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用畸变校正扫描透射电镜进行单数字纳米电子束光刻

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10:25 min

September 14th, 2018

DOI :

10.3791/58272-v

September 14th, 2018


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Title

1:03

Sample Preparation for Resist Coating

2:27

Load Sample in STEM, Map Window Coordinates, and Perform High-Resolution Focusing

4:54

Expose Patterns Using an Aberration-Corrected STEM Equipped with a Pattern Generator System

6:44

Resist Development and Critical Point Drying

8:09

Results: Nanometer-Scale Lithographic Patterns in HSQ and PMMA (Positive and Negative Tone)

9:14

Conclusion

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