Fotonik Kristal Yavaş Işık Dalga Kılavuzları Ve Çürükler Üretimi ve Karakterizasyonu

Özet

Fotonik kristal yavaş ışığın dalga kılavuzları ve boşlukların kullanımı yaygın olarak pek çok farklı uygulamada fotonik topluluğu tarafından kabul edilmiştir. Bu cihazların Bu nedenle imalat ve karakterizasyonu büyük bir öneme sahiptir. Interferometrik (dalga kılavuzları) ve rezonans saçılması (kaviteler): Bu kağıt, yani bizim üretim tekniği ve iki optik karakterizasyon yöntemleri, özetliyor.

Özet

Yavaş ışık görüş temel bir noktadan ve pratik uygulamalara yönelik önemli bir potansiyel için hem büyük ilgi üreten, son on yılda fotonik toplumda sıcak konulardan biri olmuştur. Yavaş ışık fotonik kristal dalga kılavuzu, özellikle, önemli bir rol oynamış ve başarılı optik sinyaller ^1-4 geciktirmek için istihdam edilmiş ve hem lineer ^5-7 ve doğrusal olmayan cihazların geliştirme. ^8-11

Fotonik kristal boşlukları yavaş ışığın dalga kılavuzları ile benzer etkiler elde, ama bant genişliği azaltılmış üzerinde. Bu boşluklar optik ¹² gerçekleştirilmesi için, yüksek Q-factor/volume oranı sunan ve elektrikle ¹³ ultra düşük eşik lazerler ve doğrusal olmayan etkiler geliştirme pompalanır. ^14-16 Ayrıca, pasif filtreler ¹⁷ ve modülatörler ^18-19 ortaya konmuştur, ultra-ince bir çizgi genişliği, yüksek serbest spektral r sergileyendüşük enerji tüketimi ange ve kayıt değerleri.

Bu heyecan verici sonuçlar elde etmek için, sağlam bir tekrarlanabilir üretim protokolü geliştirildi gerekir. Bu yazıda fotonik kristal desenler tanımı için elektron demeti litografi istihdam ve ıslak ve kuru aşındırma teknikleri kullanır bizim imalat protokolü de derinlemesine bir göz atın. Dikey muzdarip yok fotonik kristaller Bizim optimize üretim tarifi sonuçlar asimetri ve çok iyi kenar duvar pürüzlülüğü sergilerler. Biz benzer sorunları belirlemek ve ortadan kaldırmak için alınabilecek bir tanı rota yol aşındırma parametreleri ve bir aygıt üzerinde sahip olabileceği olumsuz etkileri değişen sonuçlarını tartışmak.

Yavaş ışık dalga kılavuzları değerlendirmek için anahtar iletim ve grup indeksi spektrumlarının pasif karakterizasyonu. Çeşitli yöntemler, özellikle en fazla bir transmisyon spektrum ^20-21 Fabry-Perot saçaklar çözme rapor edilmiştir,d interferometrik teknikleri. Burada ^22-25, biz Fourier analizi ile spektral interferometri birleştiren doğrudan, geniş bant ölçüm tekniği tarif. biz erişim dalgakılavuzları bir çıplak fotonik kristal karakterize gibi ²⁶ Bizim metodumuz, sadeliği ve gücü için sıyrılıyor, gerek kalmadan çip üzerinde parazit bileşenleri ve kurulum için tek parça ve gecikme taramaları taşımak için ihtiyaç duymadan, bir Mach-Zehnder interferometre oluşur.

Zaman karekteristik fotonik kristal boşlukları, doğrudan boşluğu kendi performansı üzerinde kavite ²⁷ etkisi birleştiğinde iç kaynaklardan ²¹ veya harici dalgakılavuzları içeren teknikleri, böylece çarpık ölçümü. Burada, bir çapraz polarize prob demetinin kullanılmasını sağlar ve prob düzlem dışı bir amacı ile boşluğuna birleştiğinde rezonans saçılması (RS) olarak bilinen bir romanı ve non-müdahaleci tekniği tarif. Tekniği ilk gösteriler yapıldıted McCutcheon ve ark. ²⁸ tarafından ve ayrıca Galli ve ark. ²⁹

Protokol

Yasal Uyarı: Aşağıdaki protokol fotonik kristal dalga kılavuzları ve kaviteler için üretim ve karakterizasyon teknikleri kapsayan genel bir süreç akışı sağlar. Süreç akış laboratuarda bulunan özel ekipman için optimize edilir, ve diğer reaktifler veya donanım kullanıldığında, parametreler değişebilir.

1. Örnek Hazırlanması

1. Örnek yarma - silikon üzerinde yalıtkan (SOI) gofret almak ve silikon yüzeyin kenarından yaklaşık 1-2 mm uzunluğunda bir çizgi sıfırdan bir elmas çizici kullanın, sıfırdan gofret kenarından dışarı taşar sağlanması. Düz kenarına sıfırdan hizalayın (örneğin bir mikroskop lamı o) ve sıfırdan her iki hatta pozitif basınç uygulayın: sıfırdan yerde kristal düzlemi boyunca gofret olacak bölmek. Tüm yonga tanımlamak için bu işlemi tekrarlayın.
2. Örnek Temizleme - DİKKAT aseton içine yerleştirin örnek cımbız bir usingnd 1-2 dakika boyunca ultrasonik banyoda temizleyin. Asetondan örnek çıkarın; DİKKAT izopropanol (30 sn) (aseton ve izopropanol hem yanıcı şunlardır: iyi havalandırma kullanın ve tüm ateşleme kaynaklarından kaçının) kullanarak örnek kalan aseton durulayın. Temiz ve kuru bir azot tabancası kullanarak örnek kurulayın.
3. Karşı Spin - Spin-lak üzerine örnek yerleştirin. Hassas Pipet elektron numune üzerine DİKKAT ZEP520A (ZEP520A yanıcı, cilt ve göz ile inhalasyon ve temas yoluyla zararlı kaçınılmalıdır) karşı - kenar üzerinde akan direnme olmadan numuneyi tamamen kapsayacak karşı yeterince kullanamaz. Bir yak vermek amacıyla örnek Spin. 10 dakika boyunca 180 ° C'de bir hotplate üzerinde 350 nm kalınlığında film ve fırında. Biz (daha sonra bakın) çözünürlük ve aşındırma direnci dengeler optimum kalınlığı olması bu kalınlık bulundu.

2. Desen Tanımı

1. Tasarım - uygun bir yazılım kullanarak, gerekli fotonik kristal deseni taklit. Bir uyuşmuşkullanışlı yazılım paketleri er dahil mevcuttur ancak bunlarla sınırlı değildir:, Fotonik Aralığı (MPB) MIT Tam dalga (RSoft), MIT Elektromanyetik Denklem Yayılımı (MEEP).
2. Desen Nesil - uygun bir yazılım kullanarak pozlama dosyaları (genel gds formatında) ve yakınlık hata doğru oluşturmak ^30.
3. Pattern Pozlama - elektron demeti litografi sistemi (LEO 1530 / Raith Elphy) ve odasına örnek yüklemek ve aşağı pompalayınız. Bir kere vakum elde edilmiştir, EHT beslemesini açın ve 30 kV ayarlanır. Örnek, sahne ve oda bir denge sıcaklığına ulaşmasını sağlamak için 1 saat boyunca bu devlet sistemini bırakın. Belirli elektron demeti litografi sisteminin kullanım kılavuzunda belirtildiği gibi maruz Set-up. Uygun bir temel adım boyutu (örneğin 2 nm) (Bu sistemin maruz olabileceği minimum piksel boyutu olan), en az 1 ms yerleşme zamanı (kullanarak örnek Açığa Bu sistemin ışın hareketli ve teşhir arasında bekleyeceği zamanı olmakdesenin belirli bir bölümü) ve 55 μAcm ^-2 bir alan doz.
4. Örnek Geliştirme - 23 sıcaklıkta DİKKAT Ksilen (Ksilen Tutuşturucu kaynaklardan iyi havalandırılan bir alanda yanıcı ve son derece toksik iş hem cilt ve gözlerle temasından kaçının) kullanarak ° C 45 sn için örnek geliştirmek. Izopropanol içinde durulayın.

3. Patten Transferi

1. RIE Odası Temizleme - akış argon oranları ve 200 sccm hidrojen ayarlayın. 1 oda basıncı × 10 ^-1 mBar elde etmek için, bir kelebek valfi ile, pompa aşağı Kelebek. RF güç 100 W olarak ayarlayın, plazma tutuşturmak ve en az 10 dakika çalıştırın - yaklaşık 700 V uyulmalıdır bir DC bias. Ar / H ₂ plazma kapatıldıktan sonra, odasında yaklaşık 1 dakika boyunca pompalamak için izin verir. 200 sccm için odasına oksijen akış hızı ayarlayın ve tekrar 1 × 10 ^-1 mBar için oda basıncı kısmak. Ikinci bir plazma Ignite100 W bir enerji ile oksijen ve 5 dakika boyunca çalışır. Bu girişimlerden sonra, odasının herhangi bir önceki kuru etch gelen, örneğin polimer artıkları gibi kirleticiler, ücretsiz olacak. Biz maksimum tekrarlanabilirlik sağlamak için etch tarifi her değişiklikten önce bu yordamı gerçekleştirin. Bu prosedür bir paralel plakalı, katot yüklenen, RIE oluşan sistemimiz için optimize edilmiştir; kısıtlama vanası ve bağlı turbo moleküler pompa hem bir 12 inç noktası dahil yüksekliği 14 inç tarafından çapında bir ana odası 12 inç.
2. Fotonik Kristal Dağlama - RIE ana odasına örnek yüklemek ve aşağı × 10 ^-6 mBar odasına su buharı sağlamak için ücretsiz <3 bir arka plan basınç pompası sistemi. Ön şartlandırma ile aşındırma gazlar (yani CHF ₃ ve SF ₆₎ ile odanın etch başlayın: 100 sccm (yani 1:1 gaz oranını ayarlamak) her iki gazların akış hızını ayarlamak ve gaz kullanarak odasına getirmek 5 × 10 basınç -2 mBar kadar; gazlar en az 10 dakika boyunca akmasına izin verir. O bir oda basıncı sağlarken, yaklaşık 2 dak (bu etch parametreler için silikon etch oranı yaklaşık 150 nm / dak) için etch örnek; pre-condition sonra, yaklaşık 20 W RF gücü ayarlayın ve plazma tutuşturmak 5 x 10 ^-2 mBar korunur. 200-220 V arasındaki DC bias dağlama süresi boyunca elde edilmelidir.
3. Kalan kaldırmak Temizleme örnek elektron duyarlı direnç - kuru dağlama sonra, aseton, ardından 1-2 dakika süreyle ultrasonik karıştırma DİKKAT 1165 Remover (1165 yanıcı ve gözlerde tahrişe neden olabilir, burun ve solunum yollarında) durulayarak örnek temizleyin ve izopropanol gibi (adım 1.2) yukarıda açıklanan.
4. Membran İzolasyon - spin-kat UV duyarlı fotoğrafı ile örnek DİKKAT Microposit S1818 G2 (S1818 G2, burun ve solunum yollarında yanıcı hem de ve gözlerde tahrişe neden olur) (adım 1.3) karşı. Bir appropriat kullanmae Fotoşablonlarda, UV maske hizalama kullanarak fotonik kristal desenler yukarıda direnmeye içinde pencereleri tanımlayabilecek. Yaklaşık 30-45 sn örnek Açığa. Develop 30-45 sn Microposit Geliştirici MF-319 (MF-319, bir alkalin sıvı ve gözlerde tahrişe, burun ve solunum yollarında tahrişe yol olabilir), de-iyonize su daha sonra durulama DİKKAT direnirler. De-iyonize DİKKAT 01:05 Hidroflorik asit (1,1499 g / ml 48-51% HF) (taşıma HF puan tam kişisel koruyucu ekipman kullanımı sırasında HF son derece korozif ve kolayca doku yok) bir karışımı ile bir plastik beher hazırlayın su. Güvenlik nedenlerinden dolayı sadece plastik bardak ve cımbız Hidroflorik asit ile kullanılması gerektiğini unutmayın. 15 dakika için Hidroflorik asit karışımı içinde daldırın örnek. Aşındırma sonra, de-iyonize su ile iyice örnek yıkayın. Bu aşamadan itibaren ve sonrasında ultrasonik ajitasyon kullanılamaz - Kalan aseton ve izopropanol (adım 1.2) kullanarak fotoresist çıkarın. Örnek sağlamak içinmümkün olduğu kadar temiz olduğu, bir DİKKAT Piranha çözüm (Piranha çözüm patlayıcı, çok enerjik ve işleme tam kişisel koruyucu ekipman kullanın, organik maddeler saldırır) (3:1 DİKKAT sülfürik asit (sülfürik durulama ile aseton ve izopropanol yıkama izleyin elleçleme kişisel koruyucu ekipman kullanımı ve buhar veya buğu solunması zaman asit 5 dakika (hidrojen peroksit kullanımı kişisel koruyucu ekipman kullanımı cilt ve göz ile teması halinde,) çok tehlikelidir) hidrojen peroksit DİKKAT için), aşındırıcı ve çok toksiktir , daha sonra deiyonize su, aseton ve izopropanol içinde örnek durulama. Güvenlik nedeniyle sadece cam beher ve metal cımbız Piranha çözeltisi ile kullanılması gerektiğini not edin. Piranha çözelti aseton veya izopropanol ile temas patlayabilir gibi, bu reaktifler uzağa ele alınmalıdır.
5. Façeta yarma - bir fotonik kristal yavaş ışık dalga kılavuzu hazırlanması halinde, numune yüzü yarma gerektirir. Cleave saAdım 1.1 'de tarif edildiği gibi mümkün olduğu kadar küçük bir çizik haricinde aynı prosedür izlenerek mple kullanılmalıdır. ~ 700 mikron kalınlığında substrat ile bir SOI çip güvenilir 4-5 mm uzunluğunda numuneler aşağı parçalanabilen.

4. Fotonik Kristal Yavaş ışık Waveguide Karakterizasyonu

1. 3 dB fiber splitter ve çıkışların her kullanın: - kurulum ön hazırlığı spontane emisyon (ASE) ışık kaynağı (ışın yolu mümkünse kapağı, gereksiz yüksek güçler önlemek görünmez kızılötesi radyasyon) güçlendirilmiş bir DİKKAT genişbant çıkışını Şekil 9'da gösterilen bir serbest alan Mach-Zehnder interferometeter (MZI), iki kolu içine birkaç ışık. Elyaflardan ışık çıkışı paralelleştirmek asferik lensler kullanın. Interferometrenin silah birinde, çift ve örnek çip dışarı ışık demeti için iki ek asferik lens kullanabilirsiniz. TE-Polarize aydınlatabiliriz için örnek kolunda bir polarizasyon ışın ayırıcı (PBS) yerleştirint örnek girerken. Onlar tekrar birleşecek ikinci bir 3 dB fiber splitter, geri her iki koldan çift paralelleştirilmiş çıkış kirişler asferik lensler kullanın. Kızılötesi dedektör çıkışlarından birine bağlayın ve numune içine ışık kavrama maksimize etmek dedektörün okuma kullanmak; optik spektrum analizör (OSA) diğer çıkış bağlayın. MZI iki kolu içinde, lifler, aynı nominal uzunluğu ve izin verecek şekilde kol referans olarak ayarlanabilir bir gecikme aşaması bulunduğundan emin olun: Örnek varlığında zaman MZI iki kolu yaklaşık olarak aynı uzunlukta olması gerekir optik uzunluğu ince ayarı için. Örnek kolda, numune içine iyi kavrama elde etmek xyz hassas aşamalarında üzerine asferik lensleri.
2. Referans kol uzunluğu ayarlayın - çift ışın boş (fotonik kristal olmaksızın) sırt dalga wi (aynı türden erişim bu fotonik kristaller içindeki besleme ışığı dalga kılavuzları gibi)Örnek kolunda aynı çip inceltmek. OSA üzerine sürekli bir tarama çalıştırın ve ölçülen dalgaboyu spektrumu görüyoruz. MZI kolları çok farklı optik uzunlukları (> ~ cm) varsa bu saçaklar görünmez;. MZI iki kolu yaklaşık aynı optik uzunlukta, yapıcı ve yıkıcı girişim nedeniyle spektrumları sergi saçaklar varsa Saçak aralığı iki kol arasındaki optik yol uzunluğu farkı ile ters orantılıdır. Referans kol kısa yapmak ve OSA saçaklar gözlemlemek için gecikme sahne taşıyın: onlar daha yoğun (sparser) olursam, referans koldaki örneklem koluna nazaran (artık) daha kısadır. Referans bir kol 10 nm dalga boyu aralığı içinde yaklaşık 5 ila 10 saçaklar (Şekil 10a bakınız) saçak aralık içinde örnek kol ve sonuçlar daha kısa olduğundan emin olmak için gecikme aşaması ayarlayın. Son olarak, en büyük gecikme sağlayan cihaz bu optimizasyonu ve sonra ölçüm boyunca sabit tutmak gecikmetüm örneklemin.
3. Kalibrasyon çalıştırmak - hala boş dalga üzerine hizalanmış ise, OSA üzerine üç taramaları çalıştırın: girişim spektrumu ve ayrı iki kolun her (diğer kolu bloke ederek elde edilen) bir tarama için bir tarama. 0.05-0.1 nm çözünürlük kullanın. Her ölçülen spektrum kaydedin.
4. Yavaş ışık veri toplama - çalıştırın ve çip üzerindeki her fotonik kristal dalga kılavuzu için adım 4.3 olarak üç spektrumları kaydedebilirsiniz.
5. Fourier veri analizi - girişim spektrumu (interferogram) I (ω) matematiksel ifade edilir:
   I (ω) = S (ω) + R (ω) + sqrt [S (ω) R (ω)] {exp [iΦ (ω) - iωτ] + cc},
   nerede S (ω) ve R (ω) sırasıyla örnek ve referans silah ayrı ölçülen spektral yoğunluğu vardır. Bu gecikme, τ referans kol gecikme aşaması pozisyon ile ayarlanır. Fotonik kristal dalga kılavuzu dispersiyonu bilgi aşama içerdiğiBiz ölçülen veri ayıklamak gerekir terim.
   Çıkart dışı müdahale sadece müdahale vadeli yalıtmak için interferogram arka plan S (ω) + R (ω). Terimi sqrt (SR) exp [i (Φ-ωτ)] ve karmaşık eşlenik t merkezli doruklarına karşılık = τ ve t =-τ sırasıyla:. Fourier müdahale süresinin dönüşümü hesaplayın Sayısal iki terimlerden biridir filtreleme ve frekans geri dönüşümü. Ωτ Δτ _g, iki kolu arasındaki grup gecikmesi de fark elde etmek için ω ile ilgili olarak elde edilen verilerin - faz Φ (ω) ayırt edebilecektir. Grup indeksi n _g v _g = c / v _g, grup hızı, ile verilir:
   n _g = (Δτ _g ^PhC - Δτ _g ^cal) c / L + n _cal,
   Δτ _g ^cal fr alınan kalibrasyon verilerini elde neredeom boş dalga, L fotonik kristal dalga boyu ve n _cal = 2.7 Referans sırtın dalga etkili endeksidir. Kurulum çeşitli optik elementlerden gecikme katkısı kalibrasyon vadede dikkate alınır ve bu nedenle bu adımda çıkarılır.

6. İletim eğrisi - boş dalga bu bir fotonik kristal dalga kılavuzu örnek spektrumu normalleştirerek iletim eğriyi hesaplayabilir.

5. Fotonik Kristal Boşluk Karakterizasyonu

1. Ayar - RS için setup (Şekil 14) hazırlanması içerir: polarizasyon ışın ayırıcı ile değiştirilebilir elemanının anahtarlama; giriş kolunda bir polarize ekleme hem de çıkış kol içinde bir analizör; sonda kol içine bir ayna çevirmek bir yakın kızılötesi kaynak kullanımına izin vermek; numune aydınlatma sağlar. Eksenine 45 ° yönlendirme ile dikey örnek montexyz örnek odaklanma olduğunu ve bir boşluk olarak Şekil 15 (solda), kamera ile görülebilir, böylece mikro engellemek ve mikro-blok ayarlamak tahrikli diferansiyel üzerindeki polarize (Şekil 18). Güçlendirilmiş bir spontan emisyon (ASE) kaynağı, kullanma boşluğu Şekil 15 (sağda) merkezi ile ışını hizalamak. Aydınlatma ayna uzaklıkta ters çevirin ve çıkış kolu spektrometre (ekli array dedektörü ile monokromatör) girmek için izin verir. Kavite zirveleri belirlemek için çözünürlük orta düşük olan geniş bir tarama başlatın. 1 nm doğrulukla ASE tarama (Şekil 16a) içinde rezonans iri dalga edinin. Bu DİKKAT ayarlanabilir lazer kaynağı (TLS) (Şekil 16b) (: Gereksiz yüksek güçler kaçınmak, ışın yolu mümkünse kapağı görünmez kızılötesi radyasyon) ile geniş bir tarama elde etmek de mümkündür. Bir çözüm için en yüksek değere ayarlanmış olduğundan dikkatli olmak zorundadırHer tepe çizgi genişlikleri tadabilirsiniz.
2. Belirlenen tepe üzerinde yüksek çözünürlüklü taramalar gerçekleştirin - giriş koluna TLS bağlanmak ve mW seviyeye ışını zayıflatabilir. Çıkış kolu fotodetektör tarafından toplanan izin veren ve daha önceden bulunmuş rezonans dalga merkezlenmiş 2 nm aralığında 1 pm çözünürlüğe sahip sürekli bir tarama tarama kurarak yüksek çözünürlüklü tarama için hazırlayın. SNR maksimize kadar mikro-blok xyz konumunu değiştirmek ve yeniden çalıştırın tarama: Bu adımın önemini bir Lorentz çizgi şekli rezonans elde etmek amacı ile sinyal-gürültü oranı (SNR) iyileştirmektir temsilci sonuç bölümünde gösterilen ve hat-şekli, bir Lorentzian bu bulunur.

Sonuçlar

Fabricated samples

Figure 1 shows a scanning electron microscope (SEM) image of an exposed and developed pattern in electron beam resist - it is evident from the "clean" edge between the resist and the silicon substrate that complete exposure/development has been accomplished. Exposure of dose test patterns, consisting of simple repeated shapes (in our case 50 × 50 μm squares), each with a differing base dose, are used to determine the correct dose factor and developmen...

Tartışmalar

Örnek fabrikasyon

Elektron ışını (yani ZEP 520A) karşı Bizim seçimi onun aynı zamanda yüksek çözünürlük ve aşındırma direnci nedeniyle. Biz ZEP 520A havai laboratuar ışıkları yayılan UV ışığı tarafından etkilenebilir inanıyorum; gibi biz bir laboratuar diğerine taşırken UV opak kaplarda spin kaplama örnekleri yerleştirmenizi öneririz.

Bu örnek sahne nedeniyle ve vakum odasında değil - fotonik kristal desenini tanımlay...

Malzemeler

Name	Company	Catalog Number	Comments
Acetone	Fisher Scientific	A/0520/17	CAUTION: flammable, use good ventilation and avoid all ignition sources.
Isopropanol	Fisher Scientific	P/7500/15	CAUTION: flammable, use good ventilation and avoid all ignition sources.
Electron Beam resist	Marubeni Europe plc.	ZEP520A	CAUTION: flammable, harmful by inhalation, avoid contact with skin and eyes.
Xylene	Fisher Scientific	X/0100/17	CAUTION: flammable and highly toxic, use good ventilation, avoid all ignition sources, avoid contact with skin and eyes.
Microposit S1818 G2	Chestech Ltd.	10277866	CAUTION: flammable and causes irritation to eyes, nose and respiratory tract.
Microposit Developer MF-319	Chestech Ltd.	10058721	CAUTION: alkaline liquid and can cause irritation to eyes, nose and respiratory tract.
Hydrofluoric Acid	Fisher Scientific	22333-5000	CAUTION: extremely corrosive, readily destroys tissue; handle with full personal protective equipment rated for HF.
Microposit 1165 Remover	Chestech Ltd.	10058734	CAUTION: flammable and causes irritation to eyes, nose and respiratory tract.
Sulphuric Acid	Fisher Scientific	S/9120/PB17	CAUTION: corrosive and very toxic; handle with personal protective equipment and avoid inhalation of vapours or mists.
Hydrogen Peroxide	Fisher Scientific	BPE2633-500	CAUTION: very hazardous in case of skin and eye contact; handle with personal protective equipment.
Equipment
Silicon-on-Insulator wafer	Soitec	G8P-110-01
Diamond Scribe	J M Diamond Tool Inc.	HS-415
Microscope slides	Fisher Scientific	FB58622
Beakers	Fisher Scientific	FB33109
Tweezers	SPI Supplies	PT006-AB
Ultrasonic Bath	Camlab	1161436
Spin-Coater	Electronic Micro Systems Ltd.	EMS 4000
Pipette	Fisher Scientific	FB55343
E-beam Lithography System	Raith Gmbh	Raith 150
Reactive Ion Etching System	Proprietary In-house Designed	--
UV Mask Aligner	Karl Suss	MJB-3
ASE source	Amonics	ALS-CL-15-B-FA	CAUTION: invisible IR radiation.
Single mode fibers	Thorlabs	P1-SMF28E-FC-2
3 dB fiber splitters	Thorlabs	C-WD-AL-50-H-2210-35-FC/FC
Aspheric lenses	New Focus	5720-C
XYZ stages	Melles Griot	17AMB003/MD
Polarizing beamsplitter cube	Thorlabs	PBS104
IR detector	New Focus	2033
100× Objective	Nikon	BD Plan 100x
Oscilloscope	Tektronix	TDS1001B
Optical Spectrum Analyzer	Advantest	Q8384
IR sensor card	Newport	F-IRC2
TLS source	Agilent	81940A	CAUTION: invisible IR radiation.
IR Camera	Electrophysics	7290A
IR Detector	New Focus	2153
Digital Multimeter	Agilent	34401A
Illumination	Stocker Yale	Lite Mite
Monochromator	Spectral Products	DK480
Array Detector	Andor	DU490A-1.7
GIF Fiber	Thorlabs	31L02