SDJ agradece el apoyo de la Asociación Americana para la Educación en Ingeniería / NRL Programa de Becas Postdoctorales, discusiones con Konrad Bussmann (NRL) y Mingzhong Wu (Universidad del Estado de Colorado) sobre las propiedades magnéticas de los materiales, y Ron Holm (NRL) por su participación en el diseño e implementación del sistema de AD NRL.

1. Preparación Powder <ol><li> Tamizar hierro granate (YIG) en polvo de itrio como se recibió, para obtener 100 a 150 g de aglomerados de tamaño inferior a 53 micras. </li><li> Coloque el polvo tamizado en un horno para secar durante al menos 24 horas a una temperatura mayor que 300 ° C. </li></ol> 2. Preparación del soporte <ol><li> Limpiar un sustrato de tamaño deseado, por ejemplo, 3 mm x 3 mm usando acetona entonces isopropanol. Seque el uso de gas nitrógeno. </li></ol> 3. Realización de aerosol La deposición <ol><li> Montar la muestra a la fase de montaje de la traducción. <ol><li> Coloque la cinta de doble cara de cobre a la fase de montaje. Coloque el sustrato limpiado en la cinta de cobre. </li><li> Mida la distancia desde el borde de la etapa de montaje a cada borde de la muestra. Registre la dimensiones y muestra la posición en la hoja de la historia de la muestra. </li><li> Compruebe que la etapa de montaje está alineado en paralelo con el cuerpo de la moto traducciónr midiendo la distancia desde el borde de la etapa de montaje hasta el borde del cuerpo del motor con pinzas. Cargar la muestra en la cámara de deposición. </li><li> Abrazadera de la brida para sellar la cámara de deposición. Conecte los 3 cables del controlador D-sub de 15 pines para los motores de traducción. </li></ol></li><li> Cargue el polvo y cerrar la cámara de aerosol. <ol><li> Quite el polvo seco del horno y colóquelo en la sección inferior cámara de aerosol. Deslice el filtro de-obstrucción varilla de fijación en el filtro varilla de-obstrucción. </li><li> Coloque el cuerpo principal de la cámara de aerosol sobre la sección de fondo de la cámara de aerosol. Deje que el filtro de datos adjuntos de-obstrucción barra descanse sobre la placa de agitación como el cuerpo principal está unida a la sección inferior. </li><li> Sujetar el cuerpo principal a la sección inferior. Coloque el medidor de presión de la cámara de aerosol para el puerto lateral en el cuerpo principal de la cámara de aerosol. </li><li> Sujete la sección de entrada de la boquilla al puerto superior en el cuerpo principal of la cámara de aerosol usando una pinza QF. Elevar el tubo de entrada de la boquilla al orificio de entrada en la cámara de deposición y asegurar el montaje superior e inferior. </li><li> Anote los números de identificación de polvo y de cámara de aerosol en la hoja de la historia de la muestra. </li></ol></li><li> Encienda la bomba de desbaste con ella aislado del resto del sistema. Encienda la lámpara de iluminación cámara de deposición. Abrir la válvula de constricción en la línea de derivación para comenzar la bomba hacia abajo de todo el sistema. </li><li> Configuración del software de control de la presión con la identificación de ejecución deposición. </li><li> Ejecute la macro creador controlador etapa escribiendo &#39;pitrans&#39; en la ventana de terminal de línea de comandos y escriba la información solicitada. Crear una nueva hoja en la hoja de cálculo registro de ejecución y registrar los parámetros de deposición y notas de configuración. </li><li> Después de la presión del sistema ha alcanzado aproximadamente 150 a 200 Torr, abrir ligeramente la válvula restricciones de ninguna clase. Mantener una velocidad de bombeo de aproximadamente 1 Torr / seg. Una vez ªpresión e ha caído por debajo de 100 Torr iniciar el software de control de la presión y el software de controlador de motor etapa de traducción. </li><li> Una vez que se ha alcanzado la presión del sistema aproximadamente 1 Torr cerrar las tres válvulas de la línea de bypass y abra la válvula de bombeo principal. Apriete la abrazadera de la tapa superior de la cámara de deposición. </li><li> Encienda la bomba de ventilador. Abra la ultra-alta pureza (UHP) de cilindro de gas nitrógeno. Monitor de la presión y registrar la presión base del sistema (por lo general alcanza 15 a 25 mTorr). </li><li> Ajuste la distancia entre la boquilla y el sustrato. Utilice la ventana de la interfaz gráfica de usuario de software controlador etapa para mover el sustrato montado sobre la boquilla. Baje el sustrato hasta que contacta la boquilla. Mueva el sustrato 7,5 mm en la dirección vertical desde esta posición. </li><li> Cierre de la línea principal de bombeo y controlar la tasa de fugas del sistema en el software de control de presión. Tenga en cuenta la tasa de fuga inicial al cierre de la válvula. Si esto leatasa k es menor que 3,33 mTorr / seg continuar, de lo contrario comenzará la comprobación de fugas. Una tasa de fuga típica es menos de 1,2 mTorr / seg. </li><li> Ajuste la válvula de mariposa cámara de deposición al valor prefijado 500 Torr. Ajuste el valor del controlador de flujo de masa de 13,63 L / min (no encenderlo). </li><li> Mover la etapa de montaje a la posición de partida para la deposición. Cargue la macro creada en el paso 3.7 en el software del controlador. </li><li> Programar el generador de funciones para barrer linealmente entre 135 y 145 Hz cada 10 seg. Encienda el generador de función. Gire el flujo de gas de nitrógeno en. Después de una cuenta atrás de 3 seg iniciar el controlador de macro etapa. </li><li> Monitorear la deposición y ajustar la velocidad de flujo de gas como sea necesario para mantener la diferencia de presión a 500 ± 0,5 Torr (o como se desee para la carrera) para la duración de la deposición. Nota: La presión en la cámara de deposición es típicamente 0,65 Torr y la presión en la cámara de deposición es típicamente 501 Torr. Variaciones incontrolablesen la presión por lo general indican que el nitrógeno UHP se está acabando. Un ligero descenso en la presión (1-2 Torr) durante la duración de la carrera es típico. Esto puede remediarse mediante el aumento de la tasa de flujo de gas. Durante la inicial pasa una película visible debe formar sobre el sustrato, la falta de formación de la película sugiere aerosolización insuficiente del polvo y / o la obstrucción del filtro significativa. </li><li> Al final de la deposición tenga en cuenta el tiempo de servicio exacto deposición. Apague el gas nitrógeno, el generador de funciones, y las bombas. Abra completamente la válvula de mariposa cámara de deposición. </li><li> Abrir la válvula de derivación situada en el lado de la cámara de deposición. Gire el regulador de gas de nitrógeno a cero y redirigirlo a la cámara de deposición. Cierre la válvula de bombeo principal, mientras que poco a poco aumentando la presión del regulador de gas casa. </li><li> Inicio de la boquilla a X = 25 mm, Y = 25 mm, y Z = 25 mm, a continuación, cierre el software del controlador etapa. </li><li> Una vez que la presión en el sistema ha aumentadopor encima de 100 Torr detener el software de monitoreo de presión. Anote el total de gas nitrógeno utilizado y el tiempo para completar el depósito. Ajustar la presión del gas casa como sea necesario hasta que el sistema alcanza atmósfera. </li><li> Desconecte los 3 D-sub cables del controlador de la etapa 15 pines y desbloqueará la tapa superior. Retire la tapa superior de la cámara de deposición y desmontar la muestra. </li></ol> 4. Post-deposición de Inspección <ol><li> Retire la muestra de la etapa de montaje y lo examinan bajo un microscopio. Si es necesario, lavar la muestra en isopropanol para eliminar el polvo suelto. Realizar las caracterizaciones previstas de la película. </li></ol>

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	<li>Akedo, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Room+Temperature+Impact+Consolidation+(RTIC)+of+Fine+Ceramic+Powder+by+Aerosol+Deposition+Method+and+Applications+to+Microdevices.">Room Temperature Impact Consolidation (RTIC) of Fine Ceramic Powder by Aerosol Deposition Method and Applications to Microdevices.</a> J. of Therm. Spray tech. 17, 181 (2008).</li><li>Hahn, B. D., Park, D. -. S., Choi, J. -. J., Ryu, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Osteoconductive+hydroxyapatite+coated+PEEK+for+spinal+fusion+surgery.">Osteoconductive hydroxyapatite coated PEEK for spinal fusion surgery.</a> Appl. Surf. Sci. 283, 6-11 (2013).</li><li>Johnson, S. D., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Aerosol+Deposition+of+Yttrium+Iron+Garnet+for+Fabrication+of+Ferrite-Integrated+On-Chip+Inductors.">Aerosol Deposition of Yttrium Iron Garnet for Fabrication of Ferrite-Integrated On-Chip Inductors.</a> IEEE Trans. on Magnetics. 51 (05), (2015).</li><li>Johnson, S. D., Kub, F. J., Eddy, C. R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=ZnS/Diamond+Composite+Coatings+for+Infrared+Transmission+Applications+Formed+by+the+Aerosol+Deposition+Method.">ZnS/Diamond Composite Coatings for Infrared Transmission Applications Formed by the Aerosol Deposition Method.</a> Proceedings of SPIE. 8708, 87080T-87081T (2013).</li><li>Han, G., Ryu, J., Yoon, W. -. H., Choi, J. -. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effect+of+electrode+and+substrate+on+the+fatigue+behavior+of+PZT+thick.">Effect of electrode and substrate on the fatigue behavior of PZT thick.</a> Ceram. Int. 38 (1), S241-S244 (2012).</li><li>Ryu, J., Baek, C. -. W., Lee, Y. -. S., Oh, N. -. K. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Enhancement+of+Multiferroic+Properties+in+BiFeO3-Ba(Cu1/3Nb2/3)O-3.">Enhancement of Multiferroic Properties in BiFeO3-Ba(Cu1/3Nb2/3)O-3.</a> Film. J. Am. Ceram. Soc. 94 (2), 355-358 (2011).</li><li>Park, C. -. S., Ryu, J., Choi, J. -. J., Park, D. -. S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Giant+Magnetoelectric+Coefficient+in+3-2+Nanocomposite+Thick+Films.">Giant Magnetoelectric Coefficient in 3-2 Nanocomposite Thick Films.</a> Jpn. J. Appl. Phys. 48 (8), 1 (2009).</li><li>Ryu, J., Park, D. -. S., Schmidt, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=In-plane+impedance+spectroscopy+in+aerosol+deposited+NiMn2O4+negative.">In-plane impedance spectroscopy in aerosol deposited NiMn2O4 negative.</a> J. Appl. Phys. 109 (11), 112722 (2011).</li><li>Yoon, W. -. H., Ryu, J., Choi, J. -. J., Hahn, B. -. D. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Enhanced+Thermoelectric+Properties+of+Textured+Ca3Co4O9+Thick+Film+by+Aerosol+Deposition.">Enhanced Thermoelectric Properties of Textured Ca3Co4O9 Thick Film by Aerosol Deposition.</a> J. Am. Ceram. Soc. 93 (8), 2125-2127 (2010).</li><li>Ryu, J., Kim, K. -. Y., Choi, J. -. J., Hahn, B. -. D. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Flexible+Dielectric+Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7+Thin+Films+on+a+Cu-Polyimide+Foil.">Flexible Dielectric Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7 Thin Films on a Cu-Polyimide Foil.</a> J. Am. Ceram. Soc. 92 (2), 524-527 (2009).</li><li>Hahn, B. -. D., Lee, J. -. M., Park, D. -. S., Choi, J. -. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Mechanical+and+in+vitro+biological+performances+of+hydroxyapatite-carbon.">Mechanical and in vitro biological performances of hydroxyapatite-carbon.</a> Acta Biomater. 8 (8), 3205-3214 (2009).</li><li>Choi, J. -. J., Cho, K. -. S., Choi, J. -. H., Ryu, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effects+of+annealing+temperature+on+solid+oxide+fuel+cells+containing+(La,Sr)+(Ga,Mg,Co)O3-&#948;+electrolyte+prepared+by+aerosol+deposition.">Effects of annealing temperature on solid oxide fuel cells containing (La,Sr) (Ga,Mg,Co)O3-&#948; electrolyte prepared by aerosol deposition.</a> Mater. Lett. 70, 44-47 (2012).</li><li>Ryu, J., Hahn, B. -. D. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Porous+Photocatalytic+TiO2+Thin+Films+by+Aerosol+Deposition.">Porous Photocatalytic TiO2 Thin Films by Aerosol Deposition.</a> J. Am. Ceram. Soc. 93 (1), 55-58 (2010).</li><li>Harris, V. G., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Recent+advances+in+processing+and+applications+of+microwave+ferrites.">Recent advances in processing and applications of microwave ferrites.</a> J. of Magn. and Magn. Mat. 321, 2035 (2009).</li><li>Kang, Y. -. M., Ulyanov, A. N., Yoo, S. -. I. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=FMR+linewidths+of+YIG+films+fabricated+by+ex+situ+post-annealing+of+amorphous+films+deposited+by+rf+magnetron+sputtering.">FMR linewidths of YIG films fabricated by ex situ post-annealing of amorphous films deposited by rf magnetron sputtering.</a> Phys. Stat. Sol. (a). 204 (3), 763-767 (2007).</li><li>Popova, E., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Perpendicular+magnetic+anisotropy+in+ultrathin+yttrium+iron+garnet+films+prepared+by+pulsed+laser+deposition+technique).">Perpendicular magnetic anisotropy in ultrathin yttrium iron garnet films prepared by pulsed laser deposition technique).</a> J. of Vac. Sci. Techn. A. 19 (5), 2567-2570 (2001).</li><li>Sun, Y., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Growth+and+ferromagnetic+resonance+properties+of+nanometer-thick+yttrium.">Growth and ferromagnetic resonance properties of nanometer-thick yttrium.</a> Appl. Phys. Lett. 101 (15), 082405 (2012).</li><li>Kalarickal, S. S., Krivosik, P., Das, J., Kim, K. S., Patton, C. E. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Microwave+damping+in+polycrystalline+Fe-Ti-N+films:+Physical+mechanisms+and+correlations+with+composition+and+structure.">Microwave damping in polycrystalline Fe-Ti-N films: Physical mechanisms and correlations with composition and structure.</a> Phys. Rev. B. 77, 054427 (2008).</li><li>Johnson, S. D. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Advances+in+Ferrite-Integrated+On-Chip+Inductors+Using+Aerosol+Deposition.">Advances in Ferrite-Integrated On-Chip Inductors Using Aerosol Deposition.</a> Magnetics Business &amp; Technology Magazine. 10, (2014).</li><li>Johnson, S. D., Glaser, E. R., Cheng, S. -. F., Kub, F., Eddy Jr, ., R, C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Characterization+of+As-Deposited+and+Sintered+Yttrium+Iron+Garnet+Thick+Films+Formed+by+Aerosol.">Characterization of As-Deposited and Sintered Yttrium Iron Garnet Thick Films Formed by Aerosol.</a> Appl. Phys. Express. 7, 035501 (2014).</li><li>Lee, D. -. W., Nam, S. -. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Factors+Affecting+Surface+Roughness+of+Al2O3+Films+Deposited+on+Cu+Substrates+by+an+Aerosol+Deposition+Method.">Factors Affecting Surface Roughness of Al2O3 Films Deposited on Cu Substrates by an Aerosol Deposition Method.</a> J. of Ceramic Proc. Research. 11, 100 (2010).</li><li>Glass, H. L., Elliott, M. T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Attainment+of+the+Intrinsic+FMR+Linewidth+in+Yttrium+Iron+Garnet+Films+Grown+by+Liquid+Phase+Epitaxy.J.">Attainment of the Intrinsic FMR Linewidth in Yttrium Iron Garnet Films Grown by Liquid Phase Epitaxy.J.</a> Cryst. Growth. 34, 285 (1976).</li></ol>

Los autores no tienen nada que revelar.

La imagen de SEM en la Figura 4 indica que la fractura y la densificación significativa ocurre durante el proceso de deposición. La imagen se toma de la superficie superior de la película, que muestra un pequeño número de huecos y granos. La región observable es el último de la material a depositar y por lo tanto no se beneficia de impacto y el proceso de densificación adicional de partículas subsiguientes como se ilustra por el impacto de partículas 2 y 3 en la Figura 1. La d...

Aerosol deposición (AD) es un proceso de deposición de película gruesa que puede producir capas de hasta varios cientos de micrómetros de espesor con densidades mayores de 95% de la mayor 1. Se cree que el proceso de deposición a ocurrir a través de un proceso continuo de impacto, fractura o deformación, la adhesión, y la densificación de las partículas. La figura 1 representa este proceso como una serie de pasos que muestran impacto de partículas y densificación lo largo de varios pasos. Como se muestra, las partículas se mueven hacia el sustrato con una velocidad típica de 100-500 m / seg. Como el impacto partículas iniciales con el sustrato se fracturan y se adhieren al sustrato. Esta capa de anclaje proporciona la adherencia mecánica entre el sustrato y la película a granel. Como se producen impactos posteriores las partículas subyacentes son cada vez más fracturado, adherido, y más densificada. Este proceso de impacto continuo, fractura, y densificación funciona para compactar la película subyacente y unir las Crystallites y producen una película con una densidad de alcanzar mayor que 95% del material a granel. <img alt="Figura 1" src="/files/ftp_upload/52843/52843fig1.jpg" /> Figura 1. Ilustración del proceso de deposición. Panel A muestra tres partículas que se mueven hacia el sustrato con una velocidad típica de 100-500 m / seg. Panel B muestra el resultado de impacto, fractura, y la adhesión de la primera partícula. Los paneles C y D muestran el impacto posterior de la segunda y tercera partículas, lo que más compacta la película subyacente y unir los cristalitos. El resultado es una película con densidad superior a 95% del material a granel (reproducido con permiso de Referencia 19). <a href="https://www.jove.com/files/ftp_upload/52843/52843fig1highres.jpg" target="_blank">Por favor, haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.</a> La principal ventaja de la EA es que los DEPOSition se lleva a cabo en su totalidad a RT ambiente; permitiendo de este modo el crecimiento de película, por ejemplo, de un material de alta temperatura de fusión (polvo de partida) sobre un sustrato de bajo punto de fusión-temperatura. La velocidad de deposición puede ser de hasta varios micrómetros por minuto y se realiza en condiciones de vacío moderadas de 1-20 Torr en la cámara de deposición. El proceso muestra la capacidad de escalar hasta muy grandes áreas de deposición y, finalmente, se puede depositar conformemente. 2 Hay muchos sistemas de materiales estudiados por AD para una amplia variedad de usos, tales como inductores 3, revestimientos resistentes a la abrasión 4, 5 piezoeléctricos, multiferroicos 6, 7 magnetoelectrics termistores 8, películas termoeléctricas 9, dieléctricos flexibles 10, implantes de tejido duro y biocerámicas 11, electrolitos sólidos 12, y fotocatalizadores 13. Para aplicaciones a dispositivos de microondas, películas magnéticas de severase requieren l cientos de micrómetros de espesor que, idealmente, se integra directamente en los elementos de placa de circuito. Uno de los retos a la realización de esta integración es el régimen de alta temperatura necesaria para la fabricación de películas de ferrita (véase la revisión de Harris et al. 14), tales como el granate de itrio hierro (YIG). Por esta razón AD parece ser una elección natural para la realización de nuevos avances potenciales en la tecnología de circuito integrado magnético. La operación de bajo costo y alta velocidad de depósito, y la simplicidad de la EA ha despertado el interés de los investigadores en Alemania, Francia, Japón, Corea, y ahora en los Estados Unidos. La Figura 2 es un dibujo delineando la configuración básica para llevar a cabo la deposición de aerosol. La presión se controla en los lugares marcados P AC, DC P y P H para la cámara de aerosol, cámara de deposición, y la cabeza de la bomba, respectivamente. El flujo de gas, controlada por el controlador de flujo másico (MFC), entra en el aerosolcámara y aerosoliza el polvo. La cámara de deposición se bombea para crear la diferencia de presión entre las dos cámaras, haciendo que el flujo de partículas a través de la rectangular (0,4 mm x 4,8 mm) abertura de la boquilla. <img alt="Figura 2" src="/files/ftp_upload/52843/52843fig2.jpg" /> Figura 2. Los componentes principales del sistema de NRL ADM. La presión se controla en los lugares marcados P AC, DC P y P H para la cámara de aerosol, cámara de deposición, y la cabeza de la bomba, respectivamente. Véase el texto para más detalles. (Derecho de autor (2014) La Sociedad Japonesa de Física Aplicada, reproducido de la referencia 20). <a href="https://www.jove.com/files/ftp_upload/52843/52843fig2highres.jpg" target="_blank">Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.</a> El tamaño promedio de una partícula YIG individual en esta obra es de 0,5 micras. El efecto de aglomeración hace que éstospequeñas partículas para formar aglomerados mucho más grandes que varían en tamaño desde aproximadamente 10 micras a aproximadamente 400 micras. El control de la tasa de tamaño y entrega aglomerado es esencial para lograr una película bien formado denso. Esto requiere configuración de una cámara de aerosol que permite la selección de tamaño de partícula uniforme y flujo en la cámara de deposición. El polvo es pre-tamiza para eliminar cualquier aglomerado más grande que 53 micras antes de ser cargado en la cámara de aerosol. La configuración de cámara de aerosol utilizado en este trabajo se ilustra en la Figura 3. El gas nitrógeno entra a través de cuatro toberas de entrada (se muestran dos en la Figura 3) situados en los lados inferiores de la cámara. El gas interactúa con el polvo de YIG (mostrado en verde) para producir un aerosol compuesto de una distribución de tamaños de partícula aglomerada inferior a 53 micras. Un agitador en la base de la cámara de aerosol hecho de una placa de acero inoxidable se hace vibrar de forma continua para mantener el polvo en movimiento enel flujo de gas. Los aglomerados impacto de un filtro de 45 micras, permitiendo sólo aglomerados de tamaño inferior a 45 micras para entrar en la entrada de la boquilla. Al entrar en la boquilla de entrada los aglomerados se aceleran a una velocidad grande y expulsado en la cámara de depósito (no mostrado) para llevar a cabo la deposición. Una varilla de acero inoxidable conecta la parte inferior del filtro a la base del agitador (no mostrado) para ayudar en la de-la obstrucción del filtro. <img alt="Figura 3" src="/files/ftp_upload/52843/52843fig3.jpg" /> Figura 3. Ejemplo de la configuración interna cámara de aerosol, con filtro, boquillas de entrada, y el polvo de YIG se muestra. Véase el texto para más detalles. Este informe detalla el procedimiento experimental para realizar AD utilizando el sistema hecha a la medida descrita anteriormente para producir películas densas de YIG. Los resultados representativos para una película de espesor 11 micras producido en este sistema se presentan usando scanninmicroscopía g electrónico (SEM), perfiles de espesor, y la resonancia ferromagnética (FMR). Los resultados que se presentan no pretenden ser un estudio en profundidad de las propiedades magnéticas o estructura del material de la película, sino como una demostración de las películas producidas por esta técnica. <a href="https://www.jove.com/files/ftp_upload/52843/52843fig3highres.jpg" target="_blank">Por favor, haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.</a>

<table border="0" cellpadding="0" cellspacing="0">
	<tbody>
		<tr>
			<td>Ferromagnetic Resonance Spectrometer</td>
			<td>www.bruker.com/</td>
			<td>9.5 GHz Spectrometer</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Scanning Electron Microscope</td>
			<td>www.zeiss.com</td>
			<td>LEO Supra 55</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Profilometer</td>
			<td>www.kla-tencor.com/</td>
			<td>D-120</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Stereo Microscope</td>
			<td>www.microscopes.com</td>
			<td>Omano Stereo Microscope</td>
			<td>Used for inspection directly after removal from deposition chamber</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Double-sided Copper Tape</td>
			<td>www.2spi.com</td>
			<td>05085A-AB</td>
			<td>hold-down clips or other adhesives may be used</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Nitrile Exam Gloves</td>
			<td>www.fishersci.com</td>
			<td>19-130-1597D</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>2-propanol</td>
			<td>www.fishersci.com</td>
			<td>A451SK-4</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Acetone</td>
			<td>www.fishersci.com</td>
			<td>A11-1</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Yttrium Iron Garnet Powder</td>
			<td>www.trans-techinc.com/</td>
			<td>Call for Product Information</td>
			<td>Powder is custom made to order and ground to specifications</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Stainless Steel Spoon</td>
			<td>www.fishersci.com</td>
			<td>14-429E</td>
			<td>Used for scooping and transferring powder</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Alumina Boats</td>
			<td>www.coorstek.com/</td>
			<td>65580</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Drying Furnace</td>
			<td>www.paragonweb.com</td>
			<td>KM14 ceramic furnace</td>
			<td>Furnace is connected to air during drying</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Powder Sieves</td>
			<td>www.advantechmfg.com/</td>
			<td>270SS8F</td>
			<td>A selection of mesh openings are needed to sieve from large down to target size</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Ultra High Purity Nitrogen Gas</td>
			<td>www.praxairdirect.com</td>
			<td>NI 5.0UH-3K</td>
			<td>Used as medium for aerosol.</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Air Breathing Quality</td>
			<td>www.praxairdirect.com</td>
			<td>AI BR-4KN</td>
			<td>Used inside furnace during drying</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Lab Balance</td>
			<td>www.balances.com/</td>
			<td>Sartorius ED224S Lab Balance</td>
			<td>Used for weighing powder</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Sapphire Wafers</td>
			<td>www.pmoptics.com/</td>
			<td>PWSP-313211</td>
			<td></td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

formation of thick dense yttrium iron garnet films using aerosol deposition

Aerosol deposición (AD) es un proceso de deposición de película gruesa que puede producir capas de hasta varios cientos de micrómetros de espesor con densidades mayores de 95% de la masa. La ventaja principal de la AD es que la deposición se lleva a cabo completamente a temperatura ambiente; permitiendo de este modo el crecimiento de película en sistemas de materiales con temperaturas de fusión diferentes. Este informe describe con detalle los pasos del proceso para preparar el polvo y para la realización de AD utilizando el sistema a medida. Resultados de la caracterización representativos se presentan a partir de microscopía electrónica de barrido, perfilometría, y resonancia ferromagnética para películas cultivadas en este sistema. Como una visión general representativa de las capacidades del sistema, el enfoque se da a una muestra producida después de la configuración de protocolo y sistema descrito. Los resultados indican que este sistema puede depositar con éxito 11 micras películas de granate de itrio de hierro gruesas que son&gt; 90% de la densidad a granel durante un solo 5 min deposición run. Se proporciona una discusión de métodos para permitirse un mejor control de la selección de aerosol de partículas y para la mejora de espesor y variaciones de rugosidad en la película.

Después de la deposición es completa, los sustratos recubiertos se retiran de la cámara de deposición y se inspeccionaron utilizando un microscopio estéreo óptico. Las muestras son típicamente cepillado y se lavaron con isopropanol para eliminar el exceso de polvo que se mantuvo durante la re-presurización a la atmósfera. Caracterización de película se realizó en los resultados representativos presentados aquí usando microscopía electrónica de barrido para evaluar la morfología de la película, perfilome...

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Formation of Thick Dense Yttrium Iron Garnet Films Using Aerosol Deposition

En este informe se describe el uso de un sistema hecho a medida para realizar la deposición de aerosoles de películas gruesas de granate de itrio hierro sobre sustratos de zafiro a RT. Las películas depositadas se caracterizan mediante microscopía electrónica de barrido, perfilometría, y resonancia ferromagnética para dar una visión general representativa de las capacidades de la técnica.

La formación de gruesas densos itrio Iron Garnet Films Usando Aerosol Deposición

Aerosol deposition (AD) is a thick-film deposition process that can produce layers up to several hundred micrometers thick with densities greater than 95% ...

formation-thick-dense-yttrium-iron-garnet-films-using-aerosol

Research

JoVE Journal

Engineering

9.1K vistas.  Naval Research Laboratory.  En este informe se describe el uso de un sistema hecho a medida para realizar la deposición de aerosoles de películas gruesas de granate de itrio hierro sobre sustratos de zafiro a RT. Las películas depositadas se caracterizan mediante microscopía electrónica de barrido, perfilometría, y resonancia ferromagnética para dar una visión general representativa de las capacidades de la técnica. 

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Fabrication of Nano-engineered Transparent Conducting Oxides by Pulsed Laser Deposition

Nanosecond Pulsed Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas allows the deposition of metal oxides with tunable morphology, structure, density and stoichiometry by a proper control of the plasma plume expansion dynamics. Such versatility can be exploited to produce nanostructured films from compact and dense to nanoporous characterized by a hierarchical assembly of nano-sized clusters. In particular we describe the detailed methodology to fabricate two types of Al-doped ZnO (AZO) films as transparent electrodes in photovoltaic devices: 1) at low O2 pressure, compact films with electrical conductivity and optical transparency close to the state of the art transparent conducting oxides (TCO) can be deposited at room temperature, to be compatible with thermally sensitive materials such as polymers used in organic photovoltaics (OPVs); 2) highly light scattering hierarchical structures resembling a forest of nano-trees are produced at higher pressures. Such structures show high Haze factor (&gt;80%) and may be exploited to enhance the light trapping capability. The method here described for AZO films can be applied to other metal oxides relevant for technological applications such as TiO2, Al2O3, WO3 and Ag4O4.

We describe the experimental method to deposit nanostructured oxide thin films by nanosecond Pulsed Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas. By using this method Al-doped ZnO (AZO) films, from compact to hierarchically structured as nano-tree forests, can be deposited.

La fabricación de nano-ingeniería óxidos conductores transparentes por deposición por láser pulsado

Nanosecond Pulsed  Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas allows the deposition  of metal oxides with tunable morphology, structure, ...

Investigación

Ingeniería

Speciation and Bioavailability Measurements of Environmental Plutonium Using Diffusion in Thin Films

The biological uptake of plutonium (Pu) in aquatic ecosystems is of particular concern since it is an alpha-particle emitter with long half-life which can potentially contribute to the exposure of biota and humans. The diffusive gradients in thin films technique is introduced here for in-situ measurements of Pu bioavailability and speciation. A diffusion cell constructed for laboratory experiments with Pu and the newly developed protocol make it possible to simulate the environmental behavior of Pu in model solutions of various chemical compositions. Adjustment of the oxidation states to Pu(IV) and Pu(V) described in this protocol is essential in order to investigate the complex redox chemistry of plutonium in the environment. The calibration of this technique and the results obtained in the laboratory experiments enable to develop a specific DGT device for in-situ Pu measurements in freshwaters. Accelerator-based mass-spectrometry measurements of Pu accumulated by DGTs in a karst spring allowed determining the bioavailability of Pu in a mineral freshwater environment. Application of this protocol for Pu measurements using DGT devices has a large potential to improve our understanding of the speciation and the biological transfer of Pu in aquatic ecosystems.

The technique of diffusive gradients in thin films (DGT) is proposed for speciation studies of plutonium. This protocol describes diffusion experiments probing the behavior of Pu(IV) and Pu(V) in presence of organic matter. DGTs deployed in a karstic spring allow assessment of the bioavailability of Pu.

Especiación y biodisponibilidad mediciones de plutonio Ambiental Uso de Difusión en Thin Films

The biological uptake of plutonium (Pu) in aquatic ecosystems is of particular concern since it is an alpha-particle emitter with long half-life which can ...

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two chalcogenide compositions are demonstrated: Ge23Sb7S70 and As40S60, which have both been studied extensively for planar mid-infrared (mid-IR) microphotonic devices. In this approach, uniform thickness films are fabricated through the use of computer numerical controlled (CNC) motion. Chalcogenide glass (ChG) is written over the substrate by a single nozzle along a serpentine path. Films were subjected to a series of heat treatments between 100 &#176;C and 200 &#176;C under vacuum to drive off residual solvent and densify the films. Based on transmission Fourier transform infrared (FTIR) spectroscopy and surface roughness measurements, both compositions were found to be suitable for the fabrication of planar devices operating in the mid-IR region. Residual solvent removal was found to be much quicker for the As40S60 film as compared to Ge23Sb7S70. Based on the advantages of electrospray, direct printing of a gradient refractive index (GRIN) mid-IR transparent coating is envisioned, given the difference in refractive index of the two compositions in this study.

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

A method of uniform thickness solution-derived chalcogenide glass film deposition is demonstrated using computer numerical controlled motion of a single-nozzle electrospray.

Electropulverización La deposición de espesor uniforme Ge<sub&gt; 23</sub&gt; Sb<sub&gt; 7</sub&gt; S<sub&gt; 70</sub&gt; Y As<sub&gt; 40</sub&gt; S<sub&gt; 60</sub&gt; calcogenura las películas de cristal

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two ...

Fabrication of Ultra-thin Color Films with Highly Absorbing Media Using Oblique Angle Deposition

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present an advanced method for fabricating ultra-thin color films with improved characteristics. The proposed process addresses several fabrication issues, including large area processing. Specifically, the protocol describes a process for fabricating ultra-thin color films using an electron beam evaporator for oblique angle deposition of germanium (Ge) and gold (Au) on silicon (Si) substrates.&#160; Film porosity produced by the oblique angle deposition induces color changes in the ultra-thin film. The degree of color change depends on factors such as deposition angle and film thickness. Fabricated samples of the ultra-thin color films showed improved color tunability and color purity. In addition, the measured reflectance of the fabricated samples was converted into chromatic values and analyzed in terms of color. Our ultra-thin film fabricating method is expected to be used for various ultra-thin film applications such as flexible color electrodes, thin film solar cells, and optical filters. Also, the process developed here for analyzing the color of the fabricated samples is broadly useful for studying various color structures.

We present a detailed method for fabricating ultra-thin color films with improved characteristics for optical coatings. The oblique angle deposition technique using an electron beam evaporator allows improved color tunability and purity. Fabricated films of Ge and Au on Si substrates were analyzed by reflectance measurements and color information conversion.

Fabricación de películas ultra delgadas Color con altamente absorbente de los medios de comunicación mediante deposición oblicua

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present ...

An Analog Macroscopic Technique for Studying Molecular Hydrodynamic Processes in Dense Gases and Liquids

An analog, macroscopic method for studying molecular-scale hydrodynamic processes in dense gases and liquids is described. The technique applies a standard fluid dynamic diagnostic, particle image velocimetry (PIV), to measure: i) velocities of individual particles (grains), extant on short, grain-collision time-scales, ii) velocities of systems of particles, on both short collision-time- and long, continuum-flow-time-scales, iii) collective hydrodynamic modes known to exist in dense molecular fluids, and iv) short- and long-time-scale velocity autocorrelation functions, central to understanding particle-scale dynamics in strongly interacting, dense fluid systems. The basic system is composed of an imaging system, light source, vibrational sensors, vibrational system with a known media, and PIV and analysis software. Required experimental measurements and an outline of the theoretical tools needed when using the analog technique to study molecular-scale hydrodynamic processes are highlighted. The proposed technique provides a relatively straightforward alternative to photonic and neutron beam scattering methods traditionally used in molecular hydrodynamic studies.

An experimentally accessible analog method for studying molecular hydrodynamic processes in dense fluids is presented. The technique uses particle image velocimetry of vibrated, high-restitution grain piles and allows direct, macroscopic observation of dynamical processes known and predicted to exist in strongly interacting, high density gases and liquids.

Una técnica análoga macroscópica para el estudio de procesos hidrodinámicos Molecular en Gases densos y líquidos

An analog, macroscopic method for studying molecular-scale hydrodynamic processes in dense gases and liquids is described. The technique applies a ...

Production of Single Tracks of Ti-6Al-4V by Directed Energy Deposition to Determine the Layer Thickness for Multilayer Deposition

Directed Energy Deposition (DED), which is an additive manufacturing technique, involves the creation of a molten pool with a laser beam where metal powder is injected as particles. In general, this technique is employed to either fabricate or repair different components. In this technique, the final characteristics are affected by many factors. Indeed, one of the main tasks in building components by DED is the optimization of process parameters (such as laser power, laser speed, focus, etc.) which is usually carried out through an extensive experimental investigation. However, this sort of experiment is extremely lengthy and costly. Thus, in order to accelerate the optimization process, an investigation was conducted to develop a method based on the melt pool characterizations. In fact, in these experiments, single tracks of Ti-6Al-4V were deposited by a DED process with multiple combinations of laser power and laser speed. Surface morphology and dimensions of single tracks were analyzed, and geometrical characteristics of melt pools were evaluated after polishing and etching the cross-sections. Helpful information regarding the selection of optimal process parameters can be achieved by examining the melt pool features. These experiments are being extended to characterize the larger blocks with multiple layers. Indeed, this manuscript describes how it would be possible to quickly determine the layer thickness for the massive deposition, and avoid over or under-deposition according to the calculated energy density of the optimum parameters. Apart from the over or under-deposition, time and materials saving are the other great advantages of this approach in which the deposition of multilayer components can be started without any parameter optimization in terms of layer thickness.

In this research, a rapid method based on melt pool characterization is developed to estimate the layer thickness of Ti-6Al-4V components produced by directed energy deposition.

Producción de pistas individuales de Ti-6Al-4V por deposición de energía dirigida a determinar el espesor de la capa de deposición multicapa

Directed Energy Deposition (DED), which is an additive manufacturing technique, involves the creation of a molten pool with a laser beam where metal ...

Atomic Layer Deposition of Vanadium Dioxide and a Temperature-dependent Optical Model

Vanadium dioxide is a material that has a reversible metal-insulator phase change near 68 &#176;C. To grow VO2 on a wide variety of substrates, with wafer-scale uniformity and angstrom level control of thickness, the method of atomic-layer deposition was chosen. This ALD process enables high-quality, low-temperature (&#8804;150 &#176;C) growth of ultrathin films (100-1000 &#197;) of VO2. For this demonstration, the VO2 films were grown on sapphire substrates. This low temperature growth technique produces mostly amorphous VO2 films. A subsequent anneal in an ultra-high vacuum chamber with a pressure of 7x10-4 Pa of ultra-high purity (99.999%) oxygen produced oriented, polycrystalline VO2 films. The crystallinity, phase, and strain of the VO2 were determined by Raman spectroscopy and X-ray diffraction, while the stoichiometry and impurity levels were determined by X-ray photoelectron spectroscopy, and finally the morphology was determined by atomic force microscopy. These data demonstrate the high-quality of the films grown by this technique. A model was created to fit to the data for VO2 in its metallic and insulating phases in the near infrared spectral region. The permittivity and refractive index of the ALD VO2 agreed well with the other fabrication methods in its insulating phase, but showed a difference in its metallic state. Finally, the analysis of the films&#39; optical properties enabled the creation of a wavelength- and temperature-dependent model of the complex optical refractive index for developing VO2 as a tunable refractive index material.

Thin films (100-1000 &#197;) of vanadium dioxide (VO2) were created by atomic-layer deposition (ALD) on sapphire substrates. Following this, the optical properties were characterized through the metal-insulator transition of VO2. From the measured optical properties, a model was created to describe the tunable refractive index of VO2.

Deposición de capa atómica de dióxido de vanadio y un modelo óptico dependiente de la temperatura

Vanadium dioxide is a material that has a reversible metal-insulator phase change near 68 &#176;C. To grow VO2 on a wide variety of substrates, with ...

Film Control to Study Contributions of Waves to Droplet Impact Dynamics on Thin Flowing Liquid Films

Droplet impact is a very common phenomenon in nature and attracts attention due to its aesthetic fascination and wide-ranging applications. Previous studies on flowing liquid films have neglected the contributions of spatial structures of waves to the impact outcome, while this has recently been shown to have a significant influence on the drop impact dynamics. In this report, we outline a step-by-step procedure to investigate the effect of periodic inlet forcing of a flowing liquid film leading to the production of spatiotemporally regular wave structures on drop impact dynamics. A function generator in connection with a solenoid valve is used to excite these spatiotemporally regular wave structures on the film surface while the impact dynamics of uniform-sized droplets are captured using a high-speed camera. Three distinct regions are then studied; viz. the capillary wave region preceding the large wave peak, the flat film region, and the wave hump region. The effects of important dimensionless quantities such as film Reynolds, drop Weber and Ohnesorge numbers parameterized by the film flow rate, drop speed, and drop size are also examined. Our results show interesting, hitherto undiscovered dynamics brought about by this application of film inlet forcing of the flowing film for both low and high inertia drops.

A protocol to study the contributions of waves to droplet impact dynamics on flowing liquid films is presented.

Control de la película para el estudio de las contribuciones de las ondas dinámicas de impacto de gota en películas líquidas delgadas que fluye

Droplet impact is a very common phenomenon in nature and attracts attention due to its aesthetic fascination and wide-ranging applications. Previous ...

Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy Growth of Mg3N2 and Zn3N2 Thin Films

This article describes a procedure for growing Mg3N2 and Zn3N2 films by plasma-assisted molecular beam epitaxy (MBE). The films are grown on 100 oriented MgO substrates with N2 gas as the nitrogen source. The method for preparing the substrates and the MBE growth process are described. The orientation and crystalline order of the substrate and film surface are monitored by the reflection high energy electron diffraction (RHEED) before and during growth. The specular reflectivity of the sample surface is measured during growth with an Ar-ion laser with a wavelength of 488 nm. By fitting the time dependence of the reflectivity to a mathematical model, the refractive index, optical extinction coefficient, and growth rate of the film are determined. The metal fluxes are measured independently as a function of the effusion cell temperatures using a quartz crystal monitor. Typical growth rates are 0.028 nm/s at growth temperatures of 150 &#176;C and 330 &#176;C for Mg3N2 and Zn3N2 films, respectively.

Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy Growth of Mg3N2 and Zn3N2 Thin Films

This article describes the growth of epitaxial films of Mg3N2 and Zn3N2 on MgO substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy with N2 gas as the nitrogen source and optical growth monitoring.

Crecimiento de la epitasa de haz molecular asistido por plasma de Mg3N2 y Zn3N2 Thin Films

This article describes a procedure for growing Mg3N2 and Zn3N2 films by plasma-assisted molecular beam epitaxy (MBE). The films are grown on 100 oriented ...

Procedure for the Transfer of Polymer Films Onto Porous Substrates with Minimized Defects

The fabrication of devices containing thin film composite membranes necessitates the transfer of these films onto the surfaces of arbitrary support substrates. Accomplishing this transfer in a highly controlled, mechanized, and reproducible manner can eliminate the creation of macroscale defect structures (e.g., tears, cracks, and wrinkles) within the thin film that compromise device performance and the usable area per sample. Here, we describe a general protocol for the highly controlled and mechanized transfer of a polymeric thin film onto an arbitrary porous support substrate for eventual use as a water filtration membrane device. Specifically, we fabricate a block copolymer (BCP) thin film on top of a sacrificial, water-soluble poly(acrylic acid) (PAA) layer and silicon wafer substrate. We then utilize a custom-designed, 3D-printed transfer tool and drain chamber system to deposit, lift-off, and transfer the BCP thin film onto the center of a porous anodized aluminum oxide (AAO) support disc. The transferred BCP thin film is shown to be consistently placed onto the center of the support surface due to the guidance of the meniscus formed between the water and the 3D-printed plastic drain chamber. We also compare our mechanized transfer-processed thin films to those that have been transferred by hand with the use of tweezers. Optical inspection and image analysis of the transferred thin films from the mechanized process confirm that little-to-no macroscale inhomogeneities or plastic deformations are produced, as compared to the multitude of tears and wrinkles produced from manual transfer by hand. Our results suggest that the proposed strategy for thin film transfer can reduce defects when compared to other methods across many systems and applications.

We present a procedure for highly controlled and wrinkle-free transfer of block copolymer thin films onto porous support substrates using a 3D-printed drain chamber. The drain chamber design is of general relevance to all procedures involving transfer of macromolecular films onto porous substrates, which is normally done by hand in an irreproducible fashion.

Procedimiento para la transferencia de películas de polímeros a sustratos porosos con defectos minimizados

The fabrication of devices containing thin film composite membranes necessitates the transfer of these films onto the surfaces of arbitrary support ...