Name: fabrication of surface acoustic wave devices on lithium niobate
Uploaded: 2020-06-18T13:00:00
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저자는 캘리포니아 대학과 UC 샌디에고의 NANO3 시설에 감사하여이 작업을 지원하는 기금과 시설을 제공했습니다. 이 작품은 국립 과학 재단 (그랜트 ECCS-1542148)에 의해 지원되는 국립 나노 기술 조정 인프라의 회원 UCSD의 샌디에고 나노 기술 인프라 (SDNI)에서 부분적으로 수행되었다. 여기에 제시 된 작품은 W.M. Keck 재단의 연구 보조금에 의해 관대하게 지원되었다. 저자는 또한 해군 연구 실 (그랜트 12368098을 통해)에 의해이 작품의 지원에 감사드립니다.

1. 리프트 오프 방법을 통해 SAW 장치 제조
<ol><li>4"(101.6 mm) LN 웨이퍼를 아세톤에 담그고, 이소프로필 알코올(IPA), 디워터(DIwater)를 5분 동안 초음파 처리 욕조에 넣고, 웨이퍼를 집어 들고질소(N2)가스로 표면건조를 날려 남은 디퍼를 제거하여 웨이퍼 용매 세척을 수행한다. 주의: 연기 후드에 아세톤과 IPA 몰입을 수행합니다. 흡입 및 IPA와 피부 접촉을 피하십시오. 아세톤으로 피부와 눈의...

<ol>
	<li>Ding, X., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Standing+surface+acoustic+wave+(SSAW)+based+multichannel+cell+sorting.">Standing surface acoustic wave (SSAW) based multichannel cell sorting.</a> Lab on a Chip. 12 (21), 4228-4231 (2012).</li><li>Langelier, S. M., Yeo, L. Y., Friend, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=UV+epoxy+bonding+for+enhanced+SAW+transmission+and+microscale+acoustofluidic+integration.">UV epoxy bonding for enhanced SAW transmission and microscale acoustofluidic integration.</a> Lab on a Chip. 12 (16), 2970-2976 (2012).</li><li>Rezk, A. R., Qi, A., Friend, J. R., Li, W. H., Yeo, L. Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Uniform+mixing+in+paper-based+microfluidic+systems+using+surface+acoustic+waves.">Uniform mixing in paper-based microfluidic systems using surface acoustic waves.</a> Lab on a Chip. 12 (4), 773-779 (2012).</li><li>Schmid, L., Weitz, D. A., Franke, T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Sorting+drops+and+cells+with+acoustics:+acoustic+microfluidic+fluorescence-activated+cell+sorter.">Sorting drops and cells with acoustics: acoustic microfluidic fluorescence-activated cell sorter.</a> Lab on a Chip. 14 (19), 3710-3718 (2014).</li><li>Schmid, L., Wixforth, A., Weitz, D. A., Franke, T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Novel+surface+acoustic+wave+(SAW)-driven+closed+PDMS+flow+chamber.">Novel surface acoustic wave (SAW)-driven closed PDMS flow chamber.</a> Microfluidics and Nanofluidics. 12 (1-4), 229-235 (2012).</li><li>Shi, J., Mao, X., Ahmed, D., Colletti, A., Huang, T. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Focusing+microparticles+in+a+microfluidic+channel+with+standing+surface+acoustic+waves+(SSAW).">Focusing microparticles in a microfluidic channel with standing surface acoustic waves (SSAW).</a> Lab on a Chip. 8 (2), 221-223 (2008).</li><li>Friend, J., Yeo, L. Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Microscale+acoustofluidics:+Microfluidics+driven+via+acoustics+and+ultrasonics.">Microscale acoustofluidics: Microfluidics driven via acoustics and ultrasonics.</a> Reviews of Modern Physics. 83 (2), 647 (2011).</li><li>Ding, X., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Surface+acoustic+wave+microfluidics.">Surface acoustic wave microfluidics.</a> Lab on a Chip. 13 (18), 3626-3649 (2013).</li><li>Destgeer, G., Sung, H. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Recent+advances+in+microfluidic+actuation+and+micro-object+manipulation+via+surface+acoustic+waves.">Recent advances in microfluidic actuation and micro-object manipulation via surface acoustic waves.</a> Lab on a Chip. 15 (13), 2722-2738 (2015).</li><li>Connacher, W., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Micro/nano+acoustofluidics:+materials,+phenomena,+design,+devices,+and+applications.">Micro/nano acoustofluidics: materials, phenomena, design, devices, and applications.</a> Lab on a Chip. 18 (14), 1952-1996 (2018).</li><li>White, R. M., Voltmer, F. 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두 방법 중 에서 제작된 SAW 장치는 표면에 유용한 이동 파를 생성할 수 있으며 이러한 방법은 다른 설계를 생성하기 위해 보다 복잡한 프로세스를 뒷받침합니다. 공진 주파수는 일반적으로 상단에 증착된 금속의 질량 하중 효과로 인해 설계된 값보다 약간 낮습니다. 그러나 문제를 피하기 위해 논의 할 가치가있는 몇 가지 사항이 여전히 있습니다.
리프트 오프 방법</stro...

원자 이폴이 전기장의 적용에 대응하는 변형을 생성하는 잘 알려진 역 압전 효과에 의존하여, 리튬 닐로바테 LiNbO3 (LN), 리튬 탄탈라이트 LiTaO 3 (LT)와 같은 압전 결정은,마이크로 스케일 응용1,2,,3,3 34,5, 5,마이크로스케일 응용 제품에 대한SAW를생성하는 전기 기계 변환기로 사용할 수 있습니다.6 10-1000 MHz에서 최대 1nm의 변위 발생을 가능하게 함으로써 SAW 구동 진동은 소형 가속, 대형 파장 및 대형 장치 크기와 같은 전통적인 초음파의 전형적인 장애물을 극복합니다. 유체 및 중단된 입자를 조작하기 위한 연구가 최근 가속화되었으며,7최근7, 8,8,9,,10에대한 많은 수의 리뷰가 있습니다.
SAW 통합 미세 유체 장치의 제조는 SAW를 생성하기 위해 압전 기판에 있는 디지털 트랜스듀서(IDT) 11)인전극의 제조가 필요합니다. 빗 모양의 손가락은 교대전기 입력에 연결하면 기판의 압축과 장력을 생성합니다. SAW 장치의 제조는 금속 스퍼터 또는 습식 에칭공정(10)과함께 리프트 오프 자외선 광석 촬영을 사용하든 많은 간행물에 제시되었다. 그러나 이러한 장치를 제작하는 데 있어 지식과 기술이 부족한 것은 오늘날에도 많은 연구 그룹이 유수 학적 유체학에 진입하는 데 핵심 적인 장벽입니다. 리프트오프기술(12,,13,,14)의경우, 역패턴을 가진 희생층(photoresist)이 표면에 생성되어, 대상 재료(metal)가 전체 웨이퍼에 증착될 때, 원하는 부위의 기판에 도달할 수 있고, 나머지 사진 저항을 제거하는 "리프트오프" 단계. 대조적으로, 습식 에칭공정(15,,16,,17,,18)에서금속은 먼저 웨이퍼에 증착된 다음, 포토레지스트는 금속에 직접 패턴으로 생성되어 금속 에탕트에 의해 원하는 영역을 "에칭"으로부터 보호한다.
가장 일반적으로 사용되는 설계에서, 직선 IDT, SAW 장치의 공진 주파수의 파장은 손가락 쌍의 주기성에 의해 정의되며, 손가락 너비와 손가락 사이의 간격은 모두 <img align="center" alt="Equation" src="/files/ftp_upload/61013/61013eq2.jpg"> /419이다. 기판에 대한 전류 전송 효율과 질량 하중 효과의 균형을 맞추기 위해, 압전 재료에 증착된 금속의 두께는 SAW파장(20)의약 1%로 최적화된다. 오믹손실(21)의국산 가열은 조기 손가락 고장을 유발할 수 있으며, 금속이 부족하면 발생할 수 있다. 한편, 지나치게 두꺼운 금속 필름은 대량 적재 효과로 인해 IDT의 공진 주파수를 감소시킬 수 있으며, IDT로부터 의도하지 않은 음향 캐비티를 생성할 수 있으며, 주변 기판에서 발생하는 음향 파를 분리할 수 있다. 그 결과, 선택한 포토레지스트 및 UV 노출 파라미터는 SAW 장치의 다양한 설계, 특히 주파수에 따라 리프트 오프 기술에 따라 다릅니다. 여기서는 양면 연마 된 0.5mm 두께의 128 ° Y 회전 컷 LN 웨이퍼에 100 MHz SAW 생성 장치를 생산하는 리프트 오프 프로세스뿐만 아니라 동일한 디자인의 100 MHz 장치를 제작하는 젖은 에칭 공정을 자세히 설명합니다. 우리의 접근 방식은 다양한 물리적 인 문제와 생물학적 응용 프로그램의 조사를 가능하게하는 미세 유체 시스템을 제공합니다.

<table border="1" fo:keep-together.within-page="1" fo:keep-with-next.within-page="always">
	<tbody>
		<tr>
			<td>Absorber</td>
			<td>Dragon Skin, Smooth-On, Inc., Macungie, PA, USA</td>
			<td>Dragon Skin 10 MEDIUM</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Amplifier</td>
			<td>Mini-Circuits, Brooklyn, NY, USA</td>
			<td>ZHL&#8211;1&#8211;2W&#8211;S+</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Camera</td>
			<td>Nikon, Minato, Tokyo, Japan</td>
			<td>D5300</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Chromium etchant</td>
			<td>Transene Company, INC, Danvers, MA, USA</td>
			<td>1020</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Developer</td>
			<td>Futurrex, NJ, USA</td>
			<td>RD6</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Developer</td>
			<td>EMD Performance Materials Corp., Philidaphia, PA, USA</td>
			<td>AZ300MIF</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Dicing saw</td>
			<td>Disco, Tokyo, Japan</td>
			<td>Disco Automatic Dicing Saw 3220</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Gold etchant</td>
			<td>Transene Company, INC, Danvers, MA, USA</td>
			<td>Type TFA</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Hole driller</td>
			<td>Dremel, Mount Prospect, Illinois</td>
			<td>Model #4000</td>
			<td>4000 High Performance Variable Speed Rotary</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Inverted microscope</td>
			<td>Amscope, Irvine, CA, USA</td>
			<td>IN480TC-FL-MF603</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Laser Doppler vibrometer (LDV)</td>
			<td>Polytec, Waldbronn, Germany</td>
			<td>UHF-120</td>
			<td>4&#8221; double-side polished 0.5 mm thick 128&#176;Y-rotated cut lithium niobate</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Lithium niobate substrate</td>
			<td>PMOptics, Burlington, MA, USA</td>
			<td>PWLN-431232</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Mask aligner</td>
			<td>Heidelberg Instruments, Heidelberg, Germany</td>
			<td>MLA150</td>
			<td>Fabrication process is performed in it.</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Nano3 cleanroom facility</td>
			<td>UCSD, La Jolla, CA, USA</td>
			<td></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Negative photoresist</td>
			<td>Futurrex, NJ, USA</td>
			<td>NR9-1500PY</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Oscilloscope</td>
			<td>Keysight Technologies, Santa Rosa, CA, USA</td>
			<td>InfiniiVision 2000 X-Series</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Positive photoresist</td>
			<td></td>
			<td>AZ1512</td>
			<td>Denton Discovery 18 Sputter System</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Signal generator</td>
			<td>NF Corporation, Yokohama, Japan</td>
			<td>WF1967 multifunction generator</td>
			<td>Wafer Dipper 4&#34;</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Sputter deposition</td>
			<td>Denton Vacuum, NJ, USA</td>
			<td>Denton 18</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Teflon wafer dipper</td>
			<td>ShapeMaster, Ogden, IL, USA</td>
			<td>SM4WD1</td>
			<td></td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

fabrication of surface acoustic wave devices on lithium niobate

작은 규모의 음향 작동에 의한 유체 및 입자를 조작하면 랩 온 어칩 애플리케이션의 급속한 성장을 돕고 있습니다. Megahertz 주문 표면 음향 파 (SAW) 장치는 표면에 엄청난 가속을 생성, 최대 108 m/s2,차례로 acoustofluidics를 정의하기 위해 온 관찰 효과의 많은 책임: 음향 스트리밍 및 음향 방사선 힘. 이러한 효과는 마이크로 스케일에서 입자, 세포 및 유체 처리에 사용되었으며 나노 스케일에서도 사용되었습니다. 이 논문에서 우리는 명시적으로 리튬 niobate에 SAW 장치의 두 가지 주요 제조 방법을 보여줍니다 : 리프트 오프 및 젖은 에칭 기술의 세부 사항은 단계별로 설명된다. 기판에 증착된 전극 패턴에 대한 대표적인 결과와 표면에 생성된 SAW의 성능은 상세히 표시됩니다. 제작 트릭과 문제 해결도 적용됩니다. 이 절차는 향후 미세 유체 화 응용 프로그램에 대한 고주파 SAW 장치 제조 및 통합을위한 실용적인 프로토콜을 제공합니다.

측정할 IDT는 손가락 너비와 간격이 10μm이기 때문에 100MHz에서 공진 주파수를 갖도록 설계되어 40 μm의 파장을 생성합니다. 도 1은 이 방법을 사용하여 제조된 SAW 장치 및 IDT를 나타낸다.
IDT의 공진 주파수와 일치하는 진동 전기 신호를 사용하여, SAW는 압전 물질의 표면을 통해 생성될 수 있다. LDV는 표면에 도플러 효과를 통해 진동을 측정하고, 신호 처리를 통해 진?...

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Fabrication of Surface Acoustic Wave Devices on Lithium Niobate

두 가지 제조 기술, 리프트 오프 및 습식 에칭, 압전 기판에 디지털 전극 변환기를 생산에 설명, 리튬 niobate, 널리 표면 음향 파를 생성하는 데 사용되는 나노 스케일 유체에 마이크로에서 광범위한 유틸리티를 찾는. 생산된 전극은 레일리 표면 음향파를 효율적으로 유도하는 것으로 나타났다.

리튬 니오바테에 표면 음향 파 장치의 제조

Manipulation of fluids and particles by acoustic actuation at small scale is aiding the rapid growth of lab-on-a-chip applications. Megahertz-order ...

우리의 프로토콜은 압전 기판에 전형적인 표면 음향 파 장치를 제작하는 세부 사항을 보여줍니다 특히이 급성장하는 필드에 들어가려는 사람들에게 특히 가치. 청소 하는 동안 표면에서 멀리 파편을 유지 하는 것은 제조 과정에서 중요 한. 웨이퍼를 미리 분해하려면 3분 동안 섭씨 100도의 핫플레이트에 놓습니다.그런 다음 웨이퍼를 알루미늄 호일로 옮습니다. 웨이퍼를 스핀 코터에 놓습니다. 드롭퍼를 사용하여, 웨이퍼 표면적의 약 75 %를 커버 웨이퍼에 네거티브 포토 레지스트를 배치합니다.약 1.3 마이크로미터의 포토레지스트 두께를 생성하려면 스핀 코트:500 rpm에서 5초 동안 초당 3, 000 rpm의 가속을 실행한 다음 3, 500 rpm의 가속을 40초 동안 초당 3, 000rpm으로 실행합니다. 100도의 핫플레이트에 놓고 웨이퍼를 굽습니다. 핫플레이트 온도를 섭씨 150도로 높이고 1분간 온도를 유지합니다.그런 다음 웨이퍼를 핫플레이트에서 이동하고 웨이퍼가 공기 중에서 실온으로 식힙니다. 웨이퍼를 150°C의 핫플레이트에 직접 놓지 마십시오. 가열 후 물을 공기중으로 식힙니다.자외선 에너지에 포토레지스트를 노출하려면 웨이퍼를 마스크 정렬기로 옮춥시다. 마스크 정렬기를 사용하여 375 나노미터에서 빛을 전달하도록 설정하면 평방 센티미터당 400 밀리줄의 에너지 용량에 포토 레지스트를 노출하십시오. 웨이퍼를 구우려면 섭씨 100도의 핫플레이트에 놓습니다.3분 후 웨이퍼를 알루미늄 호일로 옮기면 실온으로 냉각됩니다. 웨이퍼를 순수 RD6 개발자로 가득 찬 비커에 넣습니다. 웨이퍼를 15초 동안 담그고 비커를 부드럽게 흔들어 둡니다.개발자의 웨이퍼를 제거하고 1 분 동안 탈온 된 물에 담급하십시오. 그런 다음 산화 된 물 흐름에서 웨이퍼를 헹구는 것입니다. 마지막으로, 마른 질소 흐름을 사용하여 웨이퍼에서 남은 물을 제거합니다.섭씨 100도에서 다시 물을 굽습니다. 3분 후 웨이퍼를 알루미늄 호일로 옮기면 실온으로 냉각됩니다. 웨이퍼를 스퍼터 증착 시스템에 넣고 챔버를 5회 10번의 압력으로 대두하여 음수 6밀리터로 대피합니다.다음으로, 2.5 밀리토르에서 우량 아르곤. 그런 다음 접착층으로 5 나노미터에 대해 200 와트의 힘으로 스퍼터 크롬을 넣습니다. 전도성 전극을 형성하려면 알루미늄을 400 나노미터및 300와트의 전력 레벨로 증착합니다.웨이퍼를 비커로 옮기고 아세톤에 담가 두습니다. 비커를 중간 강도로 5분간 초음파 처리합니다. 웨이퍼를 탈온화된 물로 헹구고 질소 흐름으로 웨이퍼를 건조시다.웨이퍼를 핫플레이트에 섭씨 100도에서 3분간 놓습니다. 그런 다음 알루미늄 호일 조각에 옮기고 실온으로 냉각 될 때까지 기다립니다. 웨이퍼를 스퍼터 증착 시스템에 넣고 챔버를 5회 10번의 압력으로 대두하여 음수 6밀리터로 대피합니다.2.5 밀리토르에서 우어를 흘린 다음 접착층으로 5 나노미터에 대해 200 와트의 힘으로 스퍼터 크롬을 스퍼터로 플로우합니다. 다음으로, 300와트의 전력 수준에서 400 나노미터에 대한 금을 스퍼터링하여 전도성 전극을 형성한다. 웨이퍼를 스핀 코터에 놓습니다.드롭퍼를 사용하여 웨이퍼 표면적의 약 75%를 덮고 있는 웨이퍼에 양포 포토레지스트를 증착합니다. 약 1.2 마이크로미터의 포토레지스트 두께를 생성하려면 스핀 코트:500 rpm에서 10초 동안 초당 3, 000 rpm의 가속을 실행하고 30초 동안 초당 3, 000 rpm의 가속을 기록합니다. 그런 다음 웨이퍼를 핫플레이트에 섭씨 100도에 놓습니다.1분 후 웨이퍼를 알루미늄 호일로 옮기면 실온으로 냉각됩니다. 웨이퍼를 마스크 정렬기로 옮춥시다. 마스크 리정렬러는 375나노미터의 빛을 전달하도록 설정되어 있으며, 평방 센티미터당 150 밀리줄의 에너지 용량에 포토레지스트를 노출합니다.웨이퍼를 순수 AZ300MIF 개발자로 가득 찬 비커에 넣습니다. 비커에 웨이퍼를 300초 동안 부드럽게 흔들어 둡니다. 개발자의 웨이퍼를 제거하고 1 분 동안 물을 담급하십시오.그런 다음 분산 된 흐름에서 웨이퍼를 헹구는 것입니다. 마지막으로, 마른 질소 흐름을 사용하여 웨이퍼에서 남은 물을 제거합니다. 다음으로 웨이퍼를 90초 동안 골드 에트챈트에 담그고 비커를 부드럽게 흔들어 보냅니다.탈온화 된 물 흐름에서 웨이퍼를 헹구고, 웨이퍼에서 나머지 탈온 된 물을 제거하기 위해 건조 질소 흐름을 사용합니다. 아세톤, 포토레지스트, 개발자 외에도 가장 위험한 시약은 네오프렌 장갑과 앞치마와 같은 높은 수준의 보호가 필요한 금속 작업입니다. 마지막으로 웨이퍼를 크롬 에트에 20초 동안 담그고 비커를 부드럽게 흔들어 보냅니다.웨이퍼를 탈온화된 물 흐름 하에서 헹구는 다. 그리고 다시, 나머지 물을 제거하기 위해 건조 질소 흐름을 사용합니다. ID는 설명된 방법을 사용하여 제작되었다.손가락과 손가락 자체 사이의 간격은 모두 폭이 10 마이크로미터이며, 그 결과 파장 40 마이크로미터가 됩니다. 부비동성 신호가 IDT에 적용되었고 레이저 도플러 진동계는 생성된 표면 음향파의 진폭 및 주파수를 측정하는 데 사용되었다. 공명 주파수는 96.5844 메가헤르츠로 나타났으며, 100메가헤르츠의 설계 빈도보다 약간 낮은 것으로 나타났다.기판 표면의 진동 플롯은 IDT에서 전파되는 표면 음향 파를 보여줍니다. 최대 진폭과 최소 진폭 사이의 비율을 기준으로 서파 비율은 2.06으로 계산되었습니다. SAW 장치에 의해 작동되는 세실 액적의 움직임이 입증되었다.0.2 마이크로리터의 물방울은 IDT에서 약 1밀리미터 떨어진 리튬 니오바테에 파이펫처리되었습니다. SAW가 전파하여 물방울을 마주하면 레일리 각도에서 액체로 누출됩니다. 제팅 각도는 표면 음향 파의 존재를 확인합니다.이러한 기술은 메가 헤르츠 또는 표면 음향 파 장치의 제조에 사용할 수 있습니다. 고주파 음향파 액추에이터가 필요한 경우 공정을 조정해야 합니다. 이 프로토콜은 마이크로 나노 스케일 acoustofluidics 연구에 사용되는 고주파 표면 음향 파 장치를 준비하기위한 두 가지 신뢰할 수있는 방법을 제공합니다.

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Engineering

Unit 1

Waves

SCIENTISTS IN ACTION

Fabrication, Operation and Flow Visualization in Surface-acoustic-wave-driven Acoustic-counterflow Microfluidics

표면 음향 파 중심의 어쿠스틱 역류 미세 유체의 제조, 운영 및 유동 가시화

Surface acoustic waves (SAWs) can be used to drive liquids in portable microfluidic chips via the acoustic counterflow phenomenon. In this video we ...

연구

공학

Fabrication of Gate-tunable Graphene Devices for Scanning Tunneling Microscopy Studies with Coulomb Impurities

쿨롱 불순물 스캐닝 터널링 현미경 연구 게이트 - 조정 가능한 그래 핀 장치의 제작

Owing to its relativistic low-energy charge carriers, the interaction between graphene and various impurities leads to a wealth of new physics and degrees ...

Fabrication and Operation of Acoustofluidic Devices Supporting Bulk Acoustic Standing Waves for Sheathless Focusing of Particles

제조 및 Acoustofluidic 장치의 작동은 입자의 초점 쉬스에 대한 대량 음향 서 파도 지원

Acoustophoresis refers to the displacement of suspended objects in response to directional forces from sound energy. Given that the suspended objects must ...

Fabrication of Fully Solution Processed Inorganic Nanocrystal Photovoltaic Devices

완전 해결 가공 된 무기 나노 결정 태양 광 발전 장치의 제작

We demonstrate a method for the preparation of fully solution processed inorganic solar cells from a spin and spray coating deposition of nanocrystal ...

Solvent Bonding for Fabrication of PMMA and COP Microfluidic Devices

PMMA의 제조 및 COP 미세 유체 장치에 대한 솔벤트 본딩

Thermoplastic microfluidic devices offer many advantages over those made from silicone elastomers, but bonding procedures must be developed for each ...

Experimental Implementation of a New Composite Fabrication Method: Exposing Bare Fibers on the Composite Surface by the Soft Layer Method

새로운 복합 제조 방법의 실험적 구현: 소프트 레이어 방법으로 복합 표면에 벌 거 벗은 섬유 노출

The bipolar plate is a key component in proton exchange membrane fuel cells (PEMFCs) and vanadium redox flow batteries (VRFBs). It is a multi-functional ...

Focused Ion Beam Fabrication of LiPON-based Solid-state Lithium-ion Nanobatteries for In Situ Testing

Focused Ion Beam Fabrication of LiPON-based Solid-state Lithium-ion Nanobatteries for In Situ Testing

집중 된 이온 빔 제작 현장에서 테스트 LiPON 기반 고체 리튬-이온 Nanobatteries

Solid-state electrolytes are a promising replacement for current organic liquid electrolytes, enabling higher energy densities and improved safety of ...

Flow-assisted Dielectrophoresis: A Low Cost Method for the Fabrication of High Performance Solution-processable Nanowire Devices

흐름 기반 Dielectrophoresis: 고성능 솔루션 처리 나노와이어 소자의 제조에 대 한 낮은 비용 방법

Flow-assisted dielectrophoresis (DEP) is an efficient self-assembly method for the controllable and reproducible positioning, alignment, and selection of ...

Atmospheric Pressure Fabrication of Large-Sized Single-Layer Rectangular SnSe Flakes

단일 레이어 사각형 SnSe 대형 조각의 대기압 제조

Tin selenide (SnSe) belongs to the family of layered metal chalcogenide materials with a buckled structure like phosphorene, and has shown potential for ...

Fabrication of Flexible Image Sensor Based on Lateral NIPIN Phototransistors

측면 NIPIN 포토 트랜지스터에 따라 유연한 이미지 센서의 제조

Flexible photodetectors have been intensely studied for the use of curved image sensors, which are a crucial component in bio-inspired imaging systems, ...