كان يؤيد هذا البحث بدون طيار المركبات الأساسية تكنولوجيا البحوث المتقدمة وبرنامج التنمية من خلال دون طيار مركبة متقدمة البحوث مركز (أوفارك) الممولة من وزارة العلوم وتكنولوجيا المعلومات والاتصالات وتخطيط المستقبل، (جمهورية كوريا 2016M1B3A1A01937575)

تحذير : بعض المواد الكيميائية (أي، تنميش أكسيد مخزنة بشكل مؤقت، وكحول الأيزوبروبيل، إلخ) المستخدمة في هذا البروتوكول يمكن أن تكون خطرة على الصحة. الرجاء مراجعة صحائف بيانات السلامة المادية ذات الصلة قبل انعقاد أي تحضير العينة. استخدام معدات الوقاية الشخصية الملائمة (مثلاً، معاطف المعمل، وسلامة النظارات، والقفازات، إلخ)، وهندسة عناصر التحكم (مثل محطة الرطب، الأبخرة هود، إلخ) عند التعامل مع منمشات والمذيبات.
 1-إعداد الركيزة Si <ol><li>قاطع الماس، قطع رقاقة سيليكون (Si) 4 بوصة إلى 2 سم × 2 سم باستخدام الحجم المربعات. جعل العينات الملونة، الركيزة هو عادة قطع 2 سم × 2 سم، ولكن يمكن أن تكون أكبر، تبعاً لحجم صاحب العينة المستخدمة لترسب زاوية مائلة.</li>
	<li>لإزالة أكسيد الأصلية استخدام الدب تترافلوروايثيلين (PTFE)، وتراجع ركائز Si ملصوق في تنميش أكسيد مخزنة (بنك إنجلترا) عن 3 س. تنبيه: يرجى ارتداء الحماية المناسبة لسلامة-</li>
	<li>تنظيف ركائز Si ملصوق التتابع في الأسيتون والكحول الأيزوبروبيل (IPA) والمياه (DI) 3 s كل.
	<ol><li>باستخدام PTFE التنظيف الرقصة، sonicate ركائز Si ملصوق مع الأسيتون في حمام الموجات فوق الصوتية لمدة 3 دقائق على تردد 35 كيلو هرتز-</li>
		<li>لإزالة الأسيتون، شطف ركائز Si ملصوق مع أصد.</li>
		<li>كخطوة أخيرة للتنظيف، شطف ركائز Si ملصوق مع المياه دي-</li>
	</ol></li> <li>لإزالة الرطوبة، جاف الركيزة نظيفة مع بندقية ضربة نيتروجين أثناء الضغط عليه مع الملقط.</li></ol> 2. ترسب من "العاكس الاتحاد الأفريقي" <ol><li>باستخدام الشريط الملقط والكربون، إصلاح ركائز Si تنظيفها على حامل عينة مسطحة ووضع الحامل في دائرة المبخر شعاع الإلكترون مع مصادر منظمة الشفافية الدولية والاتحاد الأفريقي-</li>
	<li>إخلاء غرفة ح 1 للوصول إلى فراغ عالية. يجب أن يكون الضغط قاعدة الدائرة فراغ عربة 4 × 10 -6-</li>
	<li>إيداع طبقة Ti كطبقة التصاق بسمك 10 نانومتر مع 5-7% إلكترون شعاع سلطة التحكم في الوضع اليدوي في جهد DC 7.5 كيلو فولت، مما يعطي معدل ترسيب 1/ثانية 
	ملاحظة: يمكن أن تودع طبقة Cr من نفس سمك، بدلاً من طبقة منظمة الشفافية الدولية، كطبقة الالتصاق.</li>
	<li>إيداع طبقة الاتحاد الأفريقي كطبقة انعكاس لسمك 100 نانومتر مع 13-15% إلكترون شعاع سلطة التحكم في الوضع اليدوي في جهد DC 7.5 كيلو فولت، مما يعطي معدل ترسيب 2/ثانية 
	ملاحظة: يمكن أن يكون سمك طبقة انعكاس الاتحاد الأفريقي أكبر من 100 نانومتر. سمك 100 نانومتر وتودع هنا جعل انعكاس طبقة رقيقة قدر الإمكان مع الحفاظ على الخصائص البصرية للاتحاد الأفريقي-</li>
	التنفيس عن قاعة ترسب طبقة <li>"بعد الاتحاد الأفريقي"، وأخذ العينات. أنها سوف تحتاج إلى أن يكون حصرياً مع صاحب العينة تميل للترسيب زاوية مائلة.</li>
</ol> 3. إعداد "صاحب العينة تميل" "الترسيب زاوية مائلة" ملاحظة: هناك العديد من الطرق التي يمكن استخدامها لترسيب مائل، مثل تدوير محور ع تشاك 16، لكن هذا يتطلب تعديل المعدات والأفلام يمكن فقط أن تودع في زاوية واحدة في وقت واحد. لكفاءة مراقبة التغييرات في الألوان التي تنتجها زوايا مختلفة الترسيب، كنا أصحاب العينة التي تميل العينات في زوايا مختلفة. للدقة، يمكن جعل صاحب العينة يميل استخدام معدات تجهيز المعادن. ومع ذلك، في هذه الورقة، نقدم لك طريقة بسيطة يمكن اتباعها بسهولة-
<ol><li>إعداد لوحة معدنية مصنوعة من معدن انحناء بسهولة مثل الألومنيوم.</li>
	<li>قطع اللوحة المعدنية إلى قطع ثلاثة سم 2 × 5 سم.</li>
	<li>إصلاح قطعة معدنية على الأرض جنبا إلى جنب مع منقلة، عقد الجانب القصير وثني المعدن إلى زاوية ترسب المطلوب (أي و 30 °، 45 ° و 70 درجة)-</li>
	<li>إرفاق القطع المعدنية عازمة على صاحب العينة 4 بوصة باستخدام الشريط الكربون.</li>
</ol> 4. زاوية مائلة ترسب من شركة جنرال الكتريك طبقة ملاحظة: في هذا القسم، يشير إلى التخطيطية في الشكل 1 من العينات التي أودعت في أصحاب العينة يميل، والمليئة بالثغرات جنرال الكتريك الأفلام، عقب المائل زاوية الترسيب.
<ol><li>فيكس العينات الاتحاد الأفريقي أودع أربعة مع الشريط الكربون لصاحب عينة يميل بزاوية 0° 30°، 45° و 70 درجة، على التوالي.</li>
	<li>تحميل العينات أودع الاتحاد الأفريقي على صاحب العينة تميل إلى مبخر شعاع الإلكترون مع مصدر جنرال الكتريك لترسب زاوية مائلة.</li>
	<li>إخلاء غرفة ح 1 للوصول إلى فراغ عالية. يجب أن يكون الضغط قاعدة الدائرة فراغ عربة 4 × 10 -6-</li>
	<li>إيداع طبقة جنرال الكتريك كطبقة تلوين مع 6-8 في المائة طاقة شعاع الإلكترون التحكم في الوضع اليدوي في جهد DC 7.5 كيلو فولت، مما يعطي معدل ترسيب 1 Å/sec. سمك الترسيبات طبقة جنرال الكتريك في العينات الأربع هي 10 نانومتر، 15 نانومتر، 20 نانومتر، و 25 نانومتر، على التوالي. 
	ملاحظة: سمك الترسبات من 10 نانومتر، 15 نانومتر، 20 نانومتر، و 25 نانومتر واختيرت لتيسير مقارنة التغييرات لون لكل زاوية الترسيب. ويمكن اختيار من زاوية مختلفة وسمك (5-60 nm) لتحقيق لون معين.</li>
	<li>ترسب طبقة "بعد جنرال الكتريك"، التنفيس عن الدائرة وأخذ العينات-</li>
</ol> 5. عملية الترسيب زاوية مائلة "مناطق كبيرة" ملاحظة: إذا كان حجم العينة المستخدمة لترسب زاوية مائلة صغيرة، يمكن أن يكون لفقتها عملية مفصلة في الخطوة 4. ومع ذلك، إذا كان حجم العينة لتكون ملفقة كبيرة، يصبح من الصعب المحافظة على اتساق الفيلم بسبب الاختلاف في تدفق التبخر على طول محور "ع" 16. ولذلك، مطلوب عملية إضافية منفصلة، الخطوة 5، اختﻻق عينات أكبر وتحقيق لون موحد.
<ol><li>2 بوصة ويفر، بعد إيداع طبقة الاتحاد الأفريقي على عينة كبيرة في الخطوة 2، إصلاح العينة الكبيرة المودعة من قبل الاتحاد الأفريقي لصاحب العينة يميل 45°. 
	ملاحظة: حيث تم تصميمه لدينا حامل العينة تميل احتواء عينات صغيرة، تحميل عينات كبيرة في جميع الزوايا (أي، 0 °، 30 °، 45 ° و 70 درجة) سيخلق التدخل بين العينات. ولذلك، منحرف إيداع عينات كبيرة الحجم في زوايا مختلفة في عملية واحدة، من الضروري أن يكون حائز يميل عينة مناسبة لعينات كبيرة الحجم-</li>
	<li>تحميل العينة الكبيرة المودعة في الاتحاد الأفريقي على صاحب العينة تميل إلى مبخر شعاع الإلكترون مع مصدر جنرال الكتريك لترسب زاوية مائلة. 
	ملاحظة: عند تحميل النموذج، ترسب الطبقة الثانية يجب أن تكون المودعة في نفس الاتجاه مثل الترسيب الأولى، حتى ملاحظة اتجاه العينة التي تم تحميلها. لمزيد من الراحة، من المستحسن أن صاحب العينة يتم تحميل يواجه الجزء الأمامي قاعة-</li>
	<li>إخلاء غرفة 1 (ح) الوصول إلى فراغ عالية. يجب أن يكون الضغط قاعدة الدائرة فراغ عربة 4 × 10 -6-</li>
	<li>إيداع طبقة جنرال الكتريك كطبقة تلوين لسمك ترسبات من 10 نانومتر، ونصف سمك الهدف 20 نانومتر، 6-8 في المائة من طاقة شعاع الإلكترون التحكم في الوضع اليدوي في جهد DC 7.5 كيلوفولت، الذي يعطي بمعدل ترسيب 1/ثانية</li>
	<li>بعد الانتهاء من ترسب الطبقة الأولى جنرال الكتريك تنفيس الدائرة وإخراج العينة، لأن العينة بحاجة إلى إعادة تحديد موضعها وحصريا-</li>
	<li>إصلاح عينة لصاحب العينة يميل في وضع يمكنها من تحمل رأسا فيما يتعلق بموقف الترسيب الأولى.</li>
	<li>تحميل العينة على صاحب العينة يميل مع مصدر شركة جنرال الكتريك بحيث يواجه الحامل في نفس اتجاه ترسب الأولى.</li>
	<li>إخلاء غرفة ح 1 للوصول إلى فراغ عالية. يجب أن يكون الضغط قاعدة الدائرة فراغ عربة 4 × 10 -6-</li>
	<li>إيداع طبقة جنرال الكتريك كطبقة تلوين لسمك ترسبات من 10 نانومتر، ونصف سمك الهدف 20 نانومتر، 6-8 في المائة من طاقة شعاع الإلكترون التحكم في الوضع اليدوي في جهد DC 7.5 كيلوفولت، الذي يعطي بمعدل ترسيب 1/ثانية</li>
	<li>ترسب طبقة "بعد جنرال الكتريك"، التنفيس عن الدائرة وإخراج العينة.</li>
</ol>

<ol>
	<li>Macleod, H. A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Thin-film+optical+filters.">Thin-film optical filters.</a> Institute of Physics Publishing. 3, (2001).</li><li>Baumeister, P. W. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=.">.</a> Optical Coating Technology. , (2004).</li><li>Kats, M. A., Blanchard, R., Genevet, P., Capasso, F. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanometre+optical+coatings+based+on+strong+interference+effects+in+highly+absorbing+media.">Nanometre optical coatings based on strong interference effects in highly absorbing media.</a> Nat. Mater. 12, 20-24 (2013).</li><li>Kats, M. A., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Ultra-thin+perfect+absorber+employing+a+tunable+phase+change+material.">Ultra-thin perfect absorber employing a tunable phase change material.</a> Appl. Phys. Lett. 101 (22), 221101 (2012).</li><li>Lee, K. T., Seo, S., Lee, J. Y., Guo, L. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Strong+resonance+effect+in+a+lossy+medium-based+Optical+Cavity+for+angle+robust+spectrum+filters.">Strong resonance effect in a lossy medium-based Optical Cavity for angle robust spectrum filters.</a> Adv. Mater. 26 (36), 6324-6328 (2014).</li><li>Song, H., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanocavity+enhancement+for+ultra-thin+film+optical+absorber.">Nanocavity enhancement for ultra-thin film optical absorber.</a> Adv. Mater. 26 (17), 2737-2743 (2014).</li><li>Yoo, Y. J., Lim, J. H., Lee, G. J., Jang, K. I., Song, Y. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Ultra-thin+films+with+highly+absorbent+porous+media+fine-tunable+for+coloration+and+enhanced+color+purity.">Ultra-thin films with highly absorbent porous media fine-tunable for coloration and enhanced color purity.</a> Nanoscale. 9 (9), 2986-2991 (2017).</li><li>Garahan, A., Pilon, L., Yin, J., Saxena, I. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effective+optical+properties+of+absorbing+nanoporous+and+nanocomposite+thin+films.">Effective optical properties of absorbing nanoporous and nanocomposite thin films.</a> J. Appl. Phys. 101 (1), 014320 (2007).</li><li>Moharam, M. G. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Coupled-wave+analysis+of+two-dimensional+dielectric+gratings.">Coupled-wave analysis of two-dimensional dielectric gratings.</a> Proc. SPIE. 883, 8-11 (1988).</li><li>Robbie, K., Sit, J. C., Brett, M. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Advanced+techniques+for+glancing+angle+deposition.">Advanced techniques for glancing angle deposition.</a> J. Vac. Sci. Technol. B. 16 (3), 1115-1122 (1998).</li><li>Hawkeye, M. M., Brett, M. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Glancing+angle+deposition:+Fabrication,+properties,+and+applications+of+micro-+and+nanostructured+thin+films.">Glancing angle deposition: Fabrication, properties, and applications of micro- and nanostructured thin films.</a> J. Vac. Sci. Technol. A. 25 (5), 1317-1335 (2007).</li><li>Jang, S. J., Song, Y. M., Yu, J. S., Yeo, C. I., Lee, Y. T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Antireflective+properties+of+porous+Si+nanocolumnar+structures+with+graded+refractive+index+layers.">Antireflective properties of porous Si nanocolumnar structures with graded refractive index layers.</a> Opt. Lett. 36 (2), 253-255 (2011).</li><li>Jang, S. J., Song, Y. M., Yeo, C. I., Park, C. Y., Lee, Y. T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Highly+tolerant+a-Si+distributed+Bragg+reflector+fabricated+by+oblique+angle+deposition.">Highly tolerant a-Si distributed Bragg reflector fabricated by oblique angle deposition.</a> Opt. Mater. Exp. 1 (3), 451-457 (2011).</li><li>Harris, K. D., Popta, A. C. V., Sit, J. C., Broer, D. J., Brett, M. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=A+Birefringent+and+Transparent+Electrical+Conductor.">A Birefringent and Transparent Electrical Conductor.</a> Adv. Funct. Mater. 18 (15), 2147-2153 (2008).</li><li>Fairman, H. S., Brill, M. H., Hemmendinger, H. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=How+the+CIE+1931+color-matching+functions+were+derived+from+Wright-Guild+data.">How the CIE 1931 color-matching functions were derived from Wright-Guild data.</a> Color Research &amp; Application. 22 (1), 11-23 (1997).</li><li>Oliver, J. B., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Electron-beam&#8211;deposited+distributed+polarization+rotator+for+high-power+laser+applications.">Electron-beam&#8211;deposited distributed polarization rotator for high-power laser applications.</a> Opt. Exp. 22 (20), 23883-23896 (2014).</li></ol>

الكتاب ليس لها علاقة بالكشف عن.

في الطلاء رقيقة التقليدية لتلوين3،4،،من56، يمكن التحكم اللون بتغيير مواد مختلفة وضبط السمك. ويقتصر اختيار المواد مع الانكسار مختلفة لضبط الألوان المختلفة. لتخفيف هذا القيد، يمكننا استغلال ترسب زاوية مائلة إلى طلاء لون ...

بشكل عام، أداء غشاء رقيق الطلاء الضوئية يستند إلى نوع التدخل البصرية التي تنتجها، مثل انعكاس عالية أو انتقال. في عازلة رقيقة-الأفلام، يمكن الحصول على التداخل الضوئي بمجرد استيفاء الشروط مثل سمك ربع الموجه (λ/4n). وقد استخدمت منذ فترة طويلة مبادئ التدخل في مختلف التطبيقات البصرية مثل التداخل فابري-بيرو والموزعة براج عاكسات1،2. وفي السنوات الأخيرة، درس رقيقة هياكل باستخدام مواد ماصة جداً مثل الفلزات وأشباه الموصلات وقد تم على نطاق واسع3،4،،من56. يمكن الحصول على التدخل بصرية قوية بغشاء رقيق طلاء مادة ماصة أشباه الموصلات في فيلم معدنية، والتي تنتج تغيرات المرحلة غير تافهة في الأمواج المنعكسة. يسمح هذا النوع من هيكل الطلاء رقيقة جداً وأرق كثيرا من عازل غشاء رقيق الطلاء.
في الآونة الأخيرة، قمنا بدراسة سبل تحسين ألواح الألوان ونقاء اللون من أفلام رقيقة جداً ماصة مسامية7باستخدام. عن طريق التحكم المسامية للفيلم المودعة، يمكن الانكسار الفعلي المتوسط غشاء رقيق تغير8. يسمح هذا التغيير في الانكسار فعالة الخصائص الضوئية تحسينها. استناداً إلى هذا الغرض، قمنا بتصميم الأفلام اللون رقيقة جداً مع سمك مختلفة ومساميه بالعمليات الحسابية باستخدام موجه إلى جانب صرامة التحليل (ركوا)9. لدينا تصميم يعرض الألوان مع سمك الفيلم مختلفة في كل المسامية7.
استخدمنا أسلوب بسيط، ترسب زاوية مائلة، لمراقبة التسلل الطلاء غشاء رقيق جداً ماصة. تقنية ترسب زاوية مائلة يجمع أساسا نظام ترسيب نموذجية، كمبخر شعاع الإلكترون أو المبخر الحراري، مع الركازة إمالة10. زاوية مائلة للتمويه الحادث يقوم التظليل الذري، التي تنتج المناطق أن تدفق بخار لا يمكن الوصول مباشرة إلى11. تقنية ترسب زاوية مائلة وقد استخدمت على نطاق واسع في طلاء غشاء رقيق مختلف التطبيقات12،،من1314.
في هذا العمل، نحن بالتفصيل العمليات لاختلاق الأفلام اللون رقيقة جداً بترسب المائلة باستخدام مبخر شعاع إلكترون. أيضا، يتم عرض طرق إضافية لتجهيز منطقة كبيرة بشكل منفصل. بالإضافة إلى خطوات عملية، يتم شرح بعض الملاحظات التي ينبغي أن تؤخذ في الاعتبار أثناء عملية التصنيع بالتفصيل.
نحن أيضا باستعراض عمليات قياس الانعكاس عينات ملفقة وتحويلها إلى معلومات اللون للتحليل، حيث أن أعربوا في إحداثيات الألوان CIE و قيم RGB15. وعلاوة على ذلك، تناقش بعض القضايا للنظر في عملية تصنيع الأفلام اللون رقيقة جداً.

<table><tbody><tr><td>&amp;nbsp;KVE-2004L</td><td>Korea Vacuum Tech. Ltd.</td><td></td><td>E-beam evaporator system</td></tr><tr><td>Cary 500</td><td>Varian, USA</td><td></td><td>UV-Vis-NIR spectrophotometer</td></tr><tr><td>T1-H-10</td><td>Elma</td><td></td><td>Ultrasonic bath</td></tr><tr><td>HSD150-03P</td><td>Misung Scientific Co., Ltd</td><td></td><td>Hot plate</td></tr><tr><td>Isopropyl Alcohol (IPA)</td><td>OCI Company Ltd.</td><td></td><td>Isopropyl Alcohol (IPA)</td></tr><tr><td>Buffered Oxide Etch 6:1</td><td>Avantor</td><td></td><td>Buffered Oxide Etch 6:1</td></tr><tr><td>Acetone</td><td>OCI Company Ltd.</td><td></td><td>Acetone</td></tr><tr><td>4 inch Silicon Wafer</td><td>Hi-Solar Co., Ltd.</td><td></td><td>4 inch Silicon Wafer (P-100, 1 - 20 ohm.cm, Single side polished, Thickness: 440 &amp;plusmn; 20 &amp;mu;m)</td></tr><tr><td>2 inch Silicon Wafer</td><td>Hi-Solar Co., Ltd.</td><td></td><td>2 inch Silicon Wafer (P-100, 1 - 20 ohm.cm, Single side polished, Thickness: 440 &amp;plusmn; 20 &amp;mu;m)</td></tr></tbody></table>

fabrication of ultra-thin color films with highly absorbing media using oblique angle deposition

هياكل فائقة رقيقة وقد درست على نطاق واسع لاستخدامها كطلاء بصري، ولكن ما زالت هناك تحديات الأداء وتلفيق.  نحن نقدم طريقة متقدمة لاختلاق الأفلام اللون رقيقة جداً مع خصائص محسنة. العملية المقترحة تتناول عدة قضايا التصنيع، بما في ذلك تجهيز مساحة كبيرة. على وجه التحديد، يصف البروتوكول عملية لاختلاق الأفلام اللون رقيقة جداً استخدام مبخر شعاع إلكترون زاوية مائلة ترسيب الجرمانيوم (Ge) والذهب (الاتحاد الأفريقي) على ركائز السيليكون (Si).  مسامية الأفلام التي تنتجها ترسب زاوية مائلة الحث على تغييرات اللون في الفيلم رقيقة جداً. درجة تغير اللون يعتمد على عوامل مثل سمك الترسبات زاوية والفيلم. اختلقت عينات الأفلام اللون رقيقة جداً وأظهرت ألواح ألوان محسنة ونقاء اللون. وباﻹضافة إلى ذلك، تحويلها إلى قيم وني الانعكاس قياس العينات ملفقة وتحليلها من حيث اللون. فيلم رقيقة جداً اختﻻق الأسلوب المتوقع لاستخدامها لمختلف التطبيقات فائقة رقيقة مثل أقطاب لون مرنة، وخلايا شمسية رقيقة، والمرشحات الضوئية. أيضا، عملية وضع هنا لتحليل لون العينات ملفقة مفيد على نطاق واسع لدراسة مختلف اللون البنى.

يبين الشكل 2 ألف الصور عينات 2 سم × 2 سم ملفقة. العينات كانت ملفقة حتى أن الأفلام قد سمك مختلفة (أي10 نانومتر، 15 نانومتر، 20 نانومتر، و 25 نانومتر) وأودعت في زوايا مختلفة (أي، 0 °، 30 °، 45 ° و 70 درجة). لون التغييرات الأفلام المودعة اعتماداً على المزيج من كلا سمك العينات وزاو?...

Watch this Scientific Journal Video about Fabrication of Ultra-thin Color Films with Highly Absorbing Media Using Oblique Angle Deposition at JoVE.com

Fabrication of Ultra-thin Color Films with Highly Absorbing Media Using Oblique Angle Deposition

تصنيع الأفلام اللون رقيقة جداً مع الغاية استيعاب وسائل الإعلام استخدام الترسيب زاوية مائلة

نحن نقدم طريقة مفصلة لاختلاق الأفلام اللون رقيقة جداً مع خصائص محسنة للطلاء الضوئية. تسمح تقنية ترسب زاوية مائلة باستخدام مبخر شعاع إلكترون ألواح ألوان محسنة والنقاء. أفلام ملفقة من شركة جنرال الكتريك والاتحاد الأفريقي على ركائز Si حللت بقياسات الانعكاس وتحويل معلومات اللون.

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present ...

fabrication-ultra-thin-color-films-with-highly-absorbing-media-using

Research

JoVE Journal

Engineering

8.2K Views.  Gwangju Institute of Science and Technology. نحن نقدم طريقة مفصلة لاختلاق الأفلام اللون رقيقة جداً مع خصائص محسنة للطلاء الضوئية. تسمح تقنية ترسب زاوية مائلة باستخدام مبخر شعاع إلكترون ألواح ألوان محسنة والنقاء. أفلام ملفقة من شركة جنرال الكتريك والاتحاد الأفريقي على ركائز Si حللت بقياسات الانعكاس وتحويل ...

Video: Fabrication of Ultra-thin Color Films with Highly Absorbing Media Using Oblique Angle Deposition

Fabrication of Nano-engineered Transparent Conducting Oxides by Pulsed Laser Deposition

Nanosecond Pulsed Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas allows the deposition of metal oxides with tunable morphology, structure, density and stoichiometry by a proper control of the plasma plume expansion dynamics. Such versatility can be exploited to produce nanostructured films from compact and dense to nanoporous characterized by a hierarchical assembly of nano-sized clusters. In particular we describe the detailed methodology to fabricate two types of Al-doped ZnO (AZO) films as transparent electrodes in photovoltaic devices: 1) at low O2 pressure, compact films with electrical conductivity and optical transparency close to the state of the art transparent conducting oxides (TCO) can be deposited at room temperature, to be compatible with thermally sensitive materials such as polymers used in organic photovoltaics (OPVs); 2) highly light scattering hierarchical structures resembling a forest of nano-trees are produced at higher pressures. Such structures show high Haze factor (&gt;80%) and may be exploited to enhance the light trapping capability. The method here described for AZO films can be applied to other metal oxides relevant for technological applications such as TiO2, Al2O3, WO3 and Ag4O4.

We describe the experimental method to deposit nanostructured oxide thin films by nanosecond Pulsed Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas. By using this method Al-doped ZnO (AZO) films, from compact to hierarchically structured as nano-tree forests, can be deposited.

تلفيق نانو هندسيا إجراء أكاسيد شفافة من ترسب الليزر النبضي

Nanosecond Pulsed  Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas allows the deposition  of metal oxides with tunable morphology, structure, ...

Fabrication of Spatially Confined Complex Oxides

Complex materials such as high Tc superconductors, multiferroics, and colossal magnetoresistors have electronic and magnetic properties that arise from the inherent strong electron correlations that reside within them. These materials can also possess electronic phase separation in which regions of vastly different resistive and magnetic behavior can coexist within a single crystal alloy material. By reducing the scale of these materials to length scales at and below the inherent size of the electronic domains, novel behaviors can be exposed. Because of this and the fact that spin-charge-lattice-orbital order parameters each involve correlation lengths, spatially reducing these materials for transport measurements is a critical step in understanding the fundamental physics that drives complex behaviors. These materials also offer great potential to become the next generation of electronic devices 1-3. Thus, the fabrication of low dimensional nano- or micro-structures is extremely important to achieve new functionality. This involves multiple controllable processes from high quality thin film growth to accurate electronic property characterization. Here, we present fabrication protocols of high quality microstructures for complex oxide manganite devices. Detailed descriptions and required equipment of thin film growth, photo-lithography, and wire-bonding are presented.

We describe the use of pulsed laser deposition (PLD), photolithography and wire-bonding techniques to create micrometer scale complex oxides devices. The PLD is utilized to grow epitaxial thin films. Photolithography and wire-bonding techniques are introduced to create practical devices for measurement purposes.

تلفيق من أكاسيد مجمع المحصورة مكانيا

Complex materials such as high Tc superconductors, multiferroics, and colossal magnetoresistors have electronic and magnetic properties that arise from ...

Fabrication of Large-area Free-standing Ultrathin Polymer Films

This procedure describes a method for the fabrication of large-area and ultrathin free-standing polymer films. Typically, ultrathin films are prepared using either sacrificial layers, which may damage the film or affect its mechanical properties, or they are made on freshly cleaved mica, a substrate that is difficult to scale. Further, the size of ultrathin film is typically limited to a few square millimeters. In this method, we modify a surface with a polyelectrolyte that alters the strength of adhesion between polymer and deposition substrate. The polyelectrolyte can be shown to remain on the wafer using spectroscopy, and a treated wafer can be used to produce multiple films, indicating that at best minimal amounts of the polyelectrolyte are added to the film. The process has thus far been shown to be limited in scalability only by the size of the coating equipment, and is expected to be readily scalable to industrial processes. In this study, the protocol for making the solutions, preparing the deposition surface, and producing the films is described.

We describe a method for the fabrication of large-area (up to 13 cm diameter) and ultrathin (as thin as 8 nm) polymer films. Instead of using a sacrificial interlayer to delaminate the film from its substrate, we use a self-limiting surface treatment suitable for arbitrarily large areas.

تلفيق منطقة كبيرة قائمة بذاتها سامسونج بوليمر أفلام

This procedure describes a method for the fabrication of large-area and ultrathin free-standing polymer films.  Typically, ultrathin films are prepared ...

Chemistry

Formation of Thick Dense Yttrium Iron Garnet Films Using Aerosol Deposition

Aerosol deposition (AD) is a thick-film deposition process that can produce layers up to several hundred micrometers thick with densities greater than 95% of the bulk. The primary advantage of AD is that the deposition takes place entirely at ambient temperature; thereby enabling film growth in material systems with disparate melting temperatures. This report describes in detail the processing steps for preparing the powder and for performing AD using the custom-built system. Representative characterization results are presented from scanning electron microscopy, profilometry, and ferromagnetic resonance for films grown in this system. As a representative overview of the capabilities of the system, focus is given to a sample produced following the described protocol and system setup. Results indicate that this system can successfully deposit 11 &#181;m thick yttrium iron garnet films that are &#160;&#62; 90% of the bulk density during a single 5 min deposition run. A discussion of methods to afford better control of the aerosol and particle selection for improved thickness and roughness variations in the film is provided.

This report describes the use of a custom-built system to perform aerosol deposition of thick films of yttrium iron garnet onto sapphire substrates at RT. The deposited films are characterized using scanning electron microscopy, profilometry, and ferromagnetic resonance to give a representative overview of the capabilities of the technique.

تشكيل سميكة الكثيفة الإيتريوم الحديد العقيق أفلام عن طريق الهباء ترسب

Aerosol deposition (AD) is a thick-film deposition process that can produce layers up to several hundred micrometers thick with densities greater than 95% ...

Printing Fabrication of Bulk Heterojunction Solar Cells and In Situ Morphology Characterization

Polymer-based materials hold promise as low-cost, flexible efficient photovoltaic devices. Most laboratory efforts to achieve high performance devices have used devices prepared by spin coating, a process that is not amenable to large-scale fabrication. This mismatch in device fabrication makes it difficult to translate quantitative results obtained in the laboratory to the commercial level, making optimization difficult. Using a mini-slot die coater, this mismatch can be resolved by translating the commercial process to the laboratory and characterizing the structure formation in the active layer of the device in real time and in situ as films are coated onto a substrate. The evolution of the morphology was characterized under different conditions, allowing us to propose a mechanism by which the structures form and grow. This mini-slot die coater offers a simple, convenient, material efficient route by which the morphology in the active layer can be optimized under industrially relevant conditions. The goal of this protocol is to show experimental details of how a solar cell device is fabricated using a mini-slot die coater and technical details of running in situ structure characterization using the mini-slot die coater.

Printing Fabrication of Bulk Heterojunction Solar Cells and In Situ Morphology Characterization

Here, we present a protocol to fabricate organic thin film solar cells using a mini-slot die coater and related in-line structure characterizations using synchrotron scattering techniques.

الطباعة تصنيع السائبة متغاير الخلايا الشمسية و<em&gt; في الموقع</em&gt; الصرف توصيف

Polymer-based materials hold promise as low-cost, flexible efficient photovoltaic devices. Most laboratory efforts to achieve high performance devices ...

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two chalcogenide compositions are demonstrated: Ge23Sb7S70 and As40S60, which have both been studied extensively for planar mid-infrared (mid-IR) microphotonic devices. In this approach, uniform thickness films are fabricated through the use of computer numerical controlled (CNC) motion. Chalcogenide glass (ChG) is written over the substrate by a single nozzle along a serpentine path. Films were subjected to a series of heat treatments between 100 &#176;C and 200 &#176;C under vacuum to drive off residual solvent and densify the films. Based on transmission Fourier transform infrared (FTIR) spectroscopy and surface roughness measurements, both compositions were found to be suitable for the fabrication of planar devices operating in the mid-IR region. Residual solvent removal was found to be much quicker for the As40S60 film as compared to Ge23Sb7S70. Based on the advantages of electrospray, direct printing of a gradient refractive index (GRIN) mid-IR transparent coating is envisioned, given the difference in refractive index of the two compositions in this study.

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

A method of uniform thickness solution-derived chalcogenide glass film deposition is demonstrated using computer numerical controlled motion of a single-nozzle electrospray.

Electrospray ترسب الموحد سمك قه<sub&gt; 23</sub&gt; بينالي الشارقة<sub&gt; 7</sub&gt; S<sub&gt; 70</sub&gt; وكما<sub&gt; 40</sub&gt; S<sub&gt; 60</sub&gt; اعتماد chalcogenide زجاج أفلام

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two ...

Fabricating Reactive Surfaces with Brush-like and Crosslinked Films of Azlactone-Functionalized Block Co-Polymers

In this paper, fabrication methods that generate novel surfaces using the azlactone-based block co-polymer, poly (glycidyl methacrylate)-block-poly (vinyl dimethyl azlactone) (PGMA-b-PVDMA), are presented. Due to the high reactivity of azlactone groups towards amine, thiol, and hydroxyl groups, PGMA-b-PVDMA surfaces can be modified with secondary molecules to create chemically or biologically functionalized interfaces for a variety of applications. Previous reports of patterned PGMA-b-PVDMA interfaces have used traditional top-down patterning techniques that generate non-uniform films and poorly controlled background chemistries. Here, we describe customized patterning techniques that enable precise deposition of highly uniform PGMA-b-PVDMA films in backgrounds that are chemically inert or that have biomolecule-repellent properties. Importantly, these methods are designed to deposit PGMA-b-PVDMA films in a manner that completely preserves azlactone functionality through each processing step. Patterned films show well-controlled thicknesses that correspond to polymer brushes (~90 nm) or to highly crosslinked structures (~1-10 &#956;m). Brush patterns are generated using either the parylene lift-off or interface directed assembly methods described and are useful for precise modulation of overall chemical surface reactivity by adjusting either the PGMA-b-PVDMA pattern density or the length of the VDMA block. In contrast, the thick, crosslinked PGMA-b-PVDMA patterns are obtained using a customized micro-contact printing technique and offer the benefit of higher loading or capture of secondary material due to higher surface area to volume ratios. Detailed experimental steps, critical film characterizations, and trouble-shooting guides for each fabrication method are discussed.

Surface fabrication methods for patterned deposition of nanometer thick brushes or micron thick, crosslinked films of an azlactone block co-polymer are reported. Critical experimental steps, representative results, and limitations of each method are discussed. These methods are useful for creating functional interfaces with tailored physical features and tunable surface reactivity.

اختﻻق السطوح المتفاعلة مع مثل الفرشاة وأفلام كروسلينكيد فونكتيوناليزيد أزلاكتوني كتلة المشارك البوليمرات

In this paper, fabrication methods that generate novel surfaces using the azlactone-based block co-polymer, poly (glycidyl methacrylate)-block-poly (vinyl ...

Bulk and Thin Film Synthesis of Compositionally Variant Entropy-stabilized Oxides

Here, we present a procedure for the synthesis of bulk and thin film multicomponent (Mg0.25(1-x)CoxNi0.25(1-x)Cu0.25(1-x)Zn0.25(1-x))O (Co variant) and (Mg0.25(1-x)Co0.25(1-x)Ni0.25(1-x)CuxZn0.25(1-x))O (Cu variant) entropy-stabilized oxides. Phase pure and chemically homogeneous (Mg0.25(1-x)CoxNi0.25(1-x)Cu0.25(1-x)Zn0.25(1-x))O (x = 0.20, 0.27, 0.33) and (Mg0.25(1-x)Co0.25(1-x)Ni0.25(1-x)CuxZn0.25(1-x))O (x = 0.11, 0.27) ceramic pellets are synthesized and used in the deposition of ultra-high quality, phase pure, single crystalline thin films of the target stoichiometry. A detailed methodology for the deposition of smooth, chemically homogeneous, entropy-stabilized oxide thin films by pulsed laser deposition on (001)-oriented MgO substrates is described. The phase and crystallinity of bulk and thin film materials are confirmed using X-ray diffraction. Composition and chemical homogeneity are confirmed by X-ray photoelectron spectroscopy and energy dispersive X-ray spectroscopy. The surface topography of thin films is measured with scanning probe microscopy. The synthesis of high quality, single crystalline, entropy-stabilized oxide thin films enables the study of interface, size, strain, and disorder effects on the properties in this new class of highly disordered oxide materials.

The synthesis of high quality bulk and thin film (Mg0.25(1-x)CoxNi0.25(1-x)Cu0.25(1-x)Zn0.25(1-x))O and (Mg0.25(1-x)Co0.25(1-x)Ni0.25(1-x)CuxZn0.25(1-x))O entropy-stabilized oxides is presented.

السائبة وتوليف رقيقة أكاسيد استقرت الانتروبيا شكل تركيبي البديل

Here, we present a procedure for the synthesis of bulk and thin film multicomponent (Mg0.25(1-x)CoxNi0.25(1-x)Cu0.25(1-x)Zn0.25(1-x))O (Co variant) and ...

Procedure for the Transfer of Polymer Films Onto Porous Substrates with Minimized Defects

The fabrication of devices containing thin film composite membranes necessitates the transfer of these films onto the surfaces of arbitrary support substrates. Accomplishing this transfer in a highly controlled, mechanized, and reproducible manner can eliminate the creation of macroscale defect structures (e.g., tears, cracks, and wrinkles) within the thin film that compromise device performance and the usable area per sample. Here, we describe a general protocol for the highly controlled and mechanized transfer of a polymeric thin film onto an arbitrary porous support substrate for eventual use as a water filtration membrane device. Specifically, we fabricate a block copolymer (BCP) thin film on top of a sacrificial, water-soluble poly(acrylic acid) (PAA) layer and silicon wafer substrate. We then utilize a custom-designed, 3D-printed transfer tool and drain chamber system to deposit, lift-off, and transfer the BCP thin film onto the center of a porous anodized aluminum oxide (AAO) support disc. The transferred BCP thin film is shown to be consistently placed onto the center of the support surface due to the guidance of the meniscus formed between the water and the 3D-printed plastic drain chamber. We also compare our mechanized transfer-processed thin films to those that have been transferred by hand with the use of tweezers. Optical inspection and image analysis of the transferred thin films from the mechanized process confirm that little-to-no macroscale inhomogeneities or plastic deformations are produced, as compared to the multitude of tears and wrinkles produced from manual transfer by hand. Our results suggest that the proposed strategy for thin film transfer can reduce defects when compared to other methods across many systems and applications.

We present a procedure for highly controlled and wrinkle-free transfer of block copolymer thin films onto porous support substrates using a 3D-printed drain chamber. The drain chamber design is of general relevance to all procedures involving transfer of macromolecular films onto porous substrates, which is normally done by hand in an irreproducible fashion.

إجراءات نقل أفلام البوليمر إلى ركائز مسامية مع عيوب أقل

The fabrication of devices containing thin film composite membranes necessitates the transfer of these films onto the surfaces of arbitrary support ...

Development of Efficient OLEDs from Solution Deposition

The use of highly efficient organic emitters based on the thermally activated delayed fluorescence (TADF) concept is interesting due to their 100% internal quantum efficiency. Presented here is a solution deposition method for the fabrication of efficient organic light-emitting diodes (OLEDs) based on a TADF emitter in a simple device structure. This fast, low-cost, and efficient process can be used for all OLED emissive layers that follow the host-guest concept. The fundamental steps are described along with necessary information for further reproduction. The goal to establish a general protocol that can be easily adapted for principal organic emitters currently under study and development.

Presented here is a protocol for the fabrication of efficient, simple, solution-deposited organic light-emitting diodes with low roll-off.

تصنيع الأفلام اللون رقيقة جداً مع الغاية استيعاب وسائل الإعلام استخدام الترسيب زاوية مائلة

Summary

Explore More Videos

Chapters in this video