Name: fabrication of thin film silver/silver chloride electrodes with finely controlled single layer silver chloride
Uploaded: 2020-07-01T13:00:00
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इस काम को हांगकांग की अनुसंधान अनुदान परिषद (प्रोजेक्ट नंबर N_HKUST615/14) द्वारा प्रायोजित आरजीसी-एनएसएफसी संयुक्त कोष से अनुदान द्वारा समर्थित किया गया था । हम डिवाइस/सिस्टम फैब्रिकेशन के लिए एचयूएसटी की नैनोसिस्टम फैब्रिकेशन फैसिलिटी (एनएफएफ) को स्वीकार करना चाहेंगे ।

1. लिफ्टऑफ का उपयोग करके सीआर/एयू आसंजन परत का निर्माण
<ol><li>स्पिनकोट HPR504 एक क्वार्ट्ज वेफर पर 1.2 माइक्रोन मोटाई के सकारात्मक फोटोरेसिस्ट 5 एस के लिए 1,000 आरपीएम की प्रसार गति और 30 एस के लिए 4,000 आरपीएम की स्पिन गत?...

<ol>
	<li>Bakker, E., Telting-Diaz, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electrochemical+sensors.">Electrochemical sensors.</a> Analytical Chemistry. 74 (12), 2781-2800 (2002).</li><li>Jobst, G., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Thin-Film+Microbiosensors+for+Glucose-Lactate+Monitoring.">Thin-Film Microbiosensors for Glucose-Lactate Monitoring.</a> Analytical Chemistry. 68 (18), 3173-3179 (1996).</li><li>Matsumoto, T., Ohashi, A., Ito, N. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Development+of+a+micro-planar+Ag/AgCl+quasi-reference+electrode+with+long-term+stability+for+an+amperometric+glucose+sensor.">Development of a micro-planar Ag/AgCl quasi-reference electrode with long-term stability for an amperometric glucose sensor.</a> Analytica Chimica Acta. 462 (2), 253-259 (2002).</li><li>Suzuki, H., Hirakawa, T., Sasaki, S., Karube, I. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+integrated+three-electrode+system+with+a+micromachined+liquid-junction+Ag/AgCl+liquid-junction+Ag/AgCl+reference+electrode.">An integrated three-electrode system with a micromachined liquid-junction Ag/AgCl liquid-junction Ag/AgCl reference electrode.</a> Analytica Chimica Acta. 387 (1), 103-112 (1999).</li><li>Ives, D. J. G., Janz, G. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=.">.</a> Reference Electrodes - theory and practice. , (1961).</li><li>Huynh, T. M., Nguyen, T. S., Doan, T. C., Dang, C. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Fabrication+of+thin+film+Ag/AgCl+reference+electrode+by+electron+beam+evaporation+method+for+potential+measurements.">Fabrication of thin film Ag/AgCl reference electrode by electron beam evaporation method for potential measurements.</a> Advances in Natural Sciences: Nanoscience and Nanotechnology. 10 (1), 015006 (2019).</li><li>Katan, T., Szpak, S., Bennion, D. N. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Silver/silver+chloride+electrode:+Reaction+paths+on+discharge.">Silver/silver chloride electrode: Reaction paths on discharge.</a> Journal of The Electrochemical Society. 120 (7), 883-888 (1973).</li><li>Katan, T., Szpak, S., Bennion, D. N. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Silver/silver+chloride+electrodes:+Surface+morphology+on+charging+and+discharging.">Silver/silver chloride electrodes: Surface morphology on charging and discharging.</a> Journal of The Electrochemical Society. 121 (6), 757-764 (1974).</li><li>Polk, B. J., Stelzenmuller, A., Mijares, G., MacCrehan, W., Gaitan, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Ag/AgCl+microelectrodes+with+improved+stability+for+microfluidics.">Ag/AgCl microelectrodes with improved stability for microfluidics.</a> Sensors and Actuators B: Chemical. 114 (1), 239-247 (2006).</li><li>Mechaour, S. S., Derardja, A., Oulmi, K., Deen, M. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effect+of+the+wire+diameter+on+the+stability+of+micro-scale+Ag/AgCl+reference+electrode.">Effect of the wire diameter on the stability of micro-scale Ag/AgCl reference electrode.</a> Journal of The Electrochemical Society. 164 (14), E560-E564 (2017).</li><li>Brewer, P. J., Leese, R. J., Brown, R. J. C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+improved+approach+for+fabricating+Ag/AgCl+reference+electrodes.">An improved approach for fabricating Ag/AgCl reference electrodes.</a> Electrochimica Acta. 71, 252-257 (2012).</li><li>Safari, S., Selvaganapathy, P. R., Derardja, A., Deen, M. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electrochemical+growth+of+high-aspect+ratio+nanostructured+silver+chloride+on+silver+and+its+application+to+miniaturized+reference+electrodes.">Electrochemical growth of high-aspect ratio nanostructured silver chloride on silver and its application to miniaturized reference electrodes.</a> Nanotechnology. 22 (31), 315601 (2001).</li><li>Tjon, K. C. E., Yuan, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Impedance+characterization+of+silver/silver+chloride+micro-electrodes+for+bio-sensing+applications.">Impedance characterization of silver/silver chloride micro-electrodes for bio-sensing applications.</a> Electrochimica Acta. 320, 134638 (2019).</li><li>Pargar, F., Kolev, H., Koleva, D. A., van Breugel, K. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Microstructure,+surface+chemistry+and+electrochemical+response+of+Ag+|+AgCl+sensors+in+alkaline+media.">Microstructure, surface chemistry and electrochemical response of Ag | AgCl sensors in alkaline media.</a> Journal of Materials Science. 53 (10), 7527-7550 (2018).</li><li>Hassel, A. W., Fushimi, K., Seo, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+agar-based+silver+|+silver+chloride+reference+electrode+for+use+in+micro-electrochemistry.">An agar-based silver | silver chloride reference electrode for use in micro-electrochemistry.</a> Electrochemistry communications. 1 (5), 180-183 (1999).</li></ol>

एजी/एजीसीएल इलेक्ट्रोड के भौतिक गुणों को आकृति विज्ञान और इलेक्ट्रोड पर जमा एजीसीएल की संरचना द्वारा नियंत्रित किया जाता है। इस पेपर में, हमने सिल्वर इलेक्ट्रोड की सतह पर एजीसीएल की एक परत के कवरेज को...

एजी/एजीसीएल इलेक्ट्रोड इलेक्ट्रोकेमिस्ट्री के क्षेत्र में सबसे ज्यादा इस्तेमाल होने वाले इलेक्ट्रोड में से एक है । इसका सबसे अधिक उपयोग इलेक्ट्रोकेमिकल सिस्टम में संदर्भ इलेक्ट्रोड के रूप में किया जाता है क्योंकि इसकी निर्माण में आसानी, गैर-विषैली संपत्ति और स्थिर इलेक्ट्रोड क्षमता1,,2,,3,,4,,5,,6।
शोधकर्ताओं ने एजी/एजीसीएल इलेक्ट्रोड के तंत्र को समझने का प्रयास किया है । इलेक्ट्रोड पर क्लोराइड नमक की परत इलेक्ट्रोलाइट युक्त क्लोराइड में एजी/एजीसीएल इलेक्ट्रोड की विशेषता रेडॉक्स रिएक्शन में एक मौलिक सामग्री पाई गई है। ऑक्सीकरण पथ के लिए, इलेक्ट्रोड की सतह पर अपूर्णता स्थलों पर चांदी घुलनशील एजीसीएल परिसरों के रूप में समाधान में क्लोराइड आयनों के साथ जोड़ती है, जिसमें वे एजीसीएल के रूप में वर्षा के लिए इलेक्ट्रोड की सतह पर जमा एजीसीएल के किनारों को फैलाना। कटौती पथ में इलेक्ट्रोड पर एजीसीएल का उपयोग करके घुलनशील एजीसीएल परिसरों का गठन शामिल है। परिसर चांदी की सतह को फैलाते हैं और चांदी के 7,8को वापस कम करदेतेहैं ।
एजीसीएल लेयर का आकृति विज्ञान एजी/एजीसीएल इलेक्ट्रोड की भौतिक संपत्ति में एक निर्णायक प्रभाव है। विभिन्न कार्यों से पता चला है कि सतह का बड़ा क्षेत्र संदर्भ एजी/एजीसीएल इलेक्ट्रोड बनाने के लिए महत्वपूर्ण है जिसमें अत्यधिक प्रजनन योग्य और स्थिर इलेक्ट्रोड क्षमता9,10,11,,12है । इसलिए शोधकर्ताओं ने एक बड़े सतह क्षेत्र के साथ एजी/एजीसीएल इलेक्ट्रोड बनाने के तरीकों की जांच की है । शराब बनानेवाला एट अल की खोज की है कि लगातार वोल्टेज के बजाय लगातार वर्तमान का उपयोग करने के लिए एजी11बनाने/ सफारी एट अल ने सिल्वर इलेक्ट्रोड की सतह पर एजीसीएल गठन के दौरान बड़े पैमाने पर परिवहन सीमा प्रभाव का लाभ उठाया ताकि उनके ऊपर एजीसीएल नैनोशीट बनाई जा सके, जिससे एजीसीएल परत के सतह क्षेत्र में काफीवृद्धि हुई।
संवेदन अनुप्रयोगों के लिए एजीसीएल इलेक्ट्रोड डिजाइन करने की प्रवृत्ति बढ़ रही है। इलेक्ट्रोड को संवेदन करने के लिए कम संपर्क बाधा महत्वपूर्ण है। इस प्रकार, यह समझना महत्वपूर्ण है कि एजीसीएल की सतह कोटिंग इसकी बाधा संपत्ति को कैसे प्रभावित करेगी। हमारे पिछले शोध से पता चला है कि सिल्वर इलेक्ट्रोड पर एजीसीएल कवरेज की डिग्री का इलेक्ट्रोड/इलेक्ट्रोलाइट इंटरफेस13की बाधा विशेषता पर निर्णायक प्रभाव पड़ता है । हालांकि, पतली फिल्म एजी/एजीसीएल इलेक्ट्रोड के संपर्क बाधा का सही अनुमान लगाने के लिए, एजीसीएल परत का गठन चिकनी होना चाहिए और अच्छी तरह से नियंत्रित कवरेज होना चाहिए । इसलिए, एजीसीएल कवरेज की नामित डिग्री के साथ चिकनी एजीसीएल परतों को बनाने के लिए एक विधि की आवश्यकता है। इस आवश्यकता को आंशिक रूप से पूरा करने के लिए कार्य किए गए हैं । ब्रेवर एट अल और पारगर एट अल पर चर्चा की कि एक चिकनी AgCl एक कोमल निरंतर वर्तमान का उपयोग कर प्राप्त किया जा सकता है, चांदी इलेक्ट्रोड11, 14,14के शीर्ष पर AgCl परत गढ़ने । कटान एट अल ने अपने चांदी के नमूनों पर एजीसीएल की एक परत बनाई और अलग - अलग एजीसीएल कणों के आकार का अवलोकन किया8. उनके शोध में पाया गया कि एजीसीएल की एक परत की मोटाई 350 एनएम के आसपास है। इस काम का उद्देश्य चांदी के इलेक्ट्रोड के शीर्ष पर भविष्यवाणी की बाधा गुणों के साथ AgCl की ठीक और अच्छी तरह से नियंत्रित फिल्मों के रूप में एक प्रोटोकॉल विकसित करना है।

<table border="1" fo:keep-together.within-page="1" fo:keep-with-next.within-page="always">
	<tbody>
		<tr>
			<td>AST Peva-600EI E-Beam Evaporation System</td>
			<td>Advanced System Technology</td>
			<td></td>
			<td>For Cr/Au Deposition</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>AZ 5214 E Photoresist</td>
			<td>MicroChemicals</td>
			<td></td>
			<td>Photoresist for pad opening</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>AZ P4620 Photoresist</td>
			<td>AZ Electronic Materials</td>
			<td></td>
			<td>Photoresist for Ag liftoff</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Branson/IPC 3000 Plasma Asher</td>
			<td>Branson/IPC</td>
			<td></td>
			<td>Ashing</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Branson 5510R-MT Ultrasonic Cleaner</td>
			<td>Branson Ultrasonics</td>
			<td></td>
			<td>Liftoff</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>CHI660D</td>
			<td>CH Instruments, Inc</td>
			<td></td>
			<td>Electrochemical Analyser</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Denton Explorer 14 RF/DC Sputter</td>
			<td>Denton Vacuum</td>
			<td></td>
			<td>For Ag Sputtering</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>FHD-5</td>
			<td>Fujifilm</td>
			<td>800768</td>
			<td>Photoresist Development</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>HPR 504 Photoresist</td>
			<td>OCG Microelectronic Materials NV</td>
			<td></td>
			<td>Photoresist for Cr/Au liftoff</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Hydrochloric acid fuming 37%</td>
			<td>VMR</td>
			<td>20252.420</td>
			<td>Making diluted HCl for cathodic cleaning</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>J.A. Woollam M-2000VI Spectroscopic Elipsometer</td>
			<td>J.A. Woollam</td>
			<td></td>
			<td>Measurement of silicon dioxide passivation layer thickness on dummy</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Multiplex CVD</td>
			<td>Surface Technology Systems</td>
			<td></td>
			<td>Silicon dioxide passivation</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Oxford RIE Etcher</td>
			<td>Oxford Instruments</td>
			<td></td>
			<td>For Pad opening</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Potassium Chloride</td>
			<td>Sigma-Aldrich</td>
			<td>7447-40-7</td>
			<td>Making KCl solutions</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>SOLITEC 5110-C/PD Manual Single-Head Coater</td>
			<td>Solitec Wafer Processing, Inc.</td>
			<td></td>
			<td>For spincoating of photoresist</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>SUSS MA6</td>
			<td>SUSS MicroTec</td>
			<td></td>
			<td>Mask Aligner</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Sylgard 184 Silicone Elastomer Kit</td>
			<td>Dow Corning</td>
			<td></td>
			<td>Adhesive for container on chip</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

fabrication of thin film silver/silver chloride electrodes with finely controlled single layer silver chloride

इस पत्र का उद्देश्य पतली फिल्म सिल्वर इलेक्ट्रोड के शीर्ष पर नामित कवरेज के साथ चांदी/चांदी क्लोराइड (एजी/एजीसीएल) की चिकनी और अच्छी तरह से नियंत्रित फिल्मों के रूप में एक प्रोटोकॉल प्रस्तुत करना है । पतली फिल्म चांदी इलेक्ट्रोड आकार ८० μm x ८० μm और १६० μm x १६० μm एक क्रोमियम के साथ क्वार्ट्ज वेफर्स पर उड़ रहे थे/ निष्क्रियता, चमकाने और कैथोडिक सफाई प्रक्रियाओं के बाद, इलेक्ट्रोड ने सिल्वर इलेक्ट्रोड के शीर्ष पर कवरेज की एक निर्धारित डिग्री के साथ एजीसीएल की चिकनी परतों के रूप में इलेक्ट्रोलिसिस के फैराडे के कानून पर विचार करने के साथ जस्ती ऑक्सीकरण किया। इस प्रोटोकॉल को गढ़े गए एजी/एजीसीएल पतली फिल्म इलेक्ट्रोड की सतह की स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोप (एसईएम) छवियों के निरीक्षण से मान्य किया जाता है, जो प्रोटोकॉल की कार्यक्षमता और प्रदर्शन पर प्रकाश डालता है । उप-इष्टतम निर्मित इलेक्ट्रोड तुलना के लिए भी गढ़े जाते हैं। इस प्रोटोकॉल का व्यापक रूप से विशिष्ट बाधा आवश्यकताओं के साथ एजी/एजीसीएल इलेक्ट्रोड बनाने के लिए उपयोग किया जा सकता है (उदाहरण के लिए, बाधा प्रवाह साइटोमेट्री और इंटरडिजिटेड इलेक्ट्रोड सरणी जैसे अनुप्रयोगों को संवेदन करने के लिए इलेक्ट्रोड की जांच करना)।

चित्रा 1 इस प्रोटोकॉल के बाद गढ़े गए 50% के डिजाइन एजीसीएल कवरेज के साथ 80 माइक्रोन x 80 माइक्रोन एजी/एजीसीएल इलेक्ट्रोड दिखाता है। अवलोकन द्वारा, एजीसीएल पैच का क्षेत्र लगभग 68 माइक्र?...

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Fabrication of Thin Film Silver/Silver Chloride Electrodes with Finely Controlled Single Layer Silver Chloride

इस पेपर का उद्देश्य पतली फिल्म सिल्वर इलेक्ट्रोड के शीर्ष पर नामित कवरेज के साथ सिल्वर क्लोराइड (एजीसीएल) की चिकनी और अच्छी तरह से नियंत्रित फिल्मों को बनाने के लिए एक विधि पेश करना है।

पतले नियंत्रित एकल परत रजत क्लोराइड के साथ पतली फिल्म सिल्वर/सिल्वर क्लोराइड इलेक्ट्रोड का निर्माण

This paper aims to present a protocol to form smooth and well-controlled films of silver/silver chloride (Ag/AgCl) with designated coverage on top of thin ...

यह प्रोटोकॉल पतली फिल्म सिल्वर इलेक्ट्रोड पर नामित कवरेज के साथ चांदी क्लोराइड की एक चिकनी एकल परत के जमाव को सक्षम बनाता है। यह पहली बार है जब एक तकनीक है कि ठीक इलेक्ट्रोड की पतली फिल्मों पर एकल परत चांदी क्लोराइड के कवरेज को नियंत्रित कर सकते है शुरू की है । शुरू करने के लिए, आइसोप्रोपैनॉल का उपयोग करके चिप को फ्लश करें जिसके बाद डीआई पानी होता है।एक्रेलिक कंटेनर में 0.01 मोलर हाइड्रोक्लोरिक एसिड समाधान डालें। प्रयोगशाला साफ पोंछे का उपयोग करना, मैक्रो सिल्वर/सिल्वर क्लोराइड संदर्भ इलेक्ट्रोड पिपेट बाहरी और इलेक्ट्रोड को सूखाएं। चिप और मैक्रो इलेक्ट्रोड को एनालाइजर से इस तरह कनेक्ट करें कि चिप पर एक पतली फिल्म सिल्वर इलेक्ट्रोड को वर्किंग इलेक्ट्रोड के रूप में परिभाषित किया गया है, मैक्रो सिल्वर/सिल्वर क्लोराइड रेफरेंस इलेक्ट्रोड को रेफरेंस इलेक्ट्रोड के रूप में परिभाषित किया गया है और नंगे मैक्रो सिल्वर/सिल्वर क्लोराइड इलेक्ट्रोड को काउंटर-इलेक्ट्रोड के रूप में परिभाषित किया गया है ।मैक्रो इलेक्ट्रोड को कंटेनर में रखें। मैक्रो इलेक्ट्रोड को एंकर करने के लिए कंटेनर के ढक्कन के रूप में ब्लू-टैक का उपयोग करें। सेटअप को फैराडे पिंजरे में रखें।CHI660D सॉफ्टवेयर में, खिड़की के शीर्ष बाएं कोने में सेटअप टैब पर क्लिक करें। फिर क्लिक करें तकनीक, एम्पेरोमेट्रिक आईटी वक्र और ओके इलेक्ट्रोड की कैथोडिक सफाई करने के लिए। पॉपअप मेनू में, कैथोडिक सफाई के लिए मापदंडों को संशोधित करें।प्रारंभिक वोल्टेज को शून्य से 1.5 के रूप में सेट करें, नमूना अंतराल 0.1 सेकंड के रूप में, रन का समय 900 सेकंड, शून्य सेकंड के रूप में शांत समय, और एक के रूप में रन के दौरान तराजू। 80 माइक्रोमीटर इलेक्ट्रोड द्वारा 80 माइक्रोमीटर के लिए, संवेदनशीलता को एक ई माइनस 006 के रूप में सेट करें। ठीक है प्रेस। मेनू बार के तहत स्टार्ट आइकन दबाकर प्रक्रिया शुरू करें।प्रयोग को चलने दें और खत्म करें। फैराडे केज खोलें, मैक्रो रेफरेंस और काउंटर इलेक्ट्रोड निकालें और उन्हें सूखा पोंछें। एक अपशिष्ट कंटेनर में इस्तेमाल इलेक्ट्रोलाइट डालो और DI पानी का उपयोग कर ऐक्रेलिक कंटेनर फ्लश।ऐक्रेलिक कंटेनर में 0.1 मोलर पोटेशियम क्लोराइड समाधान डालें। चिप और मैक्रो इलेक्ट्रोड को एनालाइजर से इस तरह कनेक्ट करें कि चिप पर साफ की गई पतली फिल्म सिल्वर इलेक्ट्रोड को वर्किंग इलेक्ट्रोड के रूप में परिभाषित किया गया है, मैक्रो सिल्वर/सिल्वर क्लोराइड रेफरेंस इलेक्ट्रोड को रेफरेंस इलेक्ट्रोड के रूप में परिभाषित किया गया है और नंगे मैक्रो सिल्वर/सिल्वर क्लोराइड इलेक्ट्रोड को काउंटर-इलेक्ट्रोड के रूप में परिभाषित किया गया है । मैक्रो इलेक्ट्रोड को कंटेनर में रखें।मैक्रो इलेक्ट्रोड को एंकर करने के लिए कंटेनर के ढक्कन के रूप में ब्लू-टैक का उपयोग करें। सेटअप को फैराडे पिंजरे में रखें। CHI660D सॉफ्टवेयर में, खिड़की के शीर्ष बाएं कोने पर सेटअप टैब पर क्लिक करें, क्लिक करें तकनीक, क्रोनोपोटेंटियोमेट्री, और ओके सिल्वर इलेक्ट्रोड पर सिंगल लेयर सिल्वर क्लोराइड का गैल्वेनोस्टेटिक फैब्रिकेशन करने के लिए।पॉपअप मेनू में, मापदंडों को संशोधित करें। कैथोडिक करंट को शून्य amps के रूप में सेट करें। एनोडिक वर्तमान को इस तरह सेट करें कि पतली फिल्म इलेक्ट्रोड पर लागू वर्तमान घनत्व 0.5 मिलीएम्प्स प्रति वर्ग सेंटीमीटर है।हाई एंड लो वोल्टेज लिमिट रखें और डिफॉल्ट के तौर पर समय को होल्ड करें। कैथोडिक समय को 10 सेकंड के रूप में निर्धारित करें। चांदी क्लोराइड कवरेज की डिग्री प्राप्त करने के लिए तदनुसार एनोडिक समय निर्धारित करें।प्रारंभिक ध्रुवीकरण को एनोडिक के रूप में सेट करें, डेटा स्टोरेज अंतराल 0.1 सेकंड के रूप में, सेगमेंट की संख्या एक के रूप में, और समय के रूप में वर्तमान स्विचिंग प्राथमिकता। जब नमूना अंतराल 0.0005 सेकंड से अधिक या बराबर हो तो सहायक सिग्नल रिकॉर्डिंग को अनचेक करें। ठीक है प्रेस। मेनू बार के तहत स्टार्ट आइकन दबाकर प्रक्रिया शुरू करें।प्रयोग को चलने दें और खत्म करें। फैराडे पिंजरे को खोलें और मैक्रो रेफरेंस और काउंटर-इलेक्ट्रोड को हटा दें और उनकी सतहों को सूखाएं। भंडारण के लिए 3.5 मोलर पोटेशियम क्लोराइड समाधान में मैक्रो इलेक्ट्रोड को जलमग्न करें।फिर एक अपशिष्ट कंटेनर में इस्तेमाल इलेक्ट्रोलाइट त्यागें और डीआई पानी का उपयोग करके ऐक्रेलिक कंटेनर को फ्लश करें। उपयोग करने के लिए तैयार होने तक पैराफिन फिल्म का उपयोग करके ऐक्रेलिक कंटेनर के उद्घाटन को कवर करें। इस छवि को ८० माइक्रोमीटर चांदी द्वारा एक ८० माइक्रोमीटर से पता चलता है/५०% की एक डिजाइन चांदी क्लोराइड कवरेज के साथ चांदी क्लोराइड इलेक्ट्रोड वहां आसन्न चांदी क्लोराइड कणों की एक झुरमुट था, लेकिन खड़ी चांदी क्लोराइड कणों नहीं देखा गया ।एक विशिष्ट चांदी/चांदी क्लोराइड चौराहे देखा जा सकता है । पतली फिल्म सिल्वर/सिल्वर क्लोराइड इलेक्ट्रोड के अधिक सफल उदाहरण यहां दिखाए गए हैं । 80 माइक्रोमीटर इलेक्ट्रोड द्वारा 80 माइक्रोमीटर इलेक्ट्रोड के साथ 70% और 30% के एक साथ 160 माइक्रोमीटर इलेक्ट्रोड द्वारा 160 माइक्रोमीटर इलेक्ट्रोड के साथ 75% और 90% की एक नामित चांदी क्लोराइड कवरेज के साथ यहां एक पॉलिश इलेक्ट्रोड सतह और एक unpolished इलेक्ट्रोड सतह है।बिना पॉलिश किए गए इलेक्ट्रोड के लिए सतह पर उंगली जैसी संरचनाएं देखी गईं जबकि पॉलिश इलेक्ट्रोड सतह पॉलिशिंग प्रक्रिया के कारण मामूली खरोंच के निशान के साथ चिकनी होती है। यहां ८० माइक्रोमीटर चांदी/चांदी क्लोराइड इलेक्ट्रोड द्वारा एक बिना पॉलिश ८० माइक्रोमीटर ५०% की एक डिजाइन चांदी क्लोराइड कवरेज के साथ चांदी क्लोराइड का गठन किया गया है बजाय बाहर फैला हुआ के अंदर अवकाश दिखाई दिया । विभिन्न सतह क्षेत्रों के इलेक्ट्रोड पर चांदी क्लोराइड परत बनाते समय, एक ही वर्तमान घनत्व को बनाए रखने के लिए लागू वर्तमान को फिर से ट्यून करना याद रखना महत्वपूर्ण है।यह प्रोटोकॉल शोधकर्ताओं को असाइन की गई पतली फिल्म सिल्वर/सिल्वर क्लोराइड इलेक्ट्रोड को बाधा संवेदन के लिए सक्षम बनाता है क्योंकि पिछले शोध से पता चला है कि चांदी/सिल्वर क्लोराइड इलेक्ट्रोड बाधा चांदी क्लोराइड कवरेज पर निर्भर करती है ।

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In recent years, a push for developing novel silicon photonic devices for telecommunications has generated a vast knowledge base that is now being ...

Chemical Synthesis of Porous Barium Titanate Thin Film and Thermal Stabilization of Ferroelectric Phase by Porosity-Induced Strain

Porosity प्रेरित तनाव द्वारा छिद्रित बेरियम Titanate पतली फिल्म और Ferroelectric चरण के थर्मल स्थिरीकरण के रासायनिक संश्लेषण

Barium titanate (BaTiO3, hereafter BT) is an established ferroelectric material first discovered in the 1940s and still widely used because of its ...

The Effect of Ultraviolet Radiation on the Chemical Bath Deposition of Bis(thiourea) Cadmium Chloride Crystals and the Subsequent CdS Obtention

The Effect of Ultraviolet Radiation on the Chemical Bath Deposition of Bisthiourea Cadmium Chloride Crystals and the Subsequent CdS Obtention

बीआईएस के रासायनिक स्नान जमाव पर पराबैंगनी विकिरण का प्रभाव (thiourea) कैडमियम क्लोराइड क्रिस्टल और बाद में सीडीएस Obtention

In this work, the effects on the preparation of bis(thiourea) cadmium chloride crystals when illuminated with ultraviolet (UV) light at a wavelength of ...

Solution-Processed "Silver-Bismuth-Iodine" Ternary Thin Films for Lead-Free Photovoltaic Absorbers

समाधान-प्रसंस्कृत "सिल्वर-विस्मुट-आयोडीन" सीसा-मुक्त फोटोवोल्टिक अवशोषक के लिए त्रिगुट पतली फिल्मों

Bismuth-based hybrid perovskites are regarded as promising photo-active semiconductors for environment-friendly and air-stable solar cell applications. ...

Bio-inspired Polydopamine Surface Modification of Nanodiamonds and Its Reduction of Silver Nanoparticles

Nanodiamonds के जैव-प्रेरित Polydopamine सतह संशोधन और चांदी के नैनोकणों की कमी

Surface functionalization of nanodiamonds (NDs) is still challenging due to the diversity of functional groups on the ND surfaces. Here, we demonstrate a ...