den Chip und die Makroelektroden mit dem Analysator, so dass eine Dünnschicht-Silberelektrode auf dem Chip als Arbeitselektrode definiert ist, die Makrosilber/Silberchlorid-Referenzelektrode als Referenzelektrode und die blanke Makrosilber-/Silberchloridelektrode als Gegenelektrode definiert ist.Legen Sie die Makroelektroden in den Behälter. Verwenden Sie Blu-Tack als Deckel des Behälters, um die Makroelektroden zu verankern. Platzieren Sie das Setup in einem Faraday-Käfig.Klicken Sie in der CHI660D-Software auf die Registerkarte Setup in der oberen linken Ecke des Fensters. Klicken Sie dann auf Technik, amperometrische IT-Kurve und OK, um die kathodische Reinigung der Elektroden durchzuführen. Ändern Sie im Popup-Menü die Parameter für die kathodische Reinigung.Legen Sie die Anfangsspannung auf minus 1,5 fest, das Abtastintervall auf 0,1 Sekunden, die Laufzeit 900 Sekunden, die Ruhezeit als NullSekunde und die Waage während des Laufs als 1. Für eine 80 Mikrometer x 80 Mikrometer Elektrode, stellen Sie die Empfindlichkeit als ein e minus 006. Drücken Sie OK. Starten Sie den Vorgang, indem Sie das Startsymbol unter der Menüleiste drücken.Lassen Sie das Experiment laufen und beenden. Öffnen Sie den Faraday-Käfig, entfernen Sie die Makroreferenz und die Gegenelektroden und wischen Sie sie trocken. Gießen Sie den verwendeten Elektrolyt in einen Abfallbehälter und spülen Sie den Acrylbehälter mit DI-Wasser.0,1 Molkaliumchloridlösung in den Acrylbehälter gießen. Verbinden Sie den Chip und die Makroelektroden mit dem Analysator, so dass die gereinigte Dünnschicht-Silberelektrode auf dem Chip als Arbeitselektrode definiert ist, die Makrosilber/Silberchlorid-Referenzelektrode als Referenzelektrode und die blanke Makrosilber-/Silberchloridelektrode als Gegenelektrode definiert ist. Legen Sie die Makroelektroden in den Behälter.Verwenden Sie Blu-Tack als Deckel des Behälters, um die Makroelektroden zu verankern. Platzieren Sie das Setup in einem Faraday-Käfig. Klicken Sie in der CHI660D-Software auf die Registerkarte Setup in der oberen linken Ecke des Fensters, klicken Sie auf Technik, Chronopotentiometrie und OK, um die galvananostatische Herstellung von einlagigem Silberchlorid auf den Silberelektroden durchzuführen.Ändern Sie im Popup-Menü die Parameter. Legen Sie den kathodischen Strom als Null-Amps fest. Stellen Sie den anodischen Strom so ein, dass die auf die Dünnschichtelektrode aufgebrachte Stromdichte 0,5 Milliampere pro Quadratzentimeter beträgt.Halten Sie die High-End-Niederspannungsgrenze und halte die Zeit als Standard. Legen Sie die kathodische Zeit auf 10 Sekunden fest. Stellen Sie die anodische Zeit entsprechend ein, um den erforderlichen Grad an Silberchloridabdeckung zu erreichen.Legen Sie die anfängliche Polarität als anodisch, das Datenspeicherintervall auf 0,1 Sekunden, die Anzahl der Segmente als eins und die aktuelle Schaltpriorität als Zeit fest. Deaktivieren Sie die Hilfssignalaufzeichnung, wenn das Abtastintervall größer oder gleich 0,0005 Sekunden ist. Drücken Sie OK. Starten Sie den Vorgang, indem Sie das Startsymbol unter der Menüleiste drücken.Lassen Sie das Experiment laufen und beenden. Öffnen Sie den Faraday-Käfig und entfernen Sie die Makroreferenz und gegenelektroden und wischen Sie ihre Oberflächen trocken. Untertauchen Sie die Makroelektroden in 3,5 Molkaliumchloridlösung zur Lagerung.Dann entsorgen Sie den verwendeten Elektrolyt in einem Abfallbehälter und spülen Sie den Acrylbehälter mit DI-Wasser. Bedecken Sie das Öffnen des Acrylbehälters mit Paraffinfolie, bis sie einsatzbereit ist. Dieses Bild zeigt eine 80 Mikrometer x 80 Mikrometer Silber/Silberchlorid-Elektrode mit einer entworfenen Silberchloridabdeckung von 50%Es gab eine Verklumpung benachbarter Silberchloridpartikel, aber gestapelte Silberchloridpartikel wurden nicht beobachtet.Eine markante Silber-Silberchlorid-Kreuzung war zu sehen. Weitere erfolgreiche Beispiele von dünnschichtigen Silber/Silberchlorid-Elektroden, die hergestellt wurden, werden hier gezeigt. 80 Mikrometer x 80 Mikrometer Elektroden mit einer ausgewiesenen Silberchloridabdeckung von 70% und 30% zusammen mit 160 Mikrometer x 160 Mikrometer Elektroden mit einer ausgewiesenen Silberchloridabdeckung von 75% und 90%, hier gezeigt, ist eine polierte Elektrodenoberfläche und eine unpolierte Elektrodenoberfläche.Bei der ungeschliffenen Elektrode wurden an der Oberfläche fingerartige Strukturen beobachtet, während die polierte Elektrodenoberfläche glatt ist und durch den Polierprozess leichte Kratzspuren aufweisen. Hier ist eine ungeschliffene 80 Mikrometer x 80 Mikrometer Silber/Silberchlorid-Elektrode mit einer entworfenen Silberchloridabdeckung von 50%Das gebildete Silberchlorid schien nach innen versenkt zu sein, anstatt nach außen zu ragen. Bei der Bildung der Silberchloridschicht auf Elektroden verschiedener Oberflächen ist es wichtig, den aufgebrachten Strom neu einzustellen, um die gleiche Stromdichte beizubehalten.Dieses Protokoll ermöglicht es den Forschern, die zugewiesenen Dünnschicht-Silber-/Silberchloridelektroden für die Impedanzmessung zu verwenden, da eine frühere Forschung gezeigt hat, dass die Impedanz der Silber-Silberchlorid-Elektroden von der Silberchloridabdeckung abhängt.

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Profiling the Triacylglyceride Contents in Bat Integumentary Lipids by Preparative Thin Layer Chromatography and MALDI-TOF Mass Spectrometry

Profilierung der Triacylglycerid Inhalt in Bat Integumentary Lipide durch präparative Dünnschicht-Chromatographie und MALDI-TOF-Massenspektrometrie

The mammalian integument includes sebaceous glands that secrete an oily material onto the skin surface. Sebum production is part of the innate immune ...

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Dünnschicht-Chromatographie-(TLC) Trennungen und Bioassays der Pflanzenextrakte antimikrobielle Verbindungen zu identifizieren

A common screen for plant antimicrobial compounds consists of separating plant extracts by paper or thin-layer chromatography (PC or TLC), exposing the ...

Dynamic Electrochemical Measurement of Chloride Ions

Dynamische elektrochemischen Messung von Chlorid-Ionen

This protocol describes the dynamic measurement of chloride ions using the transition time of a silver silver chloride (Ag/AgCl) electrode. Silver silver ...

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Layer-by-Layer-Synthese und Übertragung von Freestanding konjugierte mikroporöse Polymernanomembranen

CMP as large surface area materials have attracted growing interest recently, due to their high variability in the incorporation of functional groups in ...

Influence of Hybrid Perovskite Fabrication Methods on Film Formation, Electronic Structure, and Solar Cell Performance

Einfluss von Hybrid Perowskit-Herstellungsverfahren auf Filmbildung, Elektronische Struktur und Leistung der Solarzelle

Hybrid organic/inorganic halide perovskites have lately been a topic of great interest in the field of solar cell applications, with the potential to ...

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In recent years, a push for developing novel silicon photonic devices for telecommunications has generated a vast knowledge base that is now being ...

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Die Wirkung der UV-Strahlung auf die chemischen Bad Ablagerung von Bis(thiourea) Cadmium Chlorid Kristallen und der nachfolgenden CdS Obtention

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Bio-inspirierte Polydopamine Oberflächenmodifizierung von Nano-Diamanten und der Reduktion von Silber-Nanopartikeln

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