首先，从喷枪上取下铝制护罩并将目标材料放在盖子的中心。牢固地拧紧磁控管支架上的盖子并重新安装铝制屏蔽罩。用铝箔包裹腔体、喷枪和样品架。
使用万用表检查腔体、腔体和枪以及腔体和目标之间的分类电路。然后关上门，在腔室中开始吸尘过程 15 到 30 分钟。在吸尘开始时，用力将门和机身压在一起，以确保紧密密封。
监控压力表以确认压力下降。现在激活冷却器系统并将其设置为 15 摄氏度。打开泵和制冷按钮，打开连接到溅射仪表的阀门。
现在将氩气流量调整到每分钟四标准立方厘米，并激活气体拨动开关。将转速设置为 10 RPM，然后打开旋转拨动开关。按电源键激活自动匹配网络控制器和射频电源。
在自动匹配的网络控制器上，使用最小/最大按钮，调整负载并调谐到每个 50%。然后将模式从手动切换到自动。在射频电源上，将射频功率设置为 50 瓦，然后按下启动按钮。
将计时器设置为 15 分钟。然后关闭射频电源和旋转。将 argonne 流量设置为零并关闭拨动开关。
之后，关闭真空吸尘器。确保在对腔室进行排气之前关闭涡轮分子泵，以防止损坏。接下来，打开腔室并将准备好的基材加载到旋转样品架的外角，以实现最佳沉积。
关闭腔室门并吸尘至少六个小时。如前所述激活冷却器系统并打开连接到溅射仪器的阀门。如前所述，设置转速氩气流自动匹配网络控制器和射频。
按下开始按钮，然后检查腔室是否存在等离子体。每 10 秒将射频功率增加 5 瓦，直到达到 75 瓦。将计时器设置为 60 分钟 之后，关闭射频电源和旋转系统。
同时关闭自动匹配网络控制器和射频电源。将氩气流量调整为零并关闭气体拨动开关。然后关闭真空吸尘器并通风腔室以打开它。
使用镊子从腔室中取出所有样品，并将它们放入干净的培养皿中。清洁腔室并吸尘 10 到 15 分钟，以保持无杂质的真空状态。
