我们的协议提供了一种技术，用于定制纳米粒子分布，在基材上制造，同时改变露水动力学，同时不改变材料厚度。我们的技术很简单，但仍然提供一系列颗粒大小。其他技术需要大量的光图步骤来提供粒子控制。
我们对粒子分布的控制为纳米粒子制造提供了一种技术，有利于专注于太阳能转换、创建光子器件和增加数据存储密度的研究。密切注意每个步骤的沉积厚度。我们的技术对层厚度非常敏感。
查看所执行的实验提供了无法以打印方式传达的细节级别。查看在整个过程中移动的示例至关重要。首先，使用丙酮冲洗，在硅基板上清洁100纳米的二氧化硅，然后进行异丙醇冲洗。
使用氮气流干燥基材。将基板装入热蒸发器系统，并排空腔室，以达到金属膜沉积所需的压力。确保将腔室疏散到 10 到负 6 托的阶下的压力，以便清除腔室中的空气和水蒸气。
使用热蒸发器系统，将金膜沉积在所需的厚度，即本实验中的五纳米。在第二个沉积阶段，砷压为1至5毫托雷，当选择不同的压力来校准沉积速率时，给出范围。我们的技术对薄膜厚度非常敏感，如我们的结果所示。
在沉积薄膜之前校准沉积速率至关重要，以确保适当的厚度。沉积后，从热蒸发器系统中排出腔室，用沉积的金属薄膜将基板拆下。接下来，用沉积的金属薄膜将基板装载到直流磁化溅射沉积系统中，并排空，以达到封盖膜沉积所需的压力。
要在系统中定位样品，请将样品放入负载锁中。该装置将样品转移到主沉积室，以确保有足够的真空水平。现在，按照与金层沉积类似的程序和条件，沉积所需材料和厚度的封顶层。
使用可变厚度 Illumina，在这种情况下。沉积后，排出腔室，并从溅射沉积系统中取出准备好的样品。将五纳米金膜（用 Illumina 盖住）放在 300 摄氏度的预热热板上，让样品露水一小时。
蚀刻光照，同时离开黄金和底层基质与水溶液氢氧化铵和过氧化氢在80摄氏度一个小时。为表征，通过冲洗丙酮和异丙醇，使样品与真空兼容。然后，使用氮气流干燥样品。
在高真空和高放大倍数下使用扫描电子显微镜对纳米粒子薄膜进行成像。执行图像分析以获取有关纳米粒子尺寸和间距分布的信息。此处描述的协议已用于多种金属，并表明能够在基材上大面积生产纳米粒子，具有可控的尺寸和间距。
此处显示了具有代表性的结果，并突出了控制制造纳米粒子尺寸和间距的能力。制造纳米颗粒膜的大小和间距分布将取决于金属、基板、封顶层材料、金属厚度和封盖层厚度。例如，二氧化硫上的五纳米金膜，氧化铝封顶层厚度为零、五、十、二十纳米，平均纳米颗粒半径为14.2、18.4、17.3和15.6纳米。
非粒子平均间距为36.9、56.9、51.3和47.2纳米。对于所需的颗粒分布，精确控制沉积层厚度至关重要。根据纳米粒子薄膜的应用，可能需要进行更多的表征。
这将包括基于应用的测量，如光吸收和磁性特性。纳米粒子薄膜的应用研究可以采用这种技术，控制其颗粒大小和分布。应佩戴适当的个人防护装备。
特别是不要接触蚀刻。避免与热板接触。
