Войдите в систему

Большая площадь сканирования зонд нанолитографию способствовало автоматического выравнивания и его применение для изготовления подложки для изучения культуры клеток

Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.

9.5K Views

•

09:45 min

•

June 12th, 2018

DOI :

10.3791/56967-v

June 12th, 2018

•

I-Ning Lee*¹^,², Joseph Hosford*¹, Shuai Wang³, John A. Hunt⁴, Judith M. Curran², William P. Heath³, Lu Shin Wong¹

¹Manchester Institute of Biotechnology & School of Chemistry, University of Manchester, ²School of Engineering, University of Liverpool, ³School of Electrical and Electronic Engineering, University of Manchester, ⁴School of Science and Technology, Nottingham Trent University

Резюме

Смотреть дополнительные видео

136

Главы в этом видео

0:04

Title

0:47

Polymer Pen Lithography (PPL) Array Fabrication and Substrate Mounting

4:29

Automatic Pen Array Alignment

6:35

Polymer Pen Lithography

8:20

Results: Substrate Patterning by PPL

9:08

Conclusion

Похожие видео

10:31

Микропипетки Стремление основания подключенных клетки к оценке сотовых жесткости

19.8K Views

05:39

Ударно-волновой Применение к клеточных культур

12.7K Views

09:47

Микрожидкостных Техника для исследования клеток деформируемости

11.2K Views

09:11

Использование Cell-субстрата сопротивление и живых изображений сотовый измерить в реальном времени изменения в клеточной адгезии и Де адгезии, индуцированной Matrix модификации

10.9K Views