首先在50毫升烧杯中制备石墨烯蚀刻溶液。为此,在烧杯中的 20 毫升分子级水中加入 4.6 克每硫酸铵或 APS。用铝箔覆盖它,让 APS 完全溶解。
为了制备用于MMA涂层的CVD石墨烯部分,请小心地切割石墨烯的方形部分。将切片转移到干净培养皿中的盖玻片上,并盖上培养皿以将其运送到旋转编码器。接下来,将旋转编码器设置为每分钟 60 转 2, 500 次的高速旋转。
小心地将CVD石墨烯部分转移到适当尺寸的卡盘上。按下吸收或吸收按钮接合真空泵并将石墨烯固定在卡盘上。然后将MMA施加到CVD石墨烯正方形的中心。
盖上盖子。拉动真空吸尘器并立即按下启动或停止按钮。松开真空泵后,一旦旋转停止,使用镊子小心地取回MMA涂层的CVD石墨烯。
将石墨烯倒置,使涂层面朝下,然后将其放回玻璃盖玻片上。接下来,使用扁平镊子,将盖玻片上的CVD石墨烯转移到辉光放电器中,并在25毫安下辉光放电30秒。将盖玻片上的石墨烯放回培养皿中。
最后,盖上盖子,将其运送到铜蚀刻区域。