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U2O5 Film Vorbereitung über UO2 Ablagerung von Gleichstrom-Sputtern und aufeinanderfolgenden Oxidation und Reduktion mit atomarem Sauerstoff und atomarer Wasserstoff

7.9K Views

12:05 min

February 21st, 2019

DOI :

10.3791/59017-v

February 21st, 2019


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