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20.19 : 라디칼 치환: 알릴염소화

일반적으로 알켄이 저온에서 할로겐과 반응하면 첨가 반응이 발생합니다. 그러나 온도를 높이거나 라디칼을 형성하는 반응 조건에서 낮지만 일정한 농도의 할로겐 라디칼이 주어지는 경우 알릴 치환 반응이 선호됩니다. 이는 형성된 중간체가 공명 안정화되면서 알릴 수소가 매우 반응성이 있기 때문입니다. 예를 들어, 프로펜을 400°C에서 기체상 염소로 처리하면 알릴 염소화 반응을 거쳐 3-클로로프로펜이 생성됩니다.

알릴 염소화의 라디칼 치환 반응은 알칸 할로겐화와 유사한 사슬 메커니즘을 따르며 개시, 전파 및 종결 단계를 포함합니다. 개시 단계에는 염소 분자가 두 개의 염소 원자로 해리되는 과정이 포함됩니다. 전파 단계에는 두 가지 체인 전파 단계가 포함됩니다. 첫 번째 사슬 전파 단계에서 염소 원자는 알릴성 수소 원자를 추출하여 공명 안정화된 알릴-라디칼 중간체를 형성합니다. 두 번째 사슬 전파 단계에서 알릴 라디칼 중간체는 염소 분자와 반응하여 염화 알릴과 염소 원자를 형성합니다. 두 번째 사슬 전파 단계에서 형성된 염소 원자는 알릴 수소를 추가로 추출하여 반응을 전파합니다. 종료 단계에서는 라디칼이 서로 반응하여 비라디칼 생성물을 형성하고 반응을 중지합니다.

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Radical SubstitutionAllylic ChlorinationAlkenesHalogensAddition ReactionResonance StabilizationChain MechanismInitiation StepPropagation StepTermination StepChlorine MoleculeAllylic Radical IntermediateAllyl Chloride

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