液体環境におけるパルスUVレーザー照射によるシリコン表面の濡れ性の選択エリア変更

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08:48 min

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November 9th, 2015

DOI :

10.3791/52720-v

November 9th, 2015

•

Neng Liu¹, Khalid Moumanis¹, Jan J. Dubowski¹

¹Laboratory for Quantum Semiconductors and Photon-based BioNanotechnology, Interdisciplinary Institute for Technological Innovation, Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes (LN2)- CNRS UMI-3463, Faculty of Engineering, Université de Sherbrooke

要約

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この動画の章

0:05

Title

1:24

Sample Preparation

2:16

Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment

3:18

Immobilization of Bio-conjugated Nanospheres

3:56

Contact Angle Measurement

5:05

XPS Measurement

5:52

Results: Pulsed UV Laser Irradiation Increases SiOH Surface Concentration

7:10

Conclusion

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