Name: fabrication of thin film silver/silver chloride electrodes with finely controlled single layer silver chloride
Uploaded: 2020-07-01T13:00:00
Description: Watch this Scientific Journal Video about Fabrication of Thin Film Silver/Silver Chloride Electrodes with Finely Controlled Single Layer Silver Chloride at JoVE.com

עבודה זו נתמכה על ידי מענק מקרן RGC-NSFC בחסות מועצת מענקי המחקר של הונג קונג (פרויקט מס ' N_HKUST615/14). היינו רוצים להכיר את מתקן הייצור של ננוסיסטם (NFF) של HKUST עבור ייצור המכשיר/מערכת.

1. ייצור שכבת הדבקה של Cr/Au באמצעות ההמראה
<ol><li>Spincoat photoresist חיובית של 1.2 יקרומטר עובי על וופל קוורץ באמצעות מהירות כפולה של 1,000 rpm עבור 5 s ו מהירות ספין של 4,000 rpm עבור 30 s.</li>
	<li>לאפות את הphotoresist על וופל הקוורץ ב-110 ° c עבור 5 דקות על צלחת חמה.</li>
	<li>באמצעות מסכת תנינים, לחשוף את וופל כזה מיקומים עבור הת...

<ol>
	<li>Bakker, E., Telting-Diaz, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electrochemical+sensors.">Electrochemical sensors.</a> Analytical Chemistry. 74 (12), 2781-2800 (2002).</li><li>Jobst, G., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Thin-Film+Microbiosensors+for+Glucose-Lactate+Monitoring.">Thin-Film Microbiosensors for Glucose-Lactate Monitoring.</a> Analytical Chemistry. 68 (18), 3173-3179 (1996).</li><li>Matsumoto, T., Ohashi, A., Ito, N. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Development+of+a+micro-planar+Ag/AgCl+quasi-reference+electrode+with+long-term+stability+for+an+amperometric+glucose+sensor.">Development of a micro-planar Ag/AgCl quasi-reference electrode with long-term stability for an amperometric glucose sensor.</a> Analytica Chimica Acta. 462 (2), 253-259 (2002).</li><li>Suzuki, H., Hirakawa, T., Sasaki, S., Karube, I. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+integrated+three-electrode+system+with+a+micromachined+liquid-junction+Ag/AgCl+liquid-junction+Ag/AgCl+reference+electrode.">An integrated three-electrode system with a micromachined liquid-junction Ag/AgCl liquid-junction Ag/AgCl reference electrode.</a> Analytica Chimica Acta. 387 (1), 103-112 (1999).</li><li>Ives, D. J. G., Janz, G. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=.">.</a> Reference Electrodes - theory and practice. , (1961).</li><li>Huynh, T. M., Nguyen, T. S., Doan, T. C., Dang, C. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Fabrication+of+thin+film+Ag/AgCl+reference+electrode+by+electron+beam+evaporation+method+for+potential+measurements.">Fabrication of thin film Ag/AgCl reference electrode by electron beam evaporation method for potential measurements.</a> Advances in Natural Sciences: Nanoscience and Nanotechnology. 10 (1), 015006 (2019).</li><li>Katan, T., Szpak, S., Bennion, D. N. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Silver/silver+chloride+electrode:+Reaction+paths+on+discharge.">Silver/silver chloride electrode: Reaction paths on discharge.</a> Journal of The Electrochemical Society. 120 (7), 883-888 (1973).</li><li>Katan, T., Szpak, S., Bennion, D. N. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Silver/silver+chloride+electrodes:+Surface+morphology+on+charging+and+discharging.">Silver/silver chloride electrodes: Surface morphology on charging and discharging.</a> Journal of The Electrochemical Society. 121 (6), 757-764 (1974).</li><li>Polk, B. J., Stelzenmuller, A., Mijares, G., MacCrehan, W., Gaitan, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Ag/AgCl+microelectrodes+with+improved+stability+for+microfluidics.">Ag/AgCl microelectrodes with improved stability for microfluidics.</a> Sensors and Actuators B: Chemical. 114 (1), 239-247 (2006).</li><li>Mechaour, S. S., Derardja, A., Oulmi, K., Deen, M. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effect+of+the+wire+diameter+on+the+stability+of+micro-scale+Ag/AgCl+reference+electrode.">Effect of the wire diameter on the stability of micro-scale Ag/AgCl reference electrode.</a> Journal of The Electrochemical Society. 164 (14), E560-E564 (2017).</li><li>Brewer, P. J., Leese, R. J., Brown, R. J. C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+improved+approach+for+fabricating+Ag/AgCl+reference+electrodes.">An improved approach for fabricating Ag/AgCl reference electrodes.</a> Electrochimica Acta. 71, 252-257 (2012).</li><li>Safari, S., Selvaganapathy, P. R., Derardja, A., Deen, M. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electrochemical+growth+of+high-aspect+ratio+nanostructured+silver+chloride+on+silver+and+its+application+to+miniaturized+reference+electrodes.">Electrochemical growth of high-aspect ratio nanostructured silver chloride on silver and its application to miniaturized reference electrodes.</a> Nanotechnology. 22 (31), 315601 (2001).</li><li>Tjon, K. C. E., Yuan, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Impedance+characterization+of+silver/silver+chloride+micro-electrodes+for+bio-sensing+applications.">Impedance characterization of silver/silver chloride micro-electrodes for bio-sensing applications.</a> Electrochimica Acta. 320, 134638 (2019).</li><li>Pargar, F., Kolev, H., Koleva, D. A., van Breugel, K. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Microstructure,+surface+chemistry+and+electrochemical+response+of+Ag+|+AgCl+sensors+in+alkaline+media.">Microstructure, surface chemistry and electrochemical response of Ag | AgCl sensors in alkaline media.</a> Journal of Materials Science. 53 (10), 7527-7550 (2018).</li><li>Hassel, A. W., Fushimi, K., Seo, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+agar-based+silver+|+silver+chloride+reference+electrode+for+use+in+micro-electrochemistry.">An agar-based silver | silver chloride reference electrode for use in micro-electrochemistry.</a> Electrochemistry communications. 1 (5), 180-183 (1999).</li></ol>

התכונות הפיזיות של אלקטרודה Ag/AgCl נשלטת על ידי המבנה ומבנה ה-AgCl הופקד על האלקטרודה. במאמר זה, הצגנו פרוטוקול כדי לשלוט במדויק את הכיסוי של שכבה אחת של AgCl על פני השטח של האלקטרודה הכסופה. חלק אינטגרלי של הפרוטוקול הוא צורה שונה של חוק פאראדיי של אלקטרוליזה, אשר משמש כדי לשלוט על מידת AgCl על אלקט...

האלקטרודה Ag/AgCl היא אחת האלקטרודות הנפוצות ביותר בתחום האלקטרוכימיה. הוא משמש בדרך כלל כאלקטרודה התייחסות במערכות אלקטרוכימי בשל קלות הייצור, המאפיין הלא רעיל והפוטנציאל האלקטרודה יציב1,2,3,4,5,6.
חוקרים ניסו להבין את המנגנון של אלקטרודות Ag/AgCl. שכבת המלח הכללורי על האלקטרודה נמצאה כחומר בסיסי בתגובה האופיינית לחמצון של האלקטרודות Ag/AgCl בתוך אלקטרוליט כלוריד המכיל. עבור השביל חמצון, כסף באתרים שלמות על פני האלקטרודה משלבת עם יוני כלוריד בפתרון ליצור מתחמי AgCl מסיסים, שבו הם מפוזר לקצות AgCl הופקד על פני השטח של האלקטרודה למשקעים בצורה של AgCl. השביל הפחתת כרוך היווצרות של מתחמים AgCl מסיסים באמצעות AgCl על האלקטרודה. התסביכים מתפזר למשטח הכסף ומפחית חזרה כסף אלמנטלים7,8.
המבנה של שכבת AgCl הוא השפעה מכרעת במאפיין הפיזי של אלקטרודות Ag/AgCl. יצירות שונות הראו כי השטח הגדול הוא המפתח לטופס התייחסות Ag/agcl אלקטרודות עם פוטנציאל מאוד החומר האלקטרודה יציבה9,10,11,12. לכן, חוקרים חקרו שיטות ליצירת אלקטרודות Ag/AgCl עם שטח גדול. ברואר ואח ' גילה כי באמצעות מתח קבוע במקום זרם קבוע להרכיבו אלקטרודות Ag/AgCl יגרום למבנה מאוד נקבובי AgCl, הגדלת שטח המשטח של השכבה ה-AgCl11. ספארי ואח ' ניצל את האפקט של הגבלת התחבורה ההמונית במהלך היווצרות AgCl על פני אלקטרודות כסף כדי ליצור AgCl ננוגיליונות על גבי אותם, הגדלת שטח פני השטח של שכבת AgCl באופן משמעותי12.
קיימת מגמה עולה לעצב אלקטרודות AgCl ליישומי חישה. התנגדות למגע נמוכה היא חיונית לחישת אלקטרודות. לכן, חשוב להבין כיצד ציפוי פני השטח של AgCl ישפיע על התכונה עכבה שלה. המחקר הקודם שלנו הראה כי מידת כיסוי AgCl על האלקטרודות כסף יש השפעה מרכזית על העכבה מאפיין של אלקטרודה/אלקטרוליט ממשק13. עם זאת, כדי להעריך נכון את העכבה של איש הקשר של אלקטרודות לסרט דק/AgCl, השכבה AgCl נוצר חייב להיות חלק ויש להם כיסוי נשלט היטב. לכן, דרושה שיטה ליצירת שכבות AgCl חלקות עם דרגות מוגדרות של כיסוי AgCl. עבודות נעשו כדי לטפל בצורך זה באופן חלקי. ברואר ואח ' ו-pargar et al. דנו כי ניתן להשיג agcl חלקה באמצעות זרם קבוע עדין, בדיית השכבה agcl על גבי האלקטרודה כסף11,14. קטן ואח ' הקים שכבה אחת של AgCl על דגימות הכסף שלהם והבחין בגודל של חלקיקים AgCl בודדים8. המחקר שלהם מצא כי עובי של שכבה אחת של AgCl הוא סביב 350 nm. מטרת העבודה היא לפתח פרוטוקול ליצירת סרטים עדינים ומבוקרים של AgCl עם מאפייני עכבה חזוי על גבי אלקטרודות כסף.

<table border="1" fo:keep-together.within-page="1" fo:keep-with-next.within-page="always">
	<tbody>
		<tr>
			<td>AST Peva-600EI E-Beam Evaporation System</td>
			<td>Advanced System Technology</td>
			<td></td>
			<td>For Cr/Au Deposition</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>AZ 5214 E Photoresist</td>
			<td>MicroChemicals</td>
			<td></td>
			<td>Photoresist for pad opening</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>AZ P4620 Photoresist</td>
			<td>AZ Electronic Materials</td>
			<td></td>
			<td>Photoresist for Ag liftoff</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Branson/IPC 3000 Plasma Asher</td>
			<td>Branson/IPC</td>
			<td></td>
			<td>Ashing</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Branson 5510R-MT Ultrasonic Cleaner</td>
			<td>Branson Ultrasonics</td>
			<td></td>
			<td>Liftoff</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>CHI660D</td>
			<td>CH Instruments, Inc</td>
			<td></td>
			<td>Electrochemical Analyser</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Denton Explorer 14 RF/DC Sputter</td>
			<td>Denton Vacuum</td>
			<td></td>
			<td>For Ag Sputtering</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>FHD-5</td>
			<td>Fujifilm</td>
			<td>800768</td>
			<td>Photoresist Development</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>HPR 504 Photoresist</td>
			<td>OCG Microelectronic Materials NV</td>
			<td></td>
			<td>Photoresist for Cr/Au liftoff</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Hydrochloric acid fuming 37%</td>
			<td>VMR</td>
			<td>20252.420</td>
			<td>Making diluted HCl for cathodic cleaning</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>J.A. Woollam M-2000VI Spectroscopic Elipsometer</td>
			<td>J.A. Woollam</td>
			<td></td>
			<td>Measurement of silicon dioxide passivation layer thickness on dummy</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Multiplex CVD</td>
			<td>Surface Technology Systems</td>
			<td></td>
			<td>Silicon dioxide passivation</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Oxford RIE Etcher</td>
			<td>Oxford Instruments</td>
			<td></td>
			<td>For Pad opening</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Potassium Chloride</td>
			<td>Sigma-Aldrich</td>
			<td>7447-40-7</td>
			<td>Making KCl solutions</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>SOLITEC 5110-C/PD Manual Single-Head Coater</td>
			<td>Solitec Wafer Processing, Inc.</td>
			<td></td>
			<td>For spincoating of photoresist</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>SUSS MA6</td>
			<td>SUSS MicroTec</td>
			<td></td>
			<td>Mask Aligner</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Sylgard 184 Silicone Elastomer Kit</td>
			<td>Dow Corning</td>
			<td></td>
			<td>Adhesive for container on chip</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

fabrication of thin film silver/silver chloride electrodes with finely controlled single layer silver chloride

נייר זה נועד להציג פרוטוקול ליצירת סרטים חלקים ומבוקרים היטב של כסף/כסף כלוריד (Ag/AgCl) עם כיסוי ייעודי על גבי אלקטרודות סרט דק כסף. הסרט דק אלקטרודות כסף בגודל 80 יקרומטר x 80 יקרומטר ו 160 יקרומטר x 160 יקרומטר היו לפלט על וופלים קוורץ עם כרום/זהב (Cr/Au) שכבת הדבקה. לאחר פסיבציה, ליטוש ותהליכי ניקוי cathodic, האלקטרודות עברו לגלואוסטטי חמצון עם התחשבות בחוק האלקטרוליזה של פאראדיי כדי ליצור שכבות חלקות של AgCl עם מידה מוגדרת של כיסוי על גבי האלקטרודות כסף. פרוטוקול זה מאומת על ידי בדיקה של סריקת מיקרוסקופ אלקטרונים (SEM) התמונות של פני השטח של אלקטרודות מפוברק Ag/AgCl סרט דק, אשר מדגיש את הפונקציונליות ואת הביצועים של הפרוטוקול. משנה אופטימלית אלקטרודות מפוברק מפוברק כמו גם עבור השוואה. פרוטוקול זה ניתן להשתמש באופן נרחב כדי להמציא אלקטרודות Ag/AgCl עם דרישות עכבה ספציפית (למשל, בודק אלקטרודות עבור יישומים חישה עכבה כמו זרימת העכבה cy, מערכי האלקטרודה ההדדית).

איור 1 מראה 80 יקרומטר x 80 יקרומטר Ag/agcl אלקטרודה עם כיסוי agcl מעוצב של 50% מפוברק בעקבות פרוטוקול זה. על ידי התבוננות, האזור של התיקון agcl הוא סביב 68 יקרומטר x 52 יקרומטר, אשר תואם סביב 55% של כיסוי agcl. הדבר מראה שהפרוטוקול יכול לשלוט בכמות הכיסוי של AgCl באלקטרודות הסר...

Watch this Scientific Journal Video about Fabrication of Thin Film Silver/Silver Chloride Electrodes with Finely Controlled Single Layer Silver Chloride at JoVE.com

Fabrication of Thin Film Silver/Silver Chloride Electrodes with Finely Controlled Single Layer Silver Chloride

נייר זה מטרתו להציג שיטה ליצירת סרטים חלקים ומבוקרים היטב של כסף כלוריד (AgCl) עם כיסוי ייעודי על גבי אלקטרודות סרט דק כסף.

הייצור של סרטים דקים כסף/אלקטרודות כלוריד כסף עם מבוקרת דק שכבה אחת כסף כלוריד

This paper aims to present a protocol to form smooth and well-controlled films of silver/silver chloride (Ag/AgCl) with designated coverage on top of thin ...

פרוטוקול זה מאפשר תצהיר של שכבה אחת חלקה של כלוריד כסף עם כיסוי ייעודי על אלקטרודות כסף סרט דק. זו הפעם הראשונה טכניקה שיכולה לשלוט במדויק את הכיסוי של כלוריד כסף שכבה אחת על סרטים דקים של אלקטרודה הוא הציג. כדי להתחיל, לשטוף את השבב באמצעות isopropanol ואחריו מים DI.יוצקים 0.01 תווי חומצה הידרוכלורית טוחנת לתוך המיכל האקרילי. באמצעות מגבונים נקיים במעבדה, לנגב יבש את המאקרו כסף / כסף כלוריד הפניה אלקטרודות פיפטה חיצוני אלקטרודה. חבר את השבב ואת אלקטרודות המאקרו למנתח כך אלקטרודה כסף סרט דק על השבב מוגדר אלקטרודה עובדת, אלקטרודה הפניה כסף / כסף כלוריד מאקרו מוגדר אלקטרודה הפניה, ואת אלקטרודה כסף / כסף כלוריד חשוף מוגדר אלקטרודה נגד אלקטרודה.מקם את אלקטרודות המאקרו במיכל. השתמש ב- Blu-Tack כמכסה המיכל כדי לעגן את אלקטרודות המאקרו. שים את ההתקנה לכלוב פאראדיי.בתוכנת CHI660D, לחץ על כרטיסיית ההתקנה בפינה הימנית העליונה של החלון. לאחר מכן לחץ על טכניקה, עקומת IT אמפרומטרית אישור לבצע ניקוי קתודי של האלקטרודות. בתפריט המוקפץ, שנה את הפרמטרים לניקוי קטודי.הגדר את המתח ההתחלתי כמינוס 1.5, מרווח הדגימה כ- 0.1 שניות, זמן הריצה כ- 900 שניות, הזמן השקט כאפס שניה והקשקשים במהלך הריצה כאחד. עבור 80 מיקרומטר על ידי 80 מיקרומטר אלקטרודה, להגדיר את הרגישות כמו e מינוס 006 אחד. לחץ על אישור. התחל את התהליך על-ידי לחיצה על סמל ההתחלה תחת שורת התפריטים.תן לניסוי לרוץ ולסיים. פתח את כלוב פאראדיי, הסר את התייחסות המאקרו ואת האלקטרודות הנגדיות ונגב אותן יבשות. יוצקים את האלקטרוליט המשמש במיכל פסולת ושטיפת המיכל האקרילי באמצעות מי DI.יוצקים 0.1 תספורת אשלגן כלורי טוחן לתוך המיכל האקרילי. חבר את השבב ואת אלקטרודות המאקרו למנתח כך אלקטרודה כסף סרט דק ניקה על השבב מוגדר אלקטרודה עובדת, אלקטרודה התייחסות כסף / כסף כלוריד מאקרו מוגדר אלקטרודה הפניה, ואת אלקטרודה כסף / כסף כרום חשוף מוגדר אלקטרודה נגד אלקטרודה. מקם את אלקטרודות המאקרו במיכל.השתמש ב- Blu-Tack כמכסה המיכל כדי לעגן את אלקטרודות המאקרו. שים את ההתקנה לכלוב פאראדיי. בתוכנת CHI660D, לחץ על כרטיסיית ההתקנה בפינה השמאלית העליונה של החלון, לחץ על טכניקה, כרונופוטנטיומטריה, ו אישור לבצע ייצור גלוונוסטטי של כלוריד כסף שכבה אחת על אלקטרודות כסף.בתפריט המוקפץ, שנה את הפרמטרים. הגדר את הזרם הקטודי כאפס אמפים. הגדר את הזרם האנודי כך שהצפיפות הנוכחית המוחלת על אלקטרודה הסרט הדק היא 0.5 מיליאמפר לסנטימטר מרובע.שמור על מגבלת המתח הנמוך בקצה הגבוה והחזק זמן כברירת מחדל. הגדר את הזמן הקטודי כ-10 שניות. הגדר את הזמן האנודי בהתאמה כדי להשיג את מידת כיסוי כלוריד כסף הדרוש.הגדר את הקוטביות ההתחלתית כ- anodic, את מרווח אחסון הנתונים כ- 0.1 שניות, את מספר המקטעים כאחד ואת עדיפות המיתוג הנוכחית כזמן. בטל את סימון הקלטת אות העזר כאשר מרווח הדגימה גדול או שווה ל- 0.0005 שניות. לחץ על אישור. התחל את התהליך על-ידי לחיצה על סמל ההתחלה תחת שורת התפריטים.תן לניסוי לרוץ ולסיים. פתח את כלוב פאראדיי והסר את התייחסות המאקרו ואת האלקטרודות הנגדיות ונגב את המשטחים שלהם. להטביע את אלקטרודות מאקרו ב 3.5 פתרון אשלגן כלורי טוחן לאחסון.לאחר מכן השלך את האלקטרוליט המשמש במיכל פסולת ושטף את המיכל האקרילי באמצעות מי DI. מכסים את פתיחת המיכל האקרילי באמצעות סרט פרפין עד מוכן לשימוש. תמונה זו מציגה 80 מיקרומטר על ידי 80 מיקרומטר כסף / כסף כלוריד אלקטרודה עם כיסוי כלוריד כסף מעוצב של 50% היה גוש של חלקיקי כלוריד כסף סמוכים, אבל חלקיקי כלוריד כסף מוערמים לא נצפו.ניתן היה לראות צומת כלוריד כסף / כסף ייחודי. דוגמאות מוצלחות יותר של סרט דק כסף / כסף כלוריד אלקטרודות מפוברק מוצגים כאן. 80 מיקרומטר על ידי 80 אלקטרודות מיקרומטר עם כיסוי כלוריד כסף ייעודי של 70% ו 30% יחד עם 160 מיקרומטר על ידי 160 אלקטרודות מיקרומטר עם כיסוי כלוריד כסף ייעודי של 75%ו 90% מוצג כאן הוא משטח אלקטרודה מלוטש משטח אלקטרודה unpolished.עבור האלקטרודה הלא מלוטשת, מבנים דמויי אצבע נצפו על פני השטח ואילו משטח האלקטרודה המלוטש חלק עם סימני שריטות קלים הנגרמים על ידי תהליך הליטוש. הנה 80 מיקרומטר לא מלוטש על ידי 80 מיקרומטר כסף / כסף כלוריד אלקטרודה עם כיסוי כלוריד כסף מעוצב של 50% כלוריד כסף נוצר נראה שקוע פנימה במקום לבלט החוצה. בעת יצירת שכבת הכלוריד הכסופה על אלקטרודות של שטחי פנים שונים, חשוב לזכור לכוונן מחדש את הזרם המוחל כדי לשמור על אותה צפיפות זרם.פרוטוקול זה מאפשר לחוקרים את האלקטרודות כסף / כסף כלוריד סרט דק שהוקצה עבור חישת בלתי מכשולה כמו מחקר קודם הראה כי הריון אלקטרודות כלוריד כסף / כסף תלוי כיסוי כלוריד כסף.

Research

Education

JoVE Core

JoVE Journal

Physics

Chemistry

Unit 1

Electromagnetic Induction

SCIENTISTS IN ACTION

Profiling the Triacylglyceride Contents in Bat Integumentary Lipids by Preparative Thin Layer Chromatography and MALDI-TOF Mass Spectrometry

פרופיל תוכן Triacylglyceride בשומני הכסות בת על ידי כרומטוגרפיה Preparative שכבה דקה וMALDI-TOF המוני ספקטרומטריית

The mammalian integument includes sebaceous glands that secrete an oily material onto the skin surface. Sebum production is part of the innate immune ...

Thin-layer Chromatographic (TLC) Separations and Bioassays of Plant Extracts to Identify Antimicrobial Compounds

Thin-layer Chromatographic TLC Separations and Bioassays of Plant Extracts to Identify Antimicrobial Compounds

בשכבה דקה כרומטוגרפי (TLC) הפרדות וbioassays של תמציות צמחים כדי לזהות תרכובות Antimicrobial

A common screen for plant antimicrobial compounds consists of separating plant extracts by paper or thin-layer chromatography (PC or TLC), exposing the ...

Dynamic Electrochemical Measurement of Chloride Ions

מדידת אלקטרוכימיות הדינמית של יוני כלוריד

This protocol describes the dynamic measurement of chloride ions using the transition time of a silver silver chloride (Ag/AgCl) electrode. Silver silver ...

Layer-by-layer Synthesis and Transfer of Freestanding Conjugated Microporous Polymer Nanomembranes

סינתזה והעברה של אוב Nanomembranes פולימר Microporous Conjugated שכבה אחר שכבה

CMP as large surface area materials have attracted growing interest recently, due to their high variability in the incorporation of functional groups in ...

Influence of Hybrid Perovskite Fabrication Methods on Film Formation, Electronic Structure, and Solar Cell Performance

השפעת שיטות ייצור perovskite היברידיות על יצירת סרט, מבנה אלקטרוני, ואת ביצוע תאים סולאריים

Hybrid organic/inorganic halide perovskites have lately been a topic of great interest in the field of solar cell applications, with the potential to ...

Fabrication and Testing of Photonic Thermometers

ייצור ובדיקה של מדי חום פוטוני

In recent years, a push for developing novel silicon photonic devices for telecommunications has generated a vast knowledge base that is now being ...

Chemical Synthesis of Porous Barium Titanate Thin Film and Thermal Stabilization of Ferroelectric Phase by Porosity-Induced Strain

סינתזה של נקבובי בריום חומצה טיטנית סרט דק וייצוב תרמי של שלב Ferroelectric על ידי זן נקבוביות-Induced

Barium titanate (BaTiO3, hereafter BT) is an established ferroelectric material first discovered in the 1940s and still widely used because of its ...

The Effect of Ultraviolet Radiation on the Chemical Bath Deposition of Bis(thiourea) Cadmium Chloride Crystals and the Subsequent CdS Obtention

The Effect of Ultraviolet Radiation on the Chemical Bath Deposition of Bisthiourea Cadmium Chloride Crystals and the Subsequent CdS Obtention

השפעת קרינה אולטרה סגולה על התצהיר אמבט כימי של הקריסטלים כלוריד קדמיום Bis(thiourea), את Obtention תקליטורים עוקבות

In this work, the effects on the preparation of bis(thiourea) cadmium chloride crystals when illuminated with ultraviolet (UV) light at a wavelength of ...

Solution-Processed "Silver-Bismuth-Iodine" Ternary Thin Films for Lead-Free Photovoltaic Absorbers

הפתרון-מעובד "סילבר-ביסמוט-יוד" Ternary סרטים רזה עבור בולמי נטול עופרת פוטו

Bismuth-based hybrid perovskites are regarded as promising photo-active semiconductors for environment-friendly and air-stable solar cell applications. ...

Bio-inspired Polydopamine Surface Modification of Nanodiamonds and Its Reduction of Silver Nanoparticles

שינוי בהשראה ביו השטח Polydopamine של Nanodiamonds והצמצום שלה של סילבר חלקיקים

Surface functionalization of nanodiamonds (NDs) is still challenging due to the diversity of functional groups on the ND surfaces. Here, we demonstrate a ...