Araştırma
Eğitim
Çözümler
Oturum Aç
TR
EN - English
CN - 中文
DE - Deutsch
ES - Español
KR - 한국어
IT - Italiano
FR - Français
PT - Português
TR - Turkish
JA - Japanese
Department of Electrical and Computer Engineering
Steven K. Dew has not added Biography.
If you are Steven K. Dew and would like to personalize this page please email our Author Liaison for assistance.
SML resist processing for high-aspect-ratio and high-sensitivity electron beam lithography.
Nanoscale research letters , 2013 | Pubmed ID: 23531370
University of Alberta
National Research Council of Canada
Robert F. Peters1,2,
Luis Gutierrez-Rivera1,2,
Steven K. Dew1,2,
Maria Stepanova1,2
1Department of Electrical and Computer Engineering, University of Alberta,
2National Institute for Nanotechnology, National Research Council of Canada
Gizlilik
Kullanım Şartları
İlkeler
Bize Ulaşın
KÜTÜPHANEYE TAVSİYE ET
JoVE HABER BÜLTENLERİ
JoVE Journal
Yöntem Koleksiyonları
JoVE Encyclopedia of Experiments
Arşiv
JoVE Core
JoVE Business
JoVE Science Education
JoVE Lab Manual
Fakülte Kaynak Merkezi
Yazarlar
Kütüphaneciler
Erişim
JoVE Hakkında
Telif Hakkı © 2020 MyJove Corporation. Tüm hakları saklıdır