A subscription to JoVE is required to view this content. Sign in or start your free trial.
Крупномасштабный контроль образцов с наноразмерным разрешением имеет широкий спектр применения, особенно для наноготовых полупроводниковых пластин. Атомно-силовые микроскопы могут быть отличным инструментом для этой цели, но они ограничены скоростью визуализации. В этой работе используются параллельные активные консольные массивы в АСМ для обеспечения высокой пропускной способности и крупномасштабных проверок.
Атомно-силовой микроскоп (АСМ) является мощным и универсальным инструментом для наноразмерных исследований поверхности для получения 3D-изображений топографии образцов. Однако из-за ограниченной пропускной способности АСМ не получили широкого распространения для крупномасштабных инспекций. Исследователи разработали высокоскоростные системы АСМ для записи видео динамических процессов химических и биологических реакций с частотой в десятки кадров в секунду за счет небольшой площади изображения до нескольких квадратных микрометров. Напротив, для контроля крупномасштабных наноструктур, таких как полупроводниковые пластины, требуется наноразмерная визуализация статического образца с пространственным разрешением на сотнях квадратных сантиметров с высокой производительностью. В обычных АСМ используется один пассивный консольный зонд с оптической системой отклонения луча, который может собирать только один пиксель за раз во время АСМ-визуализации, что приводит к низкой пропускной способности. В этой работе используется массив активных консолей со встроенными пьезорезистивными датчиками и термомеханическими приводами, что позволяет одновременно работать в нескольких кантилеверах параллельно для повышения производительности визуализации. В сочетании с нанопозиционерами большого радиуса действия и соответствующими алгоритмами управления каждым кантилевером можно управлять индивидуально для получения нескольких АСМ-изображений. С помощью алгоритмов постобработки на основе данных изображения могут быть сшиты вместе, а обнаружение дефектов может быть выполнено путем сравнения их с желаемой геометрией. В этом документе представлены принципы пользовательской АСМ с использованием активных консольных решеток, за которыми следует обсуждение практических соображений эксперимента для применения в инспекционных приложениях. Выбранные примеры изображений кремниевой калибровочной решетки, высокоориентированного пиролитического графита и масок для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне получены с помощью массива из четырех активных консолей («Quattro») с расстоянием между зондами 125 мкм. Благодаря большей инженерной интеграции этот высокопроизводительный крупномасштабный инструмент визуализации может предоставлять 3D-метрологические данные для масок в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV), химико-механической планаризации (CMP), анализа отказов, дисплеев, тонкопленочных ступенчатых измерений, матриц для измерения шероховатости и канавок для сухих газовых уплотнений с лазерной гравировкой.
Атомно-силовые микроскопы (АСМ) могут получать 3D-изображения топографии с наноразмерным пространственным разрешением. Исследователи расширили возможности АСМ для создания карт свойств образцов в механической, электрической, магнитной, оптической и тепловой областях. В то же время повышение пропускной способности визуализации также находится в центре внимания исследований по адаптации АСМ к новым экспериментальным потребностям. Существует две основные области применения высокопроизводительной АСМ визуализации: первая категория - это высокоскоростная визуализация небольшой области для регистрации динамических изменений в образце, вызванных биологическими или химическим....
1. Подготовка образцов для крупномасштабного контроля
Чтобы продемонстрировать эффективность АСМ широкодиапазонной визуализации с использованием параллельных активных кантилеверов для получения топографической визуализации, на рисунке 2 показаны сшитые изображения калибровочной решетки, сделанные четырьмя кантилеве.......
Как показано в репрезентативных результатах, активная консольная матрица может быть использована для параллельного захвата нескольких изображений статического образца. Эта масштабируемая установка может значительно повысить производительность визуализации образцов большой площа.......
Конфликт интересов у авторов отсутствует.
Авторы Иво В. Ранглоу и Томас Заттель выражают благодарность Федеральному министерству образования и научных исследований Германии (BMBF) и Федеральному министерству экономики и борьбы с изменением климата Германии (BMWK) за поддержку части представленных методов путем финансирования проектов FKZ:13N16580 «Активные зонды с алмазным наконечником для квантовой метрологии и нанопроизводства» в рамках исследовательского направления KMU-innovativ: «Фотоника и квантовые технологии» и KK5007912DF1 «Конъюнктивный нанопозиционер-сканер для быстрых и крупных метрологических задач в атомно-силовой микроскопии» в рамках Центральной инновационной программы для малых и средних пре....
Name | Company | Catalog Number | Comments |
Active-Cantilever | nano analytik GmbH | AC-10-2012 | AFM Probe |
E-Beam | EBX-30, INC | 012323-15 | Mask patterning instrument |
Highly Oriented Pyrolytic Graphite – HOPG | TED PELLA, INC | 626-10 | AFM calibration sample |
Mask Sample | Nanda Technologies GmbH | Test substrate | EUV Mask Sample substrate |
NANO-COMPAS-PRO | nano analytik GmbH | 23-2016 | AFM Software |
nanoMetronom 20 | nano analytik GmbH | 1-343-2020 | AFM Instrument |
Request permission to reuse the text or figures of this JoVE article
Request PermissionExplore More Articles
This article has been published
Video Coming Soon
ABOUT JoVE
Copyright © 2025 MyJoVE Corporation. All rights reserved